JP5003346B2 - 参照電圧生成回路及び参照電圧分配方法 - Google Patents

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Description

この発明は、参照電圧生成回路及び参照電圧分配方法に係り、たとえば、多数のフリップフロップを有するLSI(Large Scale Integrated circuit、大規模集積回路)などに設けられ、同各フリップフロップにクロックを供給する非飽和型論理回路(CML、Current Mode Logic、又は、ECL、Emitter Coupled Logic )に含まれる定電流源に印加するための参照電圧を生成する場合に用いて好適な参照電圧生成回路及び参照電圧分配方法に関する。
多数のフリップフロップを有するLSIでは、同各フリップフロップに分配供給されるクロックのタイミングのずれ(クロックスキュー)による同各フリップフロップの誤動作を防止する必要がある。この場合、図4に示すように、LSI1の外部の図示しないクロック供給源から2分木方式によるクロック配線2を介して図示しない各フリップフロップへクロックが供給され、クロック遅延が等しくなることにより、クロックスキューが零となる。また、SerDes(Serialization/Deserialization 、サーデス)など、高速シリアル伝送では、高い周波数のクロックを必要とし、かつ、クロックのエッジのぶれ(クロックジッタ)が伝送のエラーレートに大きく影響するため、近年では、電源ノイズの影響を受けにくく、小振幅で高速動作が可能なMOSトランジスタで構成されたCML回路又はECL回路がクロックドライバとして用いられている。
CML回路又はECL回路は、参照電圧を必要とするアナログ回路であるが、LSIチップ内の広範囲にわたる領域で、このような参照電圧を必要とするアナログ回路をクロックドライバとして用いて各フリップフロップにクロックを分配供給する場合、同参照電圧を始めから電圧モードで分配すると、周辺からのクロストークや、回路自身から発生するノイズの影響を受けやすいという問題点がある他、LSI内部の動作プロセス上のばらつきや、参照電圧の同LSI内での勾配に対応できないという問題点がある。また、上記ノイズの影響を抑制する場合、強固なシールド配線が必要となるため、参照電圧を分配するためのハード構成の占有面積が大きくなるという問題点がある。
また、各クロックドライバに、レプリカ回路及びオペアンプで構成された帰還回路を設けて参照電圧を生成することが考えられ、この場合、LSI内部の動作のばらつきがキャンセル可能になり、参照電圧の分配範囲も狭くできることから、周辺からのノイズなどの影響が少なくなることが期待できるが、各クロック信号ドライバに帰還回路を設ける必要があり、占有面積が大きくなるという問題点がある。また、独立した帰還回路のループがLSIチップ内に複数存在することになり、各帰還系間は動作が異なる状態が発生しやすいため、クロックスキューやクロックジッタの発生要因となりやすいという問題点がある。
上記のLSIの他、関連する技術としては、たとえば、特許文献1に記載されたものがある。
特許文献1に記載された差動出力ドライバでは、集積回路チップ内の1箇所に定電流発生回路が設けられ、同定電流発生回路から同チップ内の各ドライバへ参照電流が分配されて差動出力段が制御される。この場合、定電流発生回路から出力される参照電流が第1のカレントミラー回路に入力され、同第1のカレントミラー回路の出力電流が第2のカレントミラー回路に入力され、同第2のカレントミラー回路の出力電流が上記差動出力段に流れる。
特開平10−065515号公報(第7頁、図3、図4)
しかしながら、上記の関連する技術では、次のような問題点があった。
すなわち、特許文献1に記載された差動出力ドライバでは、第2のカレントミラー回路の出力電流が差動出力段に流れるので、この発明とは、ハード構成が異なる。
この発明は、上述の事情に鑑みてなされたもので、クロックドライバのクロックスキューやクロックジッタが低減される参照電圧生成回路及び参照電圧分配方法を提供することを目的としている。
上記課題を解決するために、この発明は、所定の参照電圧が印加されて所定の定電流が流れる定電流源と、該定電流源から流れる前記定電流により非飽和領域で動作する第1のトランジスタとを有する非飽和型論理回路で構成されて集積回路内又は回路基板内に分散配置された複数の電子回路に対し、前記各参照電圧を生成して印加する参照電圧生成回路に係り、前記各参照電圧に変換するための定電流を前記各電子回路毎に出力する複数の電流出力部を有し、前記各電流出力部は、電流を出力するための第2のトランジスタ、及び、該第2のトランジスタを飽和領域で動作させることにより、該第2のトランジスタから出力される前記電流を前記定電流に制御する電流制御手段を有する定電流発生回路と、前記各電子回路の近傍又は内部にそれぞれ配置されていると共に、前記定電流発生回路の前記各電流出力部と各配線を介して接続され、前記定電流発生回路で発生した前記各定電流を前記各参照電圧に変換して前記各電子回路に印加する複数の電流/電圧変換回路とから構成され、前記各配線の抵抗値の上限は、前記各第2のトランジスタが前記飽和領域で動作する範囲内に設定されていることを特徴としている。
この発明の構成によれば、定電流発生回路により、定電流が各電子回路毎に発生し、各電流/電圧変換回路により、同定電流発生回路で発生した各定電流が各参照電圧に変換されて各電子回路に印加されるので、同参照電圧のばらつきが発生せず、各電子回路で各参照電圧が安定して印加された状態で所定の動作を行うことができる。
定電流発生回路により定電流が各クロックドライバ毎に発生して各配線を介して分配され、定電流が同各クロックドライバの内部の電流/電圧変換回路で参照電圧に変換されて当該クロックドライバの定電流源に分配されて印加され、同定電流源に所定の定電流が流れることにより、CML又はECLなどの各クロックドライバを構成する差動増幅回路のトランジスタが非飽和領域で動作し、クロックスキュー及びジッタの発生が抑制される参照電圧生成回路及び参照電圧分配方法を提供する。
また、この発明では、複数の電子回路は、1つの集積回路内又は回路基板内に分散配置され、定電流発生回路は、各定電流を各電子回路毎に出力する複数の電流出力部を有し、各電流/電圧変換回路は、各電子回路の近傍又は内部にそれぞれ配置され、かつ、定電流発生回路の各電流出力部と各配線を介して1対1に接続されていることを特徴としている。これにより、各電子回路が集積回路内部に分散配置されていても、同集積回路内で参照電圧の勾配が発生せず、また、周辺からのクロストークや、回路自身から発生するノイズの影響を低減できるので、シールド配線が不要となるため、参照電圧を分配するためのハード構成の占有面積を低減できる。
また、この発明では、各電流出力部は、電流を出力するための第1のトランジスタと、同第1のトランジスタを飽和領域で動作させることにより、同第1のトランジスタから出力される電流を定電流に制御する電流制御手段とを有することを特徴としている。
また、この発明では、各電子回路は、非飽和型論理回路で構成され、同非飽和型論理回路は、参照電圧が印加されて所定の定電流が流れる定電流源と、同定電流源から流れる定電流により非飽和領域で動作する第2のトランジスタとを有することを特徴としている。
また、この発明では、集積回路内又は回路基板内には、複数の順序回路が設けられ、非飽和型論理回路は、定電流源に所定の定電流が流れる状態で所定のクロック配線を介して各順序回路にクロックを供給する構成とされていることを特徴としている。
図1は、この発明の一実施例である参照電圧生成回路が設けられているLSIの要部の電気的構成を示す模式図である。
この例のLSI11は、同図に示すように、クロックドライバ12,12,…,12と、配線13,13,…,13と、クロック配線14と、定電流発生回路15とを有している。各クロックドライバ12は、LSI11内に分散配置され、所定の参照電圧が印加された状態で所定の動作を行う電子回路であり、特に、この実施例では、たとえばCMLなどの非飽和型論理回路で構成され、同CMLは、同参照電圧が印加されて所定の定電流が流れる図示しない定電流源と、同定電流源から流れる定電流により非飽和領域で動作する図示しないトランジスタとを有している。
また、各クロックドライバ12の内部には、定電流発生回路15で発生した定電流を参照電圧に変換して上記定電流源に印加する図示しない電流/電圧変換回路が設けられている。また、各クロックドライバ12の出力側には、たとえば、H−tree型の各クロック配線14を介して図示しないフリップフロップ(順序回路)が接続され、各クロックドライバ12のCMLは、上記定電流源に定電流が流れる状態で同各クロック配線14を介して同各フリップフロップにクロックを供給する。同各フリップフロップは、たとえば、LSI11の内部領域に設けられている。定電流発生回路15は、LSI11内の略中央付近に配置され、各クロックドライバ12の定電流源に印加する参照電圧に変換するための定電流を、図示しない電流出力部から同各クロックドライバ12毎に発生する。同各電流出力部は、各配線13を介して各クロックドライバ12の上記電流/電圧変換回路と1対1に接続されている。
図2は、図1中の定電流発生回路15の要部の電気的構成を示す回路図である。
この定電流発生回路15は、同図2に示すように、バンドギャップリファレンス(BGRef)21と、オペアンプ22と、pMOS(pチャネル型MOSトランジスタ)231 ,232 ,…,23n (n−1;クロックドライバ12と同数)と、バイアス回路(BIAS)24と、pMOS251 ,252 ,…,25n と、リファレンス抵抗26とから構成されている。pMOS252 ,…,25n のドレインには、図1中の各配線13が接続されている。この定電流発生回路15では、バンドギャップリファレンス21により、周囲の温度変化に対して安定で高精度の基準電圧vrが発生する。そして、リファレンス抵抗26で電流量が規定されて発生した検出電圧vdがオペアンプ22にフィードバックされて基準電圧vrと比較され、pMOS231 ,232 ,…,23n は、同オペアンプ22によりゲート電圧が制御されて飽和領域で動作する。また、pMOS251 ,252 ,…,25n は、バイアス回路24によりゲート電圧が制御されて飽和領域で動作する。これにより、定電流性が高められ、pMOS232 ,…,23n の温度特性の変化の影響が出力側(すなわち、pMOS252 ,…,25n のドレイン)に伝わりにくくなり、各定電流IREFが安定して出力される。
図3は、図1中の各クロックドライバ12の要部の電気的構成を示す回路図である。
このクロックドライバ12は、同図3に示すように、nMOS(nチャネル型MOSトランジスタ)31,32と、抵抗33,34と、nMOS35,36とから構成されている。このクロックドライバ12では、ダイオード接続されたnMOS36に定電流発生回路15から配線13を介して定電流IREFが供給され、同定電流IREFが参照電圧VREFに変換される。そして、nMOS35のゲート電極に参照電圧VREFが印加されて定電流が流れ、nMOS31,32は、この定電流により非飽和領域で動作する。nMOS31のゲート電極に入力電圧viが与えられ、かつnMOS32のゲート電極に基準電圧vgが与えられたとき、同入力電圧viが基準電圧vgより高ければ、nMOS31のドレイン電極から出力電圧vjが出力される。なお、上記定電流発生回路15、配線13及びnMOS36により、参照電圧生成回路が構成されている。
次に、この例の参照電圧生成回路に用いられる参照電圧分配方法の処理内容について説明する。
この参照電圧生成回路では、定電流発生回路15により、参照電圧VREFに変換するための定電流IREFが各クロックドライバ12毎に発生して各配線13を介して分配され、各定電流IREFが同各クロックドライバ12の内部のダイオード接続されたnMOS36(電流/電圧変換回路)で参照電圧VREFに変換されて当該クロックドライバ12のnMOS35(定電流源)のゲート電極に分配されて印加される。そして、nMOS35には所定の定電流が流れ、nMOS31,32が非飽和領域で動作する。
各配線13の配線長の上限は、図2中のpMOS252 ,…,25n のドレインから各クロックドライバ12までの配線抵抗値によって決まる。すなわち、定電流発生回路15の定電流性を確保するためには、図2中のpMOS232 ,…,23n 及びpMOS252 ,…,25n が飽和領域で動作する必要があるが、各配線13の配線長が長くなると、同各配線13の抵抗による電圧降下のため、pMOS252 ,…,25n のドレインの電圧レベルが高くなり、やがてpMOS232 ,…,23n 及びpMOS252 ,…,25n の動作点が飽和領域から線形領域(非不飽和領域)に遷移し、定電流特性が保てなくなる。その境界値が各配線13の配線抵抗値の上限値となる。この上限値は、pMOS232 ,…,23n 及びpMOS252 ,…,25n の拡散長とゲート長との比によって決まるため、この比率を変化させることにより調整可能である。pMOS232 ,…,23n 及びpMOS252 ,…,25n が飽和領域の範囲内で動作していれば、各配線13の抵抗値が変化しても良い上、始めから参照電圧を分配する方法に比べてノイズに強いため、同各配線13の抵抗値の上限を設定しておくことで、CAD(Computer Aided Design )などのツールを使った自動配線も可能である。
以上のように、この実施例では、定電流発生回路15により定電流IREFが各クロックドライバ12毎に発生して各配線13を介して分配され、定電流IREFが同各クロックドライバ12の内部のダイオード接続されたnMOS36(電流/電圧変換回路)で参照電圧VREFに変換されて当該クロックドライバ12のnMOS35(定電流源)のゲート電極に分配されて印加され、nMOS35に所定の定電流が流れてnMOS31,32が非飽和領域で動作する。これにより、LSI11内に各クロックドライバ12が分散配置されていても、参照電圧VREFに対する周辺からのノイズの影響が抑制されると共に、始めから参照電圧を分配する場合に必要だった強固なシールドも不要となり、LSI11の面積を大きくする必要がない。また、始めから参照電圧を分配する場合に比較して同参照電圧のばらつきも低減され、クロックスキュー及びジッタの発生が抑制される。
また、定電流発生回路15の各電流出力部が各配線13を介して各クロックドライバ12の電流/電圧変換回路と1対1に接続されているので、各クロックドライバ12に対する他のクロックドライバからのノイズの回り込みも防止される。また、各配線13の抵抗値については、pMOS232 ,…,23n 及びpMOS252 ,…,25n が飽和領域で動作する範囲内で自由度をもたせることができるため、配線層(厚み)、配線幅、配線長といった条件にも幅をもたせることができると共に、配線長合わせのような冗長配線が不要となり、配線に関わるハード構成が低減される。
以上、この発明の実施例を図面により詳述してきたが、具体的な構成は同実施例に限られるものではなく、この発明の要旨を逸脱しない範囲の設計の変更などがあっても、この発明に含まれる。
たとえば、上記実施例では、図1中の各クロック配線14がH−tree型に形成されているが、クロック配線の形状は任意で良い。また、各クロックドライバ12の出力側に各クロック配線14を介して接続されている各フリップフロップは、上記実施例ではLSI11の内部領域に設けられているが、I/O領域に設けられていても良い。また、各配線13の設計は、抵抗値の上限が設定されていれば、CADなどのツールを使った自動配線に限らず、人手による設計でも良い。
また、上記実施例では、参照電圧生成回路は、LSI11内に設けられているが、任意の回路基板内に設けられていても良い。また、図2中のリファレンス抵抗26は、LSI11に対して外付けでも良い。また、図2中の各pMOS及び図3中の各nMOSは、それぞれ同等の機能を有するバイポーラトランジスタでも良い。また、図3中のnMOS36(電流/電圧変換回路)は、クロックドライバ12の内部に設けられているが、同nMOS36は、クロックドライバ12の外部でかつnMOS35の近傍に設けられていても良い。また、図3中のクロックドライバ12は、CMLとして構成されているが、nMOS31,32の各ドレイン電極にソースホロア又はエミッタホロワを接続することにより、ECLとして構成しても良い。また、図2の定電流発生回路15では、バイアス回路24、及びpMOS251 ,252 ,…,25n を削除しても、上記実施例に準じた作用、効果が得られる。また、図2の定電流発生回路15及び図3のクロックドライバ12は、上記実施例の回路構成に限定されない。
この発明は、所定の参照電圧が印加された状態で所定の動作を行う複数の電子回路に対し、各参照電圧を生成して分配する場合全般に適用でき、特に、同各電子回路が広範囲に分散配置されている場合に効果的である。
この発明の一実施例である参照電圧生成回路が設けられているLSIの要部の電気的構成を示す模式図である。 図1中の定電流発生回路15の要部の電気的構成を示す回路図である。 図1中の各クロックドライバ12の要部の電気的構成を示す回路図である。 LSIの構成を示す図である。
符号の説明
11 LSI(集積回路)
12,12,…,12 クロックドライバ(電子回路)
13,13,…,13 配線
14 クロック配線
15 定電流発生回路
21 バンドギャップリファレンス(BGRef)(電流制御手段の一部)
22 オペアンプ(電流制御手段の一部)
231 pMOS(pチャネル型MOSトランジスタ)(電流制御手段の一部)
232 ,…,23n pMOS(電流出力部の一部、第1のトランジスタ)
24 バイアス回路(BIAS)(電流制御手段の一部)
251 pMOS(電流制御手段の一部)
252 ,…,25n pMOS(電流出力部の一部、第1のトランジスタ)
26 リファレンス抵抗(電流制御手段の一部)
31,32 nMOS(nチャネル型MOSトランジスタ)(非飽和型論理回路の一部、第2のトランジスタ)
33,34 抵抗(非飽和型論理回路の一部)
35 nMOS(定電流源)
36 nMOS(電流/電圧変換回路)

Claims (3)

  1. 所定の参照電圧が印加されて所定の定電流が流れる定電流源と、該定電流源から流れる前記定電流により非飽和領域で動作する第1のトランジスタとを有する非飽和型論理回路で構成されて集積回路内又は回路基板内に分散配置された複数の電子回路に対し、前記各参照電圧を生成して印加する参照電圧生成回路であって、
    前記各参照電圧に変換するための定電流を前記各電子回路毎に出力する複数の電流出力部を有し、前記各電流出力部は、電流を出力するための第2のトランジスタ、及び、該第2のトランジスタを飽和領域で動作させることにより、該第2のトランジスタから出力される前記電流を前記定電流に制御する電流制御手段を有する定電流発生回路と、
    前記各電子回路の近傍又は内部にそれぞれ配置されていると共に、前記定電流発生回路の前記各電流出力部と各配線を介して接続され、前記定電流発生回路で発生した前記各定電流を前記各参照電圧に変換して前記各電子回路に印加する複数の電流/電圧変換回路とから構成され
    前記各配線の抵抗値の上限は、前記各第2のトランジスタが前記飽和領域で動作する範囲内に設定されていることを特徴とする参照電圧生成回路。
  2. 前記集積回路内又は回路基板内には、複数の順序回路が設けられ、
    前記非飽和型論理回路は、
    前記定電流源に前記所定の定電流が流れる状態で所定のクロック配線を介して前記各順序回路にクロックを供給する構成とされていることを特徴とする請求項記載の参照電圧生成回路。
  3. 所定の参照電圧が印加されて所定の定電流が流れる定電流源と、該定電流源から流れる前記定電流により非飽和領域で動作する第1のトランジスタとを有する非飽和型論理回路で構成されて集積回路内又は回路基板内に分散配置された複数の電子回路に対し、前記各参照電圧を生成して分配する参照電圧分配方法であって、
    前記各参照電圧に変換するための定電流を前記各電子回路毎に出力する複数の電流出力部を有し、前記各電流出力部は、電流を出力するための第2のトランジスタ、及び、該第2のトランジスタを飽和領域で動作させることにより、該第2のトランジスタから出力される前記電流を前記定電流に制御する電流制御手段を有する定電流発生回路と、
    前記各電子回路の近傍又は内部にそれぞれ配置されていると共に、前記定電流発生回路の前記各電流出力部と各配線を介して接続された複数の電流/電圧変換回路とを設け、
    前記各電流/電圧変換回路が、前記定電流発生回路で発生した前記各定電流を前記各参照電圧に変換して前記各電子回路に印加し、
    前記各配線の抵抗値の上限を、前記各第2のトランジスタが前記飽和領域で動作する範囲内に設定することを特徴とする参照電圧分配方法。
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