JP4994053B2 - 基板検査装置及び基板検査方法 - Google Patents
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Description
2 欠陥
5 検査テーブル
5a 基板支持部
10 走査部
11 レーザー光源
12a レンズ
12c fθレンズ
13 ポリゴンミラー
14 ミラー
15 角度検出器
20 上受光系
30 下受光系
21,31 レンズ
22,32 受光部
22a,32a 光ファイバー
23,33 光電子倍増管
24,34 アンプ
25,35 欠陥検出回路
40 焦点調節機構
41 焦点調節制御回路
50 基板移動機構
51 基板移動制御回路
52 投光系移動機構
53 投光系移動制御回路
54 上受光系移動機構
55 上受光系移動制御回路
56 下受光系移動機構
57 下受光系移動制御回路
60 CPU
70 メモリ
80 観察系
81 画像取得装置
82 観察系移動機構
83 観察系移動制御回路
Claims (4)
- 四角形の基板の向かい合う二辺の底に接触する傾斜面を有し、基板をその向かい合う二辺だけで水平方向に支持する検査テーブルと、
光線を基板の表面へ斜めに照射しながら、光線を基板の前記検査テーブルにより支持された二辺と垂直な方向へ移動して、光線による基板の走査を行う投光系と、
光線が基板の欠陥により散乱された散乱光を受光する受光系と、
前記受光系が受光した散乱光から基板の表面の欠陥を検出する検出手段と、
前記検査テーブルにより支持された二辺と平行な方向においてたわみ量が一定な基板の表面に対し前記投光系からの光線が照射されている基板の表面上の位置を検出して、前記検出手段が検出した欠陥の基板の表面上の位置を検出し、欠陥の基板の表面上の位置の座標を基板にたわみが無い場合の水平面へ投影した位置の座標へ変換する処理手段と、
前記検査テーブルに支持された基板の上方から鉛直に欠陥の画像を取得する観察系と、
前記処理手段が変換した位置の座標を用いて、前記観察系を前記検出手段が検出した欠陥の上方へ移動する移動手段とを備えたことを特徴とする基板検査装置。 - 前記処理手段は、検出した欠陥の基板の表面上の位置から、基板の内部へ透過して基板の裏面で反射され、該欠陥により散乱されて散乱光を発生する光線が照射される基板の表面上の位置を算出し、算出した位置で前記検出手段が検出した欠陥をゴーストとして除外することを特徴とする請求項1に記載の基板検査装置。
- 検査テーブルに設けた傾斜面を四角形の基板の向かい合う二辺の底に接触させて、基板をその向かい合う二辺だけで水平方向に支持し、
投光系から、光線を基板の表面へ斜めに照射しながら、光線を基板の検査テーブルにより支持された二辺と垂直な方向へ移動して、光線による基板の走査を行い、
光線が基板の欠陥により散乱された散乱光を受光し、
受光した散乱光から基板の表面の欠陥を検出し、
検査テーブルにより支持された二辺と平行な方向においてたわみ量が一定な基板の表面に対し投光系からの光線が照射されている基板の表面上の位置を検出して、検出した欠陥の基板の表面上の位置を検出し、
欠陥の基板の表面上の位置の座標を基板にたわみが無い場合の水平面へ投影した位置の座標へ変換し、
変換した位置の座標を用いて、観察系を検出した欠陥の上方へ移動し、
観察系により基板の上方から鉛直に欠陥の画像を取得することを特徴とする基板検査方法。 - 検出した欠陥の基板の表面上の位置から、基板の内部へ透過して基板の裏面で反射され、該欠陥により散乱されて散乱光を発生する光線が照射される基板の表面上の位置を算出し、算出した位置で検出した欠陥をゴーストとして除外することを特徴とする請求項3に記載の基板検査方法。
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