JP4999264B2 - 薄膜製造装置及びその製造方法 - Google Patents
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Description
項1. 薄膜製造装置の内壁及び/又は内部部材の基材表面に溝が形成されており、更に該基材表面上に溶射被膜又はブラスト処理が施されている、薄膜製造装置。
項2. 前記内壁及び/又は内部部材のR部及び/又は端面R部の基材表面に溝が形成されている、項1に記載の薄膜製造装置。
項3. 溝の深さが0.1〜3.0mmであり、溝の幅が0.5〜3.0mmである、項1又は2に記載の薄膜製造装置。
項4. 溝で囲まれる凸部1つの面積が1〜16mm2である、項1〜3のいずれかに記載の薄膜製造装置。
項5. 放電加工、切削・研削加工、レーザー加工、ローレット加工及び鋳型による成形加工からなる群から選択されるいずれかの加工により溝が形成されている、項1〜4のいずれかに記載の薄膜製造装置。
項6. 溝が放電加工より形成されている、項5に記載の薄膜製造装置。
項7. 薄膜製造装置の内壁及び/又は内部部材の基材表面に、放電加工、切削・研削加工、レーザー加工、ローレット加工及び鋳型による成形加工からなる群から選択されるいずれかの加工により溝を形成し、更に該基材表面上に溶射被膜又はブラスト処理を施すことを包含する、薄膜製造装置の製造方法。
項8. 放電加工により溝を形成する、項7に記載の方法。
カバーリングに深さ0.5mm、幅1.0mmの溝により囲まれた面積が4mm2になるように溝を放電加工により形成した。さらに、カバーリング表面にブラスト処理を行った後、膜厚0.15mm、Ra=20μmのプラズマアルミ溶射皮膜を設けたものを試験物とし、これを薄膜製造装置に取り付け、8インチのウエハにW−Si膜の形成を行い、次の評価を行った。
W−Si膜が形成されたウエハ上の総ダスト数を測定し、1.0μm以上のダスト数が10個以上、または0.2μm以上のダスト数が40個を超えたウエハの枚数が3枚になったときのW−Si膜作成に要した積算電力を測定した。さらにカバーリング上に付着したW−Si膜の密着性をJIS H−8661の方法を用いて測定した。結果を表1に示した。
カバーリングにブラスト処理を行った後、膜厚0.15mm、Ra=20μmのアルミ溶射膜を形成したものを試験物として薄膜製造装置に取り付け、実施例1と同様に評価を行った。結果を表1に示した。
ブラスト処理を行ったカバーリングに金網スクリーンを通してプラズマアルミ溶射を行い、実測凸部高さ0.5mm、凸部1辺2.0mmの凹凸を作成したものを試験物とし、実施例1と同様の評価を行った。結果を表1に示した。
b 基材
c 内部部材
d 溝の幅
e 溝の高さ
Claims (4)
- 薄膜製造装置の内壁の湾曲部分、内部部材の湾曲部分及び端面湾曲部分からなる群から選ばれるいずれかの湾曲部分の基材表面に溝及び溝で囲まれる凸部が形成されており、更に該基材表面上に溶射被膜又はブラスト処理が施されており、溝の深さが0.1〜3.0mmであり、溝の幅が0.5〜3.0mmであり、溝の深さと幅の比が1:3〜30であり、溝で囲まれる各凸部の面積が1〜16mm2であり、放電加工、切削・研削加工、レーザー加工、ローレット加工及び鋳型による成形加工からなる群から選択されるいずれかの加工により溝が形成されている、薄膜製造装置。
- 溝が放電加工より形成されている、請求項1に記載の薄膜製造装置。
- 薄膜製造装置の内壁の湾曲部分、内部部材の湾曲部分及び端面湾曲部分からなる群から選ばれるいずれかの湾曲部分の基材表面に、放電加工、切削・研削加工、レーザー加工、ローレット加工及び鋳型による成形加工からなる群から選択されるいずれかの加工により溝及び溝で囲まれる凸部を形成し、更に該基材表面上に溶射被膜又はブラスト処理を施すことを包含する、請求項1に記載の薄膜製造装置の製造方法。
- 放電加工により溝を形成する、請求項3に記載の方法。
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