JP4359006B2 - 面板の欠陥検査装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
この発明は、面板の欠陥検査装置に関し、詳しくは、欠陥検査の効率を低下させることなく、液晶パネル用のガラス基板や合成樹脂基板等のたわみを発生する基板の表面の異物を効率よく、観察することができる異物観察処理系の改良に関する。なお、この明細書では、異物を欠陥の1つとして欠陥に含めて説明する。
【0002】
【従来の技術】
液晶パネルを構成するTFT基板は、ガラス基板を素材としてその表面に多数のTFT素子が形成される。この表面に傷、異物などの欠陥が存在すると、その部分にはTFT素子が良好に形成されず、TFT基板の品質を阻害するので、欠陥検査装置により欠陥の有無とその場所(座標)を検出して所要の措置がとられている。
欠陥検査装置においては、検出光学系により、ガラス基板に対して低角度照射でレーザビームを投射し、欠陥の散乱光を受光器にて受光して欠陥を検出し、その検出信号をデータ処理部により処理して、欠陥のサイズを算出し、欠陥の種別を判定し、それに欠陥の存在する座標値を付加した欠陥データが出力され、あるいは欠陥がディスプレイの画面上に表示される。
【0003】
ガラス基板の欠陥には各種のものがあって、その代表的なものには、その表面または裏面に存在する異物とスクラッチ傷、および基板の内部に存在する気泡の3種がある。これらのうち、表面の異物とスクラッチ傷は、形成されるTFT素子の品質を阻害するので、不都合な欠陥であるが、裏面の異物とスクラッチ傷や、内部の気泡は、余程大きくない限り弊害が無いため無視できる。
このように、3種の欠陥は、種別によってTFTに対する影響が異なり、特に、異物についてはその内容を特定することが必要である。そのため欠陥が検出された座標に目視観測系を持つ観察装置を位置付けて欠陥の内容を確認することが行われる。
それは、液晶パネルやその基板の歩留まりを向上させるために、検出された欠陥内容の製造工程へのフィードバックが必要になるからである。
なお、基板表面に付着した異物は、従来、目視観測により観察され、それが多い場合には、再洗浄などが行われている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
近年、液晶パネルの表示ドットは小さくなり、より高密度化される一途を辿り、その一方では、基板自体が大型化していきている。そこで、検出する異物や欠陥も微細なものの検出が要求され、その検出位置精度も高くなってきている。
基板が大型化すると、基板がたわむことによって、欠陥検査装置での欠陥検出座標が実際に存在する欠陥の位置とずれる。特に、低角度照射のレーザ光を投光して欠陥を検出する場合にはその影響が大きくなる。そのため欠陥検査後に欠陥検出座標に観察光学系を移動させて目的の欠陥を観察しようとしても欠陥が発見できないことがしばしばある。
しかも、基板が大型化している現在ではすべての欠陥内容を検討して製造工程にフィードバックするのは効率が悪い。
【0005】
低角度照射のレーザビームにより異物を検出した場合、欠陥検査装置における異物の検出座標と、その観察位置との関係は、ガラス基板にたわみがあると、図5に示すような関係になる。
ガラス基板1のたわみ量をδとすると、観察光学系10を移動して欠陥(異物)Fを観察しようとした場合に異物検出座標Pと実際の観察位置座標との間で座標値でΔLの位置ずれが発生する。そのため目的の異物を観察するのに時間がかかり、かつ、観察対象を誤認することが生じる。なお、81は、欠陥検査装置の投光光学系である。
なお、図では、たわみを強調するために、ガラス基板1を周辺支持している例を示しているが、液晶パネルの欠陥検査装置では、ガラス基板1の裏面側に所定の間隔でピン等の支持点がある場合も多い。液晶パネル等のガラス基板1は、異物の付着や疵を嫌うため、また、裏面側の異物付着も問題になることからテーブル裏面全体がベタで載置されることはない。たとえ、多点支持の場合であってもかならず前記のようなたわみが発生する。
そこで、欠陥検査装置でこのたわみ量を各測定点対応に測定して検出座標を演算処理により補正して絶対座標を得ることが考えられるが、これには処理時間がかかり、欠陥検査効率が落ちる問題がある。
この発明の目的は、このような従来技術の問題点を解決するものであって、欠陥検査の効率を低下させることなく、検出された異物を効率よく観察することができる面板の欠陥検査装置を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】
この発明の面板の欠陥検査装置の特徴は、異物観測系を有する面板の欠陥検査装置において、所定の照射角で面板に投光された光からの反射光あるいは散乱光を受けて欠陥検査部において検出された面板上の異物の検出位置のデータを記憶するメモリと、面板のたわみ量を測定する測定器と、顕微鏡観測系とを備え、メモリから検出位置のデータを読出して測定器をその検出位置に位置決めしてその位置のたわみ量を測定し、得られたたわみ量と所定の照射角とに基づいて異物の検出位置を補正して、補正した位置に顕微鏡観測系を位置決めするものである。
【0007】
【発明の実施の形態】
このように、この発明にあっては、異物を検出した位置でたわみ量を測定し、このたわみ量と、欠陥検査部の投光系の照射角とにより異物の検出位置を補正するようにしているので、補正処理も簡単であり、測定誤差が少なく、観測目的の異物がある位置に即座に顕微鏡観測系を位置決めすることができる。
その結果、欠陥検査の効率を低下させることなく、検出された異物を効率よく観察することができ、観察異物の誤認が防止できる。
【0008】
【実施例】
図1は、この発明の面板の欠陥検査装置を適用した一実施例の欠陥検査装置の異物観察系の構成図、図2は、その座標位置補正処理の説明図、図3は、Y方向の補正量算出の説明図、そして図4は、X方向の補正量算出の説明図である。
図1において、欠陥検査装置10は、顕微鏡観察部7と欠陥検査部8とからなる。顕微鏡観察部7は、観察光学系2と、ガラス基板1を載置するXYステージ3、制御部4、データ処理部5、および異物座標メモリ6、とからなる。
ここで、顕微鏡観察部7の異物座標メモリ6には、欠陥検査部8から異物データが転送されて格納される。なお、制御部4、データ処理部5、および異物座標メモリ6により顕微鏡観察部7のデータ処理装置が形成されている。
欠陥検査部8の投光系と受光系は、ベーステーブル31において、X移動機構33に隣接してこれの手前側にあるが、それは図1では図示していない。
【0009】
観察光学系2は、顕微鏡観察鏡筒21とレーザ変位計22とからなり、移動板23に固定されている。顕微鏡観察鏡筒21の観測位置とレーザ変位計22の測定位置との関係は、X方向にXpのずれ量を持って取り付けられている。Y方向のずれ量はない。なお、Y方向にずれがある場合にはその分だけ位置補正をすればよい(後述)。
XYステージ3は、ベーステーブル31上に載置されたY方向移動テーブル32とベーステーブル31の両端で支持され、ベーステーブル31の上部に橋渡されたブリッジフレームを持つX移動機構33とからなる。移動板23は、X移動機構33のブリッジに設けられたボールナットに固定されていて、X方向に駆動する駆動モータ33aの駆動に応じてガラス基板1の、例えば長手方向の辺に沿って移動し、その位置により、移動テーブル32b(ガラス基板1)のX方向における位置決めを相対的にする。
Y方向移動テーブル32は、ガラス基板1を載置するY方向の移動テーブル32bと、駆動モータ32aとを有し、この駆動モータ32aの駆動により移動テーブル32bをY方向に駆動してレール32c,32c上を移動させてX移動機構33に隣接する点線で示す移動テーブル32bの位置から、すなわち欠陥検査部8の検査位置から観察位置(実線)へと移動させる。これにより、ガラス基板1の、例えば短手方向の辺に沿ってガラス基板1が移動して移動テーブル32b(ガラス基板1)のY方向における位置決めをする。
【0010】
顕微鏡観察部7のデータ処理装置の制御部4は、X方向ドライバ41と、Y方向ドライバ42、アンプ43、モータコントロールボード44、そしてA/D変換ボード45とからなり、データ処理部5のバス53に接続されている。
X方向ドライバ41とY方向ドライバ42とは、それぞれモータコントロールボード44の制御に応じてY方向の駆動モータ32aとX方向の駆動モータ33aを回転駆動して、ガラス基板1と移動板23を所定量移動し、顕微鏡観察鏡筒21を観測目標となる異物の位置に位置決めし、あるいはレーザ変位計22により位置決めされた所定の座標の位置において、そこでの変位量を測定する。レーザ変位計22の測定値は、アンプ43を介してA/D変換ボード45に送出され、ここでA/D変換されて、バス53を介してMPU51に渡される。
【0011】
データ処理部5は、MPU51とメモリ52を有し、バス53を介してこれらが相互に接続され、これらは、さらにこのバス53を介して制御部4と異物座標メモリ6とに相互に接続されている。
メモリ52には、観察異物座標取得プログラム52aと、たわみ量測定プログラム52b、座標補正値算出プログラム52c、そして観測位置位置決めプログラム52dとが格納され、作業領域52eとパラメータ領域52f等を有している。
【0012】
以下、図2を参照しながら各プログラムの処理による異物検出位置の補正処理について説明する。
観察異物座標取得プログラム52aは、MPU51により実行されて、MPU51は、欠陥検査部8から転送される異物についての検出位置データを異物座標メモリ6に記憶する(ステップ101)。そして、異物座標メモリ6から最初の目標となる異物の座標(Xo,Yo)を読出し(ステップ102)、作業領域52eに記憶して、その後、たわみ量測定プログラム52bをコールしてMPU51に実行させる。
たわみ量測定プログラム52bは、MPU51により実行されて、MPU51は、作業領域52eから異物の座標(Xo,Yo)を読出して、これに従ってXY軸を動かし、レーザ変位計22をその座標(Xo,Yo)の位置に位置決めする(ステップ103)。
そして、レーザ変位計22によりその位置の基準位置Ps(図3(b)および図5参照)からのガラス基板1のたわみ量δを、アンプ43,A/D変換ボード45を介して得られる検出値をたわみ量δに変換して測定値として算出する(ステップ104)。
なお、図5で説明したように、たわみ量δは、ガラス基板1が水平に支持されたときの表面の位置を基準位置とする。これは、移動テーブル32bのガラス基板1を支持する支持面の位置とガラス基板1の平均の厚みを足した位置として決定される。この基準位置Psは、あらかじめ入力されたデータとしてパラメータ領域52fに記憶される。
測定されたたわみ量δは、作業領域52eに記憶され、その後、座標補正値算出プログラム52cをコールしてMPU51に実行させる。
【0013】
座標補正値算出プログラム52cは、MPU51により実行されて、MPU51は、作業領域52eからたわみ量δを読出して、これに従ってXY方向の補正量(ΔX,ΔY)を算出して(ステップ105)、作業領域52eに記憶して、その後、観測位置位置決めプログラム52dをコールしてMPU51に実行させる。
観測位置位置決めプログラム52dは、MPU51により実行されて、MPU51は、作業領域52eから補正量(ΔX,ΔY)と座標(Xo,Yo)とを読出して、これに従って(Xo+ΔX,Yo+ΔY)を算出し(ステップ106)、この位置に顕微鏡観察鏡筒21に位置決めする(ステップ107)。なお、この場合、レーザ変位計22の測定位置と観測位置とのX方向のずれ量Xp分が自動的に計算に加えられて位置補正が行われる。観測位置と測定位置とにY方向のずれ量がある場合には、このときY方向の補正演算も同時に行う。
次に、処理終了かを判定する(ステップ108)。異物座標データがまだ存在し、処理が終了していないときには、NO条件となり、ステップ102へと戻り、次の目標となる異物の座標(Xo,Yo)を読出して、以下ステップ103以降のへ同様の処理を続ける。
なお、処理が終了しているときには、YESとなって、ここでの処理は終了する。
【0014】
図3は、たわみ量δに対して補正量(ΔX,ΔY)を算出する場合のY方向の補正量ΔYと照射光学系との関係についての説明図であり、図4は、そのX方向の補正量ΔXについての説明図である。
図3(a)は、図1において、X移動機構33に隣接する点線で示す欠陥検査部8の検査位置にY方向の移動テーブル32bが位置決めされ、欠陥検査部8において検査されているときの説明図である。
ガラス基板1は、Y方向の移動テーブル32b上に載置され、欠陥検査部8の投光光学系81から低い照射角でレーザビームを受けてX方向に走査される。このときの照射角をθ1(仰角)とし、図3(b)に示されるように、異物データが示す、ある座標位置でのたわみ量δとすれば、補正量ΔYは、ΔY=δ/tanθ1となる。
また、X方向での照射角をθ2(仰角)とすれば、図4に示すように、補正量ΔXは、ΔX=ΔY×sinθ2となる。
これにより、欠陥検査部8の投光光学系81の照射角から補正量(ΔX,ΔY)を算出することができる。照射角θ1,θ2は、パラメータ領域52fに記憶されていて、これに基づいてMPU51が座標補正値算出プログラム52cを実行して前記の補正量を算出する。
【0015】
以上説明してきたが、実施例では、レーザ変位計によりたわみ量を測定しているが、測定器は、静電変位計やその他の距離測定器であってもよく、たわみ量の測定は、レーザ変位計に限定されるものではない。
また、実施例では、液晶パネルのガラス基板の例を挙げているが、この発明は、液晶パネルのガラス基板に限定されるものではなく、他の液晶基板、液晶パネル、ガラス基板、PDP基板、有機EL基板、合成樹脂基板等、そしてその他の面板について適用できることはもちろんである。
【0016】
【発明の効果】
以上の説明のとおり、この発明にあっては、異物を検出した位置でたわみ量を測定し、このたわみ量と、欠陥検査部の投光系の照射角とにより異物の検出位置を補正するようにしているので、補正処理も簡単であり、測定誤差が少なく、観測目的の異物がある位置に即座に顕微鏡観測系を位置決めすることができる。
その結果、欠陥検査の効率を低下させることなく、検出された異物を効率よく観察することができ、観察異物の誤認が防止できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1は、この発明の面板の欠陥検査装置を適用した一実施例の欠陥検査装置の異物観察系の構成図である。
【図2】図2は、その座標位置補正処理の説明図である。
【図3】図3は、Y方向の補正量算出の説明図であり、(a)は、欠陥検査部の投光光学系のその照射状態の説明図,(b)は、Y方向の補正量算出の説明図である。
【図4】図4は、X方向の補正量算出の説明図である。
【図5】図5は、従来の液晶パネルのガラス基板のたわみの説明図である。
【符号の説明】
1…ガラス基板、2…観察光学系、81…投光系、
3…XYステージ、
4…制御部、
5…データ処理部、51…MPU、52…メモリ、53…バス、
6…異物座標メモリ、7…顕微鏡観察部、8…欠陥検査部、
10…欠陥検査装置。
Claims (2)
- 異物観測系を有する面板の欠陥検査装置において、所定の照射角で面板に投光された光からの反射光あるいは散乱光を受けて欠陥検査部において検出された前記面板上の異物の検出位置のデータを記憶するメモリと、前記面板のたわみ量を測定する測定器と、顕微鏡観測系とを備え、前記メモリから前記検出位置のデータを読出して前記測定器をその検出位置に位置決めしてその位置のたわみ量を測定し、得られたたわみ量と前記所定の照射角とに基づいて前記異物の検出位置を補正して、補正した位置に前記顕微鏡観測系を位置決めすることを特徴とする面板の欠陥検査装置。
- 前記欠陥検査部は、前記異物を含めて各種の欠陥を検出するものであり、前記面板は、液晶パネルの基板であり、前記測定器はレーザ変位計であり、前記顕微鏡観測系と前記レーザ変位計とを固定する部材を備え、前記部材をX方向およびY方向のいずれか一方に移動させる請求項1記載の面板の欠陥検査装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001099273A JP4359006B2 (ja) | 2001-03-30 | 2001-03-30 | 面板の欠陥検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001099273A JP4359006B2 (ja) | 2001-03-30 | 2001-03-30 | 面板の欠陥検査装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002296201A JP2002296201A (ja) | 2002-10-09 |
JP4359006B2 true JP4359006B2 (ja) | 2009-11-04 |
Family
ID=18952831
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001099273A Expired - Fee Related JP4359006B2 (ja) | 2001-03-30 | 2001-03-30 | 面板の欠陥検査装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4359006B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20050004588A (ko) * | 2003-07-03 | 2005-01-12 | 주식회사 한택 | 디스플레이 패널의 결함 검출 장치 및 방법 |
JP4994053B2 (ja) * | 2007-02-06 | 2012-08-08 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 基板検査装置及び基板検査方法 |
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2001
- 2001-03-30 JP JP2001099273A patent/JP4359006B2/ja not_active Expired - Fee Related
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---|---|
JP2002296201A (ja) | 2002-10-09 |
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A711 | Notification of change in applicant |
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A621 | Written request for application examination |
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A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20090721 |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120814 Year of fee payment: 3 |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120814 Year of fee payment: 3 |
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