JP5003346B2 - 参照電圧生成回路及び参照電圧分配方法 - Google Patents
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Description
特許文献1に記載された差動出力ドライバでは、集積回路チップ内の1箇所に定電流発生回路が設けられ、同定電流発生回路から同チップ内の各ドライバへ参照電流が分配されて差動出力段が制御される。この場合、定電流発生回路から出力される参照電流が第1のカレントミラー回路に入力され、同第1のカレントミラー回路の出力電流が第2のカレントミラー回路に入力され、同第2のカレントミラー回路の出力電流が上記差動出力段に流れる。
すなわち、特許文献1に記載された差動出力ドライバでは、第2のカレントミラー回路の出力電流が差動出力段に流れるので、この発明とは、ハード構成が異なる。
この例のLSI11は、同図に示すように、クロックドライバ12,12,…,12と、配線13,13,…,13と、クロック配線14と、定電流発生回路15とを有している。各クロックドライバ12は、LSI11内に分散配置され、所定の参照電圧が印加された状態で所定の動作を行う電子回路であり、特に、この実施例では、たとえばCMLなどの非飽和型論理回路で構成され、同CMLは、同参照電圧が印加されて所定の定電流が流れる図示しない定電流源と、同定電流源から流れる定電流により非飽和領域で動作する図示しないトランジスタとを有している。
この定電流発生回路15は、同図2に示すように、バンドギャップリファレンス(BGRef)21と、オペアンプ22と、pMOS(pチャネル型MOSトランジスタ)231 ,232 ,…,23n (n−1;クロックドライバ12と同数)と、バイアス回路(BIAS)24と、pMOS251 ,252 ,…,25n と、リファレンス抵抗26とから構成されている。pMOS252 ,…,25n のドレインには、図1中の各配線13が接続されている。この定電流発生回路15では、バンドギャップリファレンス21により、周囲の温度変化に対して安定で高精度の基準電圧vrが発生する。そして、リファレンス抵抗26で電流量が規定されて発生した検出電圧vdがオペアンプ22にフィードバックされて基準電圧vrと比較され、pMOS231 ,232 ,…,23n は、同オペアンプ22によりゲート電圧が制御されて飽和領域で動作する。また、pMOS251 ,252 ,…,25n は、バイアス回路24によりゲート電圧が制御されて飽和領域で動作する。これにより、定電流性が高められ、pMOS232 ,…,23n の温度特性の変化の影響が出力側(すなわち、pMOS252 ,…,25n のドレイン)に伝わりにくくなり、各定電流IREFが安定して出力される。
このクロックドライバ12は、同図3に示すように、nMOS(nチャネル型MOSトランジスタ)31,32と、抵抗33,34と、nMOS35,36とから構成されている。このクロックドライバ12では、ダイオード接続されたnMOS36に定電流発生回路15から配線13を介して定電流IREFが供給され、同定電流IREFが参照電圧VREFに変換される。そして、nMOS35のゲート電極に参照電圧VREFが印加されて定電流が流れ、nMOS31,32は、この定電流により非飽和領域で動作する。nMOS31のゲート電極に入力電圧viが与えられ、かつnMOS32のゲート電極に基準電圧vgが与えられたとき、同入力電圧viが基準電圧vgより高ければ、nMOS31のドレイン電極から出力電圧vjが出力される。なお、上記定電流発生回路15、配線13及びnMOS36により、参照電圧生成回路が構成されている。
この参照電圧生成回路では、定電流発生回路15により、参照電圧VREFに変換するための定電流IREFが各クロックドライバ12毎に発生して各配線13を介して分配され、各定電流IREFが同各クロックドライバ12の内部のダイオード接続されたnMOS36(電流/電圧変換回路)で参照電圧VREFに変換されて当該クロックドライバ12のnMOS35(定電流源)のゲート電極に分配されて印加される。そして、nMOS35には所定の定電流が流れ、nMOS31,32が非飽和領域で動作する。
たとえば、上記実施例では、図1中の各クロック配線14がH−tree型に形成されているが、クロック配線の形状は任意で良い。また、各クロックドライバ12の出力側に各クロック配線14を介して接続されている各フリップフロップは、上記実施例ではLSI11の内部領域に設けられているが、I/O領域に設けられていても良い。また、各配線13の設計は、抵抗値の上限が設定されていれば、CADなどのツールを使った自動配線に限らず、人手による設計でも良い。
12,12,…,12 クロックドライバ(電子回路)
13,13,…,13 配線
14 クロック配線
15 定電流発生回路
21 バンドギャップリファレンス(BGRef)(電流制御手段の一部)
22 オペアンプ(電流制御手段の一部)
231 pMOS(pチャネル型MOSトランジスタ)(電流制御手段の一部)
232 ,…,23n pMOS(電流出力部の一部、第1のトランジスタ)
24 バイアス回路(BIAS)(電流制御手段の一部)
251 pMOS(電流制御手段の一部)
252 ,…,25n pMOS(電流出力部の一部、第1のトランジスタ)
26 リファレンス抵抗(電流制御手段の一部)
31,32 nMOS(nチャネル型MOSトランジスタ)(非飽和型論理回路の一部、第2のトランジスタ)
33,34 抵抗(非飽和型論理回路の一部)
35 nMOS(定電流源)
36 nMOS(電流/電圧変換回路)
Claims (3)
- 所定の参照電圧が印加されて所定の定電流が流れる定電流源と、該定電流源から流れる前記定電流により非飽和領域で動作する第1のトランジスタとを有する非飽和型論理回路で構成されて集積回路内又は回路基板内に分散配置された複数の電子回路に対し、前記各参照電圧を生成して印加する参照電圧生成回路であって、
前記各参照電圧に変換するための定電流を前記各電子回路毎に出力する複数の電流出力部を有し、前記各電流出力部は、電流を出力するための第2のトランジスタ、及び、該第2のトランジスタを飽和領域で動作させることにより、該第2のトランジスタから出力される前記電流を前記定電流に制御する電流制御手段を有する定電流発生回路と、
前記各電子回路の近傍又は内部にそれぞれ配置されていると共に、前記定電流発生回路の前記各電流出力部と各配線を介して接続され、前記定電流発生回路で発生した前記各定電流を前記各参照電圧に変換して前記各電子回路に印加する複数の電流/電圧変換回路とから構成され、
前記各配線の抵抗値の上限は、前記各第2のトランジスタが前記飽和領域で動作する範囲内に設定されていることを特徴とする参照電圧生成回路。 - 前記集積回路内又は回路基板内には、複数の順序回路が設けられ、
前記非飽和型論理回路は、
前記定電流源に前記所定の定電流が流れる状態で所定のクロック配線を介して前記各順序回路にクロックを供給する構成とされていることを特徴とする請求項1記載の参照電圧生成回路。 - 所定の参照電圧が印加されて所定の定電流が流れる定電流源と、該定電流源から流れる前記定電流により非飽和領域で動作する第1のトランジスタとを有する非飽和型論理回路で構成されて集積回路内又は回路基板内に分散配置された複数の電子回路に対し、前記各参照電圧を生成して分配する参照電圧分配方法であって、
前記各参照電圧に変換するための定電流を前記各電子回路毎に出力する複数の電流出力部を有し、前記各電流出力部は、電流を出力するための第2のトランジスタ、及び、該第2のトランジスタを飽和領域で動作させることにより、該第2のトランジスタから出力される前記電流を前記定電流に制御する電流制御手段を有する定電流発生回路と、
前記各電子回路の近傍又は内部にそれぞれ配置されていると共に、前記定電流発生回路の前記各電流出力部と各配線を介して接続された複数の電流/電圧変換回路とを設け、
前記各電流/電圧変換回路が、前記定電流発生回路で発生した前記各定電流を前記各参照電圧に変換して前記各電子回路に印加し、
前記各配線の抵抗値の上限を、前記各第2のトランジスタが前記飽和領域で動作する範囲内に設定することを特徴とする参照電圧分配方法。
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