JP5015500B2 - 高熱伝導性の炭素材料及びその製造方法 - Google Patents

高熱伝導性の炭素材料及びその製造方法 Download PDF

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Description

本発明は、高熱伝導を有する炭素材料に関するものであり、ヒートシンク、熱交換機、イオン注入用部品、連続鋳造部材等に用いられる材料として優れた特性を示すものである。
熱伝導を有する炭素材料においては、本発明者は高熱伝導黒鉛の製造方法を既に開示している(下記特許文献1参照)。また、高熱伝導を有する炭素材料については、炭化珪素等を添加した黒鉛−セラミックス複合材が以前より提案されている(例えば、下記特許文献2、3)。
他にも、下記特許文献4では、炭素質微粒子とセラミックス微粒子に助剤成分を加えて撹拌、混合し、更に造粒材を加えて造粒体としているものが開示されている。また、下記特許文献5では、タール・ピッチ類にセラミックスを添加して撹拌し、加熱処理後、溶剤を使用して抽出、ろ過操作により、セラミックスを含む炭素質粉末を得た後に成形、黒鉛化処理することで耐酸化性に優れた炭素材が開示されている。
特開2005−179140号公報 特開平2−192412号公報 特開平6−100366号公報 特開2000−226264号 特開昭62−256762号
しかしながら、これは等方性黒鉛として高い熱伝導特性を有するが、骨材であるコークス粒度の選定、得られる黒鉛の高密度化(かさ密度1.85以上)が必要であった。また、黒鉛は優れた熱伝導性を有するが、その値は銅−タングステン、銅−モリブデン相当の180ワット付近にとどまっている。
また、特許文献2、3のものは、骨材に自己焼結性を有するメソフェーズ小球体を用いるものであり、有機溶媒を加えてスラリー化し、ボールミルで湿式粉砕して微粒子化し、さらに有機溶媒を除去するという複雑な工程を必要としていた。
特許文献4、5では、すべて添加したセラミックスが分解、蒸発しないよう残存させて、機械的強度の向上や耐酸化性を付与するのが目的であり、最終工程も2400℃以下で熱処理しなければならず、高熱伝導黒鉛として適正な熱的、電気的性質を与えることが困難であった。用途においても、セラミックス粉末として炭化ホウ素を添加するため、得られた炭素−セラミックス複合材は半導体工業では使用できないなど用途を大きく制約する原因になっていた。なお、特許文献4では、さらに、複数の組成物同士の混合時に乾燥状態を保持しなければならないという問題もある。
本発明は、低密度であっても高熱伝導性を示す炭素材料、及び、この炭素材料を容易に得るための製造方法を提供することを目的とする。
課題を解決するための手段及び効果
(1)本発明は、下記(A)〜(C)の特性を有する高熱伝導性の炭素材料である。なお、ここでの炭素材料とは、黒鉛材料、炭素繊維強化炭素複合材料、及び熱分解炭素等を含んだものである。
(A)かさ密度が1.65Mg/m以上。
(B)X、Y、Z軸方向の平均熱伝導率が180W/(m・K)以上。
(C)水銀による細孔分布測定において、細孔半径が0.01μm以上、1.0μm以下の累積細孔容積をV、細孔半径が1.0μmより大きい部分の累積細孔容積をVとしたとき、V≧2Vである。
上記(1)の構成により、低密度であってもアルミニウムに匹敵するほどの高熱伝導性を示す炭素材料を提供できる。
(2)本発明の炭素材料においては、固有抵抗が8.0μΩ・m以下であることが好ましい。これにより、固有抵抗が低い炭素材料を提供でき、例えば、銅または銅合金における連続鋳造装置の黒鉛ダイスの使用にも適している。
(3)本発明の炭素材料においては、熱伝導率が等方性を示すことが好ましい。これにより、熱伝導の均一性を確保できた炭素材料を提供できる。本願でいう熱伝導率が等方性とは、異方比が1.2以下であるものをいい、ここで異方比が1.2以下とは、炭素材料における前述のX,Y,Z軸方向の熱伝導率のうち、最も大きな値と最も小さな値の比が1.2以下であることを意味する。
(4)本発明の高熱伝導性の炭素材料の製造方法は、骨材と結合材とを混捏、粉砕して成形粉を得る第1工程と、前記第1工程で得た成形粉に炭化物を添加して混合した後、この混合したものを成形して、成形体を得る第2工程と、前記炭化物を分解する温度以上で、前記第2工程で得た成形体を熱処理する第3工程とを有し、前記熱処理が、前記第2工程で得た成形体を焼成した後に、ピッチ含浸、焼成を1回以上繰り返す処理を含み、前記熱処理の温度が2500℃以上である。ここで、前記炭化物の添加量は前記第1工程で得た成形粉に対して外掛け1.0部以上20部以下であることが好ましい。これにより、加工性の良い炭素材料とすることができる。
(5)本発明の高熱伝導性の炭素材料の製造方法は、骨材と結合材と炭化物とを混捏、粉砕して成形粉を得る第1工程と、前記第1工程で得た成形粉を成形して、成形体を得る第2工程と、前記炭化物を分解する温度以上で、前第2工程で得た成形体を熱処理する第3工程とを有し、前記熱処理が、前記第2工程で得た成形体を焼成した後に、ピッチ含浸、焼成を1回以上繰り返す処理を含み、前記熱処理の温度が2500℃以上である。ここで、前記炭化物は、1.0部以上15部以下であることが好ましい。これにより、加工性の良い炭素材料とすることができる。
(6)本発明の(4)および(5)の高熱伝導性の炭素材料の製造方法は、前記熱処理が、前記第2工程で得た成形体を焼成した後に、ピッチ含浸、焼成を1回以上繰り返すが、2回以上繰り返す処理を含むことが好ましい。ここでは、また、前記炭化物としては、炭化珪素、炭化バナジウム、炭化モリブデン、炭化タングステン、炭化トリウム、炭化ニオブなどが使用できるが、比較的安価で容易に入手できることなどから、炭化珪素であることが好ましい。さらに、熱処理温度が2500℃以上であると炭化珪素の分解が促進されるので、第3工程においては、2500℃以上で熱処理されることが好ましい。
上記(4)、(5)、(6)の構成により、容易に上記(1)の高熱伝導性の炭素材料を得ることができる。また、この効果の現れるメカニズムは明確ではないが、第3工程において、2500℃以上で熱処理されると、炭化珪素中の炭素や含浸されたピッチ、およびそれらの反応物が第2工程で得られた成形体の気孔に例えば熱分解炭素として堆積(充填)されるのではないかと考える。
次に、本発明の実施形態に係る高熱伝導性の炭素材料、及び、その製造方法について説明する。
(原料)
骨材としては、仮焼コークス、生コークスは石炭系、石油系を問わず、平均粒径100μm以下に粉砕したものを用いる。メソフェーズ小球体も生コークス粉同様に使用可能で、メソフェーズ小球体のまま使用しても良いし、これを粉砕して使用しても良い。また、人造黒鉛あるいは天然の黒鉛粉末(100μm以下)、炭素繊維を添加して使用しても良い。結合材は、硬ピッチ、中ピッチどちらでも良いし、これをタール等で希釈して使用しても良い。
(炭化珪素粉)
炭化珪素粉は市販されているものが使用でき、できるだけ炭化珪素の純度は高いことが望ましく、含有率98%以上、更には99%以上が好ましい。また、炭化珪素粉の粒径としては、平均粒径100μm以下のものが好ましく、粒径10〜80μmがさらに好ましく、粒径20〜60μmが特に好ましい。粒径が100μm以上だと、得られる素材の熱伝導の均一性が失われるため好ましくない。
(混捏、成形)
骨材と結合材とを混捏、粉砕して成形粉を得る。成形粉は粒径100μm以下に粉砕する。成形粉の粒径は20〜80μmが好ましく、粒径30〜60μmがさらに好ましい。粒径が100μm以上だと、得られる素材の面粗さが粗くなる。但し、骨材にニードルコークスを使用し、粒径60μmのような大きさで使用する場合は、成形粉の粒径は骨材の2倍程度とすることが好ましい。
(炭化珪素粉の添加方法)
炭化珪素粉の添加方法としては、上述の骨材と結合材とを混捏後、粉砕して得た成形粉に炭化珪素粉を添加混合する。炭化珪素粉の添加量は、混捏後粉砕した成形粉に外掛け1.0部以上20部以下とすることが好ましい。また、成形粉に対して添加混合するのではなく、上述の骨材と結合材に炭化珪素粉を添加して混捏後、粉砕して成形粉としてもよい。そのときの炭化珪素粉の添加量は、骨材と結合材と炭化珪素粉を合わせた100部に対して、内掛け1.0部以上15部以下とすることが好ましい。炭化珪素粉の添加量が多すぎると、黒鉛材料の加工に影響をあたえるため、必要とする特性に応じて炭化珪素の粒径、添加量は適切に選択する。
(成形体の作製)
成形体は、上述の炭化珪素粉が添加された成形粉を300〜1000kg/cm程度で加圧することによって成形され、作製される。加圧成形には、冷間等方圧プレス(Cold Isostatic Pressing:CIP)成形などを用いる。CIP成形は、乾式法、湿式法のどちらでもよい。なお、成形体を持ち上げたり、運搬したりするのに支障がない程度の成形体強度があれば良い。
(熱処理(成形体の焼成およびピッチ含浸、焼成))
上述のようにして得られた成形体の焼成は800℃から1300℃で行う。成形体を焼成後、必要とする密度に応じてピッチ含浸を行った上で焼成を行う。成形、焼成後に、ピッチ含浸及び焼成の工程を1回以上行うが、2回以上行うのが更に好ましい。
(熱処理(2500℃以上の熱処理))
熱処理は2500℃以上の温度で行うことで、炭化珪素中の炭素や含浸されたピッチ、およびそれらの反応物が、成形体の気孔に例えば熱分解炭素として堆積(充填)されるのではないかと考える。また、熱処理温度が高いほど、黒鉛中の炭化珪素含有率は低下し、2800〜3000℃で熱処理した場合は何も添加せずに製造される一般の黒鉛と灰分量は同等である。2600〜2800℃付近では灰分量は炭化珪素添加量にしたがって多くなる。2600〜2800℃近辺で熱処理したものに高い熱伝導率を示すものが多いが、灰分中の炭化珪素含有量が多いと黒鉛の加工に影響をあたえるため、必要とする特性に応じて炭化珪素の添加量は適切に選択する。
炭化珪素を添加した本発明の黒鉛では熱処理により細孔半径1.0μm以下での細孔の生成が顕著で、累積細孔容積の増加が著しく、例えば、後述の実施例での図2に示すような特異な細孔分布図を呈する。発明者はこの特異な細孔分布と高熱伝導性の発現が対応することを見出したのである。炭化珪素を添加しない場合はコークスの粉砕粒子径に対応した特定の細孔半径(通常は1μm以上)で急激な累積細孔容積の立ち上がりが認められ、それ以下の細孔半径においては累積細孔容積の増大は限られている。
本実施形態によれば、骨材コークスの選択の必要性が小さく、低密度であってもアルミニウムに匹敵するほどの高熱伝導性を示す黒鉛材料を提供できる。また、高価で難黒鉛化性のメソフェーズ小球体を必ずしも用いなくともよく、通常の黒鉛製造で用いられる仮焼コークス(石炭系、石油系を問わない)、生コークス(石炭系、石油系を問わない)を用いることができる。さらに、コークス等骨材の一次粒子の粒子径、炭化珪素の粒子径、炭化珪素の添加量、ピッチ含浸回数、熱処理温度の選択により高熱伝導性を制御することが可能である。また、有機溶媒の添加やボールミルでの湿式粉砕を必要とすることも無く、従来の黒鉛製造工程で使用される粉砕、混合設備やピッチ含浸設備をそのまま利用できるという利点がある
次に、実施例により本発明を具体的に説明する。
(実施例1)
モザイクコークス(真密度2.00g/cm)を平均粒径17μmに粉砕し、この粉体100部に対してコールタールピッチを61部加えてニーダーで混捏した後、これを平均粒径40μmに粉砕して成形粉を得た。この成形粉100部に信越電気精錬(株)製のシナノランダム(粒度#4000、平均粒子径3μm)を4部混合し、CIP成形(700kg/cmの静水圧)によって成形体を得た。成形体を焼成炉で約900℃で焼成した後、ピッチ含浸及び焼成を1回行い、さらに約2900℃で熱処理を行って、実施例1に係る黒鉛材料を得た。
(実施例2)
モザイクコークス(真密度2.00g/cm)を平均粒径17μmに粉砕し、この粉体100部に対してコールタールピッチを61部加えてニーダーで混捏した後、これを平均粒径40μmに粉砕して成形粉を得た。この成形粉100部に信越電気精錬(株)製のシナノランダム(粒度#4000、平均粒子径3μm)を4部混合し、CIP成形(700kg/cmの静水圧)によって成形体を得た。成形体を焼成炉で約900℃で焼成した後、ピッチ含浸及び焼成を2回行い、さらに約2900℃で熱処理を行って、実施例2に係る黒鉛材料を得た。
(実施例3)
モザイクコークス(真密度2.00g/cm)を平均粒径17μmに粉砕し、この粉体100部に対してコールタールピッチを61部加えてニーダーで混捏した後、これを平均粒径40μmに粉砕して成形粉を得た。この成形粉100部に信越電気精錬(株)製のシナノランダム(粒度#4000、平均粒子径3μm)を10部混合し、CIP成形(700kg/cmの静水圧)によって成形体を得た。成形体を焼成炉で約900℃で焼成した後、ピッチ含浸及び焼成を2回行い、さらに約2900℃で熱処理を行って、実施例3に係る黒鉛材料を得た。
(実施例4)
モザイクコークス(真密度2.00g/cm)を平均粒径17μmに粉砕し、この粉体100部に対してコールタールピッチを61部加えてニーダーで混捏した後、これを平均粒径40μmに粉砕して成形粉を得た。この成形粉100部に信越電気精錬(株)製のシナノランダム(粒度#4000、平均粒子径3μm)を15部混合し、CIP成形(700kg/cmの静水圧)によって成形体を得た。成形体を焼成炉で約900℃で焼成した後、ピッチ含浸及び焼成を2回行い、さらに約2900℃で熱処理を行って、実施例4に係る黒鉛材料を得た。
(実施例5)
モザイクコークス(真密度2.00g/cm)を平均粒径20μmに粉砕し、この粉体100部に対してコールタールピッチを58部加えてニーダーで混捏した後、これを平均粒径50μmに粉砕して成形粉を得た。この成形粉100部に信越電気精錬(株)製のシナノランダム(粒度#4000、平均粒子径3μm)を4部添加して混合し、CIP成形(700kg/cmの静水圧)によって成形体を成形した。こうして得られた成形体を焼成炉において約900℃で焼成した後、ピッチ含浸及び焼成を1回行い、さらに約2900℃で熱処理を行って、実施例5に係る黒鉛材料を得た。
(実施例6)
モザイクコークス(真密度2.00g/cm)を平均粒径20μmに粉砕し、この粉体100部に対してコールタールピッチを50部加えてニーダーで混捏した後、これを平均粒径50μmに粉砕して成形粉を得た。この成形粉100部に信越電気精錬(株)製のシナノランダム(粒度#1500、平均粒子径8μm)を4部添加して混合し、CIP成形(700kg/cmの静水圧)によって成形体を成形した。こうして得られた成形体を焼成炉において約900℃で焼成した後、ピッチ含浸及び焼成を2回行い、さらに約3000℃で熱処理を行って、実施例6に係る黒鉛材料を得た。
(実施例7)
モザイクコークス(真密度2.00g/cm)を平均粒径13μmに粉砕し、この粉体100部に対してコールタールピッチを58部加えてニーダーで混捏した後、これを平均粒径40μmに粉砕して成形粉を得た。この成形粉100部に信越電気精錬(株)製のシナノランダム(粒度#500、平均粒子径26μm)を9部添加して混合し、CIP成形(700kg/cmの静水圧)にて成形体を成形した。こうして得られた成形体を焼成炉において約900℃で焼成した後、ピッチ含浸及び焼成を2回行い、さらに約2800℃で熱処理を行って、実施例7に係る黒鉛材料を得た。
(実施例8)
ニードルコークス(真密度2.14g/cm)を平均粒径60μmに粉砕し、この粉体100部に対してコールタールピッチを62部加えてニーダーで混捏した後、これを平均粒径120μmに粉砕して成形粉を得た。この成形粉100部に信越電気精錬(株)製のシナノランダム(粒度#8000、平均粒子径1μm)を10部添加して混合し、CIP成形(700kg/cmの静水圧)にて成形体を成形した。こうして得られた成形体を焼成炉において約900℃で焼成した後、ピッチ含浸及び焼成を2回行い、さらに約2800℃で熱処理を行って、実施例8に係る黒鉛材料を得た。
(実施例9)
モザイクコークス(真密度2.00g/cm)を平均粒径13μmに粉砕し、この粉体100部に対してコールタールピッチを58部加えてニーダーで混捏した後、これを平均粒径40μmに粉砕して成形粉を得た。この成形粉100部に信越電気精錬(株)製のシナノランダム(粒度#1500、平均粒子径8μm)を4部添加して混合し、CIP成形(700kg/cmの静水圧)によって成形体を成形した。こうして得られた成形体を焼成炉において約900℃で焼成した後、ピッチ含浸及び焼成を2回行い、さらに約2600℃で熱処理を行って、実施例9に係る黒鉛材料を得た。
(実施例10)
ニードルコークス(真密度2.14g/cm)を平均粒径60μmに粉砕し、この粉体100部に対してコールタールピッチを62部加えてニーダーで混捏した後、これを平均粒径120μmに粉砕して成形粉を得た。この成形粉100部に信越電気精錬(株)製のシナノランダム(粒度#8000、平均粒子径1μm)を4部添加して混合し、CIP成形(700kg/cmの静水圧)にて成形体を成形した。こうして得られた成形体を焼成炉において約900℃で焼成した後、ピッチ含浸及び焼成を2回行い、さらに約3000℃で熱処理を行って、実施例10に係る黒鉛材料を得た。
(実施例11)
モザイクコークス(真密度2.00g/cm)を平均粒径20μmに粉砕し、この粉体100部に対してコールタールピッチを58部加えてニーダーで混捏した後、これを平均粒径50μmに粉砕して成形粉を得た。この成形粉100部に信越電気精錬(株)製のシナノランダム(粒度#240、平均粒子径55μm)を6.5部添加して混合し、CIP成形(700kg/cmの静水圧)によって成形体を成形した。こうして得られた成形体を焼成炉において約900℃で焼成した後、ピッチ含浸及び焼成を2回行い、さらに約2700℃で熱処理を行って、実施例11に係る黒鉛材料を得た。
(実施例12)
モザイクコークス(真密度2.00g/cm)を平均粒径13μmに粉砕し、この粉体100部に対してコールタールピッチを58部加えてニーダーで混捏した後、これを平均粒径40μmに粉砕して成形粉を得た。この成形粉100部に信越電気精錬(株)製のシナノランダム(粒度#500、平均粒子径26μm)を9部添加して混合し、CIP成形(700kg/cmの静水圧)にて成形体を成形した。こうして得られた成形体を焼成炉において約900℃で焼成した後、ピッチ含浸及び焼成を2回行い、さらに約2500℃で熱処理を行って、実施例12に係る黒鉛材料を得た。
(実施例13)
モザイクコークス(真密度2.00g/cm)を平均粒径13μmに粉砕し、この粉体100部に対してコールタールピッチを58部加えてニーダーで混捏した後、これを平均粒径40μmに粉砕して成形粉を得た。この成形粉100部に信越電気精錬(株)製のシナノランダム(粒度#500、平均粒子径26μm)を15部添加して混合し、CIP成形(700kg/cmの静水圧)にて成形体を成形した。こうして得られた成形体を焼成炉において約900℃で焼成した後、ピッチ含浸及び焼成を2回行い、さらに約2800℃で熱処理を行って、実施例13に係る黒鉛材料を得た。
(実施例14)
ファインモザイクコークス(真密度2.00g/cm)を平均粒径10μmに粉砕し、この粉体100部に対してコールタールピッチを61部加えてニーダーで混捏した後、これを平均粒径30μmに粉砕して成形粉を得た。この成形粉100部に信越電気精錬(株)製のシナノランダム(粒度#4000、平均粒子径3μm)を10部添加して混合し、CIP成形(700kg/cmの静水圧)にて成形体を成形した。こうして得られた成形体を焼成炉において約900℃で焼成した後、ピッチ含浸及び焼成を2回行い、さらに約3000℃で熱処理を行って、実施例14に係る黒鉛材料を得た。
(比較例1)
ファインモザイクコークス(真密度2.00g/cm)を平均粒径13μmに粉砕し、この粉体100部に対してコールタールピッチを60部加えてニーダーで混捏した後、これを平均粒径40μmに粉砕して成形粉を得た。この成形粉からCIP成形(700kg/cmの静水圧)によって成形体を成形した。こうして得られた成形体を焼成炉において約900℃で焼成した後、ピッチ含浸及び焼成を1回行い、さらに約2900℃で熱処理を行って、比較例1に係る黒鉛材料を得た。
(比較例2)
ファインモザイクコークス(真密度2.00g/cm)を平均粒径17μmに粉砕し、この粉体100部に対してコールタールピッチを58部加えてニーダーで混捏した後、これを平均粒径50μmに粉砕して成形粉を得た。この成形粉100部に信越電気精錬(株)のシナノランダム(粒度#4000、平均粒子径3μm)を4部混合し、CIP成形(700kg/cmの静水圧)によって成形体を成形した。成形体を焼成炉において約900℃で焼成した後、ピッチ含浸及び焼成を行うことなく、約2900℃で熱処理を行って、比較例2に係る黒鉛材料を得た。
(比較例3)
ニードルコークス(真密度2.14g/cm)を平均粒径60μmに粉砕し、この粉体100部に対してコールタールピッチを62部加えてニーダーで混捏した後、これを平均粒径120μmに粉砕して成形粉を得た。これをCIP成形(800kg/cmの静水圧)にて成形体を成形した。こうして得られた成形体を焼成炉において約900℃で焼成した後、ピッチ含浸及び焼成を2回行って、焼成体を得た。さらに熱処理を約2800℃で行って、比較例3に係る黒鉛材料を得た。
(比較例4)
大和田カーボン工業(株)より押出し黒鉛材(OP−4800N)を入手し、比較例4に係る黒鉛材料とした。
(比較例5)
モザイクコークス(真密度2.00g/cm)を平均粒径13μmに粉砕し、この粉体100部に対してコールタールピッチを58部加えてニーダーで混捏した後、これを平均粒径40μmに粉砕して成形粉を得た。この成形粉100部に信越電気精錬(株)製のシナノランダム(粒度#500、平均粒子径26μm)を9部添加して混合し、CIP成形(700kg/cmの静水圧)にて成形体を成形した。こうして得られた成形体を焼成炉において約900℃で焼成した後、ピッチ含浸及び焼成を2回行い、さらに約2400℃で熱処理を行って、比較例5に係る黒鉛材料を得た。
上記各実施例及び各比較例で得られた黒鉛材料について、それぞれ、かさ密度、熱伝導率、固有抵抗、灰分を測定した。これらの結果を下記表1にまとめた。なお、熱伝導率は、各実施例及び各比較例の黒鉛材料を図1に示すような形状の黒鉛ブロック1と同様のものに統一し、この黒鉛ブロック1のX、Y、Z軸方向の熱伝導率を測定して、これらの平均値とした(黒鉛ブロックを成形するときの鉛直方向をZ軸とする。)熱伝導率は、JIS R1611−1997に準じ、熱伝導率=熱拡散率×比熱容量×かさ密度 の式により求めた。黒鉛材料から、形状φ10×3mmに試料を作成し、ULVAC製、レーザーフラッシュ法熱定数測定装置(TC−7000UVH)にて熱拡散率を測定し、比熱容量は、「新・炭素材料入門(炭素材料学会編) 第45頁 表−1 黒鉛の熱力学的諸関数」から求めた。熱伝導率の異方比は、黒鉛材料における前述のX,Y,Z軸方向の熱伝導率のうち、最も大きな値と最も小さな値の比としている。また、かさ密度は、JIS R7222−1997に準じて求めた。固有抵抗は、JIS R7222−1997に準じて求めた。灰分はJIS R7273−1997に準じて求めた。
Figure 0005015500
表1の各実施例より、本発明に係る黒鉛材料は、炭化珪素の添加により熱伝導率が180W/m・K〜240W/m・K、固有抵抗が4.9μΩ・m〜8.0μΩ・mとなっていることがわかる。比較例1〜3および5の等方性黒鉛材料および比較例4の押出し黒鉛材料では、熱伝導率が128〜177W/m・K、固有抵抗が6.5μΩ・m〜11.2μΩ・mとなっており、本発明に係る実施例の黒鉛材料に比べ、明らかに劣ることがわかる。
次に、上述の実施例2、実施例5、実施例10、実施例12、比較例1、比較例2、比較例4、比較例5で得られた黒鉛材料について、水銀圧入法により細孔分布測定を行った。実施例2、実施例5、実施例10、実施例12、比較例1、比較例2、比較例4、比較例5における細孔分布測定の結果を示すグラフを図2〜9に順に示す。図2〜9は、横軸(細孔半径)が片対数のグラフであり、縦軸は累積細孔容積である。なお、最大圧力は108MPaまで加圧し、細孔半径は、水銀ポロシメーターの水銀印加圧力からワッシュバーンの式により求めた。ワッシュバーンの式は、r=−2δcosθ/Pで示され、ここで、r:細孔の半径、δ:水銀の表面張力(480dyne/cm)、θ:接触角(本発明では、141.3°を使用)、P:圧力、である。
また、上述の実施例2、実施例5、実施例10、実施例12、比較例1、比較例2、比較例4、比較例5について、細孔半径が0.01μm以上、1.0μm以下の累積細孔容積V、細孔半径が1.0μmより大きい部分の累積細孔容積V、及び、これらの比V/Vを表2に示す。例えば、図2のグラフでは、細孔半径が1μmの累積細孔容積は18.67mm/g、細孔半径が0.01μmの累積細孔容積は113.54mm/gなので、細孔半径が0.01μm以上、1.0μm以下の累積細孔容積Vは、113.54−18.67=94.87mm/g、細孔半径が1.0μmより大きい部分の累積細孔容積Vは、18.67mm/gとなり、これらの比V/Vは、94.87/18.67=5.1(小数点以下2桁目を四捨五入)となる。
Figure 0005015500
図6(比較例1)のグラフから、炭化珪素が添加されない等方性黒鉛材料は、細孔半径1μm前後で累積細孔容積の大きな立ち上がりがあり、それより小さい細孔半径による累積細孔容積は非常に小さいことがわかる。
図7(比較例2)のグラフから、成形品を焼成した後、ピッチ含浸及び焼成を行うことなく黒鉛化して得られた等方性黒鉛材料は、細孔半径1μm前後で一度累積細孔容積が立ち上がり、それからなだらかな累積細孔容積の増大を示している。しかし、累積細孔容積の比V/Vは1.7である。
また、図8(比較例4)のグラフから、累積細孔容積の立ち上がりは10μm以下で起こっていて、そこから累積容積が漸増していることがわかる。これは、比較例4に係る黒鉛材料の構成粒子が数十μmから数mmであり、ピッチ含浸、焼成を繰り返して製造されているためであると考えられる。また、図8(比較例4)のグラフから、1μm以下の細孔容積の増加は限られていることがわかる。これは、細孔がピッチ含浸、焼成によって均一に充填される結果、細孔容積の増大を示すためであると考えられる。
比較例5は、実施例12の黒鉛化温度だけを変えて、2500℃よりも低い温度で黒鉛化したものであるが、図9(比較例5)のグラフから、累積細孔容積の立ち上がりは1〜2μmで起こっていることがわかる。また、累積細孔容積の比V/Vは0.7である。
これら比較例1、2、4、5の結果に対して、実施例2、5、10、12に係る図2〜5から、等方性黒鉛のように特定の細孔半径で累積細孔容積の急激な立ち上がりがないことがわかる。また、表2から、実施例2、5、10、12の黒鉛材料は、V≧2Vとなっていることがわかる。これは、比較例4のような押出し材とは異なり、1μm以下の細孔で累積容積が漸増するためであると考えられる。
なお、本発明は、特許請求の範囲を逸脱しない範囲で設計変更できるものであり、上記実施形態や実施例に限定されるものではない。
各実施例及び各比較例の黒鉛材料における熱伝導率の測定方法を説明するために用いる図である。 実施例2で得た黒鉛材料における細孔分布測定グラフである。 実施例5で得た黒鉛材料における細孔分布測定グラフである。 実施例10で得た黒鉛材料における細孔分布測定グラフである。 実施例12で得た黒鉛材料における細孔分布測定グラフである。 比較例1で得た黒鉛材料における細孔分布測定グラフである。 比較例2で得た黒鉛材料における細孔分布測定グラフである。 比較例4で得た黒鉛材料における細孔分布測定グラフである。 比較例5で得た黒鉛材料における細孔分布測定グラフである。
符号の説明
1 黒鉛ブロック

Claims (8)

  1. 下記(A)〜(C)の特性を有する高熱伝導性の炭素材料。
    (A)かさ密度が1.65Mg/m以上。
    (B)X、Y、Z軸方向の平均熱伝導率が180W/(m・K)以上。
    (C)水銀による細孔分布測定において、細孔半径が0.01μm以上、1.0μm以下の累積細孔容積をV、細孔半径が1.0μmより大きい部分の累積細孔容積をVとしたとき、V≧2Vである。
  2. 固有抵抗が8.0μΩ・m以下であることを特徴とする請求項1記載の炭素材料。
  3. 熱伝導率が等方性を示すことを特徴とする請求項1又は2に記載の炭素材料。
  4. 骨材と結合材とを混捏、粉砕して成形粉を得る第1工程と、
    前記第1工程で得た成形粉に炭化物を添加して混合した後、この混合したものを成形して、成形体を得る第2工程と、
    前記炭化物を分解する温度以上で、前記第2工程で得た成形体を熱処理する第3工程とを有し
    前記熱処理が、前記第2工程で得た成形体を焼成した後に、ピッチ含浸、焼成を1回以上繰り返す処理を含み、
    前記熱処理の温度が2500℃以上であることを特徴とする高熱伝導性の炭素材料の製造方法。
  5. 前記炭化物の添加量が、前記第1工程で得た成形粉に対して外掛け1.0部以上20部以下であることを特徴とする請求項4に記載の炭素材料の製造方法。
  6. 骨材と結合材と炭化物とを混捏、粉砕して成形粉を得る第1工程と、
    前記第1工程で得た成形粉を成形して、成形体を得る第2工程と、
    前記炭化物を分解する温度以上で、前第2工程で得た成形体を熱処理する第3工程とを有し
    前記熱処理が、前記第2工程で得た成形体を焼成した後に、ピッチ含浸、焼成を1回以上繰り返す処理を含み、
    前記熱処理の温度が2500℃以上であることを特徴とする高熱伝導性の炭素材料の製造方法。
  7. 前記炭化物の添加量が、1.0部以上15部以下であることを特徴とする請求項6に記載の炭素材料の製造方法。
  8. 前記炭化物が、炭化珪素、炭化バナジウム、炭化モリブデン、炭化タングステン、炭化トリウム、又は、炭化ニオブであることを特徴とする請求項4乃至に記載の炭素材料の製造方法。
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