JP4993351B2 - 光学フィルムの製造方法及び光学フィルム - Google Patents
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Description
(ii)前記塗布液中の前記フルオロ脂肪族基含有ポリマーの濃度C(質量%)と該フルオロ脂肪族基含有ポリマー中のフッ素含有量F(%)との積C×Fが0.05〜0.12であり、前記塗布液の最大泡圧法により測定した10m秒後と1000m秒後の表面張力比(10m秒後の表面張力/1000m秒後の表面張力)が1.0〜1.2である
請求項1の発明は、液晶化合物を含有する塗布液を、走行する帯状可撓性支持体に4.5〜12mL/m2の範囲で塗布することを前提としたときに、塗布膜を高速乾燥しても乾燥ムラが発現しないための塗布液組成と物性を規定したものであり、上記(i)のモノマーの繰り返し単位を含み、かつ上記(ii)を満たすフルオロ脂肪族基含有ポリマーを、光学異方性層用の塗布液に添加するようにした。これにより、塗布後の初期乾燥において前記フルオロ脂肪族基含有ポリマーが塗布液の空気界面に速やかに移動し、塗膜の空気界面を安定化するため、塗布量を増加して乾燥ムラが発現し易い条件下で高速乾燥しても乾燥ムラが生じるのを抑制できる。
(ii)ポリ(オキシアルキレン)アクリレート及び(又は)ポリ(オキシアルキレン)メタクリレート
一般式[1]
請求項6は請求項5において、前記フルオロ脂肪族基含有ポリマーは、下記(i)のモノマーから導かれる繰り返し単位、下記(ii)のモノマーから導かれる繰り返し単位、及び下記(iii)のモノマーから導かれる繰り返し単位を含むフルオロ脂肪族基含有共重合体であることを特徴とする。
(i)請求項5に記載の一般式[1]で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマー
(ii)ポリ(オキシアルキレン)アクリレート及び(又は)ポリ(オキシアルキレン)メタクリレート
(iii)上記(i)及び(ii)と共重合可能な下記一般式[2]で示されるモノマー
一般式[2]
請求項7は請求項1〜6の何れか1項において、前記塗布液の乾燥速度は、0.4〜1.1(g/m2・秒)であることを特徴とする。
アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、クロルエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、トリメチロールプロパンモノアクリレート、ベンジルアクリレート、メトキシベンジルアクリレート、フルフリルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート等、
メタクリル酸エステル類:
メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、クロルエチルメタクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、トリメチロールプロパンモノメタクリレート、ベンジルメタクリレート、メトキシベンジルメタクリレート、フルフリルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート等、
アクリルアミド類:
アクリルアミド、N−アルキルアクリルアミド(アルキル基としては炭素数1〜3のもの、例えばメチル基、エチル基、プロピル基)、N,N−ジアルキルアクリルアミド(アルキル基としては炭素数1〜3のもの)、N−ヒドロキシエチル−N−メチルアクリルアミド、N−2−アセトアミドエチル−N−アセチルアクリルアミドなど。
メタクリルアミド、N−アルキルメタクリルアミド(アルキル基としては炭素数1〜3のもの、例えばメチル基、エチル基、プロピル基)、N,N−ジアルキルメタクリルアミド(アルキル基としては炭素数1〜3のもの)、N−ヒドロキシエチル−N−メチルメタクリルアミド、N−2−アセトアミドエチル−N−アセチルメタクリルアミドなど。
アリルエステル類(例えば酢酸アリル、カプロン酸アリル、カプリル酸アリル、ラウリン酸アリル、パルミチン酸アリル、ステアリン酸アリル、安息香酸アリル、アセト酢酸アリル、乳酸アリルなど)、アリルオキシエタノールなど
ビニルエーテル類:
アルキルビニルエーテル(例えばヘキシルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、デシルビニルエーテル、エチルヘキシルビニルエーテル、メトキシエチルビニルエーテル、エトキシエチルビニルエーテル、クロルエチルビニルエーテル、1−メチル−2,2−ジメチルプロピルビニルエーテル、2−エチルブチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ジエチレングリコールビニルエーテル、ジメチルアミノエチルビニルエーテル、ジエチルアミノエチルビニルエーテル、ブチルアミノエチルビニルエーテル、ベンジルビニルエーテル、テトラヒドロフルフリルビニルエーテルなど
ビニルエステル類:
ビニルビチレート、ビニルイソブチレート、ビニルトリメチルアセテート、ビニルジエチルアセテート、ビニルバレート、ビニルカプロエート、ビニルクロルアセテート、ビニルジクロルアセテート、ビニルメトキシアセテート、ビニルブトキシアセテート、ビニルラクテート、ビニル−β―フェニルブチレート、ビニルシクロヘキシルカルボキシレートなど。
イタコン酸ジメチル、イタコン酸ジエチル、イタコン酸ジブチルなど。
フマール酸のジアルキルエステル類又はモノアルキルエステル類:
ジブチルフマレートなど
その他、クロトン酸、イタコン酸、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、マレイロニトリル、スチレンなど。
本発明の帯状可撓性支持体は、ガラス、もしくは透明なポリマーフイルムであることが好ましい。
光学異方性層は、液晶表示装置の黒表示における液晶セル中の液晶性化合物を補償するように設計されることが好ましい。黒表示における液晶セル中の液晶性化合物の配向状態は、液晶表示装置のモードにより異なる。この液晶セル中の液晶性化合物の配向状態に関しては、IDW’00、FMC7−2のP411〜414等に記載されている。
棒状液晶性化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類及びアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。
ディスコティック液晶性化合物には、C.Destradeらの研究報告(Mol.Cryst.71巻、111頁(1981年))に記載されているベンゼン誘導体、C.Destradeらの研究報告(Mol.Cryst.122巻、141頁(1985年)、Physics lett,A,78巻、82頁(1990))に記載されているトルキセン誘導体、B.Kohneらの研究報告(Angew.Chem.96巻、70頁(1984年))に記載されたシクロヘキサン誘導体及びJ.M.Lehnらの研究報告(J.C.S.,Chem.Commun.,1794頁(1985年))、J.Zhangらの研究報告(J.Am.Chem.Soc.116巻、2655頁(1994年))に記載されているアザクラウン系やフェニルアセチレン系マクロサイクルが含まれる。
D(−LQ)r
(一般式(5)中、Dは円盤状コアであり、Lは二価の連結基であり、Qは重合性基であり、rは4〜12の整数である。)
円盤状コア(D)の例を以下に示す。以下の各例において、LQ(又はQL)は、二価の連結基(L)と重合性基(Q)との組み合わせを意味する。
L11:−O−AL−、L12:−O−AL−O−、L13:−O−AL−O−CO−、L14:−O−AL−O−CO−NH−AL−、L15:−O−AL−S−AL−、L16:−O−CO−AL−AR−O−AL−O−CO−、L17:−O−CO−AR−O−AL−CO−、L18:−O−CO−AR−O−AL−O−CO−、L19:−O−CO−AR−O−AL−O−AL−O−CO−、L20:−O−CO−AR−O−AL−O−AL−O−AL−O−CO−、L21:−S−AL−、L22:−S−AL−O−、L23:−S−AL−O−CO−、L24:−S−AL−S−AL−、L25:−S−AR−AL−。
塗布時のハジキを防止するために、ハジキ防止剤を液晶性化合物、特にディスコティック液晶性化合物とともに使用できる。ハジキ防止剤は、液晶性化合物と相溶性を有し、液晶性化合物のチルト角変化や配向を著しく阻害しない高分子化合物(ポリマー)であれば特に制限はない。
配向膜側表面の傾斜角を制御する添加剤(配向膜側傾斜角制御剤)として、分子内に極性基と非極性基の双方を有する化合物を光学異方性層中に添加することができる。
液晶性化合物の分子を配向状態に固定して光学異方性層を形成することが好ましい。配向状態を固定する方法としては、重合反応を利用するのが好ましい。重合反応には、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と光重合開始剤を用いる光重合反応とが含まれるが、熱により支持体等が変形、変質するのを防ぐためにも、光重合反応が好ましい。
光学異方性層形成用の組成物には、液晶性化合物とともに重合性モノマーを含んでもよい。本発明に使用できる重合性モノマーとしては、液晶性化合物と相溶性を有し、液晶性化合物のチルト角変化や配向阻害を著しく引き起こさない限り、特に限定はない。これらの中では重合活性なエチレン性不飽和基、例えばビニル基、ビニルオキシ基、アクリロイル基およびメタクリロイル基などを有する化合物が好ましく用いられる。上記重合性モノマーの添加量は、液晶性化合物に対して一般に1〜50質量%の範囲にあり、5〜30質量%の範囲にあることが好ましい。また反応性官能基数が2以上のモノマーを用いると、配向膜と光学異方性層間の密着性を高める効果が期待できるため、特に好ましい。
光学異方性層形成用の組成物には、本発明に係るフルオロ脂肪族基含有ポリマーが含まれているが、更に別のポリマーをディスコティック液晶性化合物とともに使用してもよい。そのポリマーとしては、ディスコティック液晶性化合物とある程度の相溶性を有し、ディスコティック液晶性化合物に傾斜角の変化を与えられることが好ましい。
光学異方性層形成用の組成物は、塗布液として調製できる。塗布液の調製に使用する溶媒としては、有機溶媒が好ましい。
配向膜表面への塗布液(光学異方性層形成用の組成物)の塗布は、公知の方法(例えば、ワイヤバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法)により実施できる。また、塗布液における液晶性化合物の含有量は1〜50質量%が好ましく、10〜50質量%がより好ましく、20〜40質量%がさらに好ましい。
配向膜は、有機化合物(好ましくはポリマー)のラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログルーブを有する層の形成、あるいはラングミュア・ブロジェット法(LB膜)による有機化合物(例、ω−トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライド、ステアリル酸メチル)の累積のような手段で設けることができる。さらに、電場の付与、磁場の付与あるいは光照射により、配向機能が生じる配向膜も知られている。
式(A)中、Nはラビング回数、lはラビングローラの接触長、rはローラーの半径、nはローラーの回転数(rpm)、vはステージ移動速度(秒速)である。ラビング密度を高くするためには、ラビング回数を増やす、ラビングローラの接触長を長く、ローラーの半径を大きく、ローラーの回転数を大きく、ステージ移動速度を遅くすればよい。一方、ラビング密度を低くするためには、この逆にすればよい。ラビング密度と配向膜のチルト角との間には、ラビング密度を高くするとチルト角は小さくなり、ラビング密度を低くするとチルト角は大きくなる関係がある。
本発明の光学補償シートは、液晶化合物の配向状態を固定化して形成された光学異方性層を含み、該液晶化合物は、分子のダイレクタと該光学異方性層平面とのなす角度が層の深さ方向において変化しているハイブリッド配向をしているとともに、該ダイレクタを該光学異方性層平面に投影した軸の方位が変化しているねじれ配向をしている。さらに、前記光学異方性層は、液晶性化合物とともに、フルオロ脂肪族基含有ポリマーを含有している。
本発明の光学補償シートは、偏光板と貼り合せるか、偏光板の偏光膜を保護する保護フィルムとして使用することで、その機能を著しく発揮することができる。
ケン化度が85〜95%の未変性ポリビニルアルコール及びアルキルチオ変性ポリビニルアルコールが特に好ましい。
偏光膜は、歩留まりの観点から、バインダーを偏光膜の長手方向(MD方向)に対して、10〜80度傾斜して延伸するか(延伸法)、もしくはラビングした(ラビング法)後に、ヨウ素、二色性染料で染色することが好ましい。傾斜角度は、LCDを構成する液晶セルの両側に貼り合わされる2枚の偏光板の透過軸と液晶セルの縦又は横方向のなす角度にあわせるように延伸することが好ましい。
数式(II):Rth={(nx+ny)/2−nz}×d
数式(I)および(II)において、nxはフィルム面内の遅相軸方向(屈折率が最大となる方向)の屈折率である。数式(I)および(II)において、nyはフィルム面内の進相軸方向(屈折率が最小となる方向)の屈折率である。数式(II)において、nzはフィルムの厚み方向の屈折率である。数式(I)および(II)において、dは単位をnmとするフィルムの厚さである。
なお、本発明の支持体としては、Rthが正の値を示し、負の複屈折性を示すものが好ましい。
TNモードの液晶セルは、カラーTFT液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。
OCBモードの液晶セルは、棒状液晶性化合物を液晶セルの上部と下部とで実質的に逆の方向に(対称的に)配向させるベンド配向モードの液晶セルである。ベンド配向モードの液晶セルを用いた液晶表示装置は、米国特許4583825号、同5410422号の各公報に開示されている。棒状液晶性化合物が液晶セルの上部と下部とで対称的に配向しているため、ベンド配向モードの液晶セルは、自己光学補償機能を有する。そのため、この液晶モードは、OCB(Optically Compensatory Bend)液晶モードと呼ばれる。
VAモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性化合物が実質的に垂直に配向している。
ECBモード及びSTNモードの液晶表示装置に対しては、上記と同様の考え方で光学的に補償することができる。
(フルオロ脂肪族基含有ポリマーの仕様)
1)ωF(C4+C6)型ポリマーP−3、P−4(末端構造が-(CF2CF2)2Fのモノマーと末端構造が-(CF2CF2)3Fのモノマーを含む共重合ポリマー)
まず、光学異方性層形成用の組成物にフルオロ脂肪族基含有ポリマーを添加したときの液晶セルにおけるスジやムラ、配向性を評価した。さらに、上記フルオロ脂肪族基含有ポリマーの種類や添加量を変えた場合についても同様に評価した。
<ポリマー基材の作製>
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、30℃に加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液を調製した。
−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
セルロースアセテート溶液組成(質量部) 内層 外層
−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
酢化度60.9%のセルロースアセテート 100 100
トリフェニルホスフェート(可塑剤) 7.8 7.8
ビフェニルジフェニルホスフェート(可塑剤) 3.9 3.9
メチレンクロライド(第1溶媒) 293 314
メタノール(第2溶媒) 71 76
1−ブタノール(第3溶媒) 1.5 1.6
シリカ微粒子(AEROSIL R972、日本アエロジル(株)製
0 0.8
下記レターデーション上昇剤 1.7 0
−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
このポリマー基材(PK−1)上に、下記の組成の塗布液を#16のワイヤーバーコーターで28mL/m2塗布した。60℃の温風で60秒、さらに90℃の温風で150秒乾燥した。
下記の変性ポリビニルアルコール 20質量部
水 360質量部
メタノール 120質量部
グルタルアルデヒド(架橋剤) 1質量部
既存の光学補償シート製造工程に、乾燥装置を組み込み、光学異方性層を作製した。光学補償シート製造工程では、ウェブ12は送出機により送られ、ガイドロールによって支持されながらラビング処理ロール、スロットダイコートによる塗布工程を経てその直後に本発明の乾燥工程を通過する。その後、乾燥ゾーン、加熱ゾーン、紫外線ランプを通過し、巻き取り機によって巻き取るのが基本工程である。ウェブ12の進行方向側とは反対側に、ビードに対して十分な減圧調整を行えるよう、接触しない位置に減圧チャンバーを設置した。
下記の組成物を、102質量部のメチルエチルケトンに溶解して塗布液を調製した。
エチレンオキサイド変成トリメチロールプロパントリアクリレート
(V#360、大阪有機化学(株)製) 4.06質量部
セルロースアセテートブチレート
(CAB551−0.2、イーストマンケミカル社製) 0.34質量部
セルロースアセテートブチレート
(CAB531−1、イーストマンケミカル社製) 0.11質量部
上記1)〜5)のうち表1,3の各条件を満たすフルオロ脂肪族基含有ポリマー
0.11質量部
光重合開始剤(イルガキュアー907、チバガイギー社製
1.35質量部
増感剤(カヤキュアーDETX、日本化薬(株)製) 0.45質量部
光学異方性層における液晶性化合物の空気界面近傍の傾斜角を、エリプソメーター(APE−100、島津製作所(株)製)を用いて観察角度を変えてレターデーションを測定し、Jpn. J. Appl. Phys. Vol.36(1997)pp.143−147に記載されている手法で算出した。測定波長は632.8nmとした。この傾斜角の大きくし易さを光学特性として以下のように評価した(傾斜角を大きくし易いほど光学特性に優れる)。
<偏光子(偏光膜)の作製>
平均重合度4000、鹸化度99.8mol%のPVAを水に溶解し、4.0%の水溶液を得た。この溶液をテーパーのついたダイを用いてバンド流延して乾燥し、延伸前の幅が110mmで厚みは左端が120μm、右端が135μmになるように製膜した。
ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、作製した光学補償シートを、偏光子(HF−1)の片側表面に貼り付けた。また、厚さ80μmのトリアセチルセルロースフィルム(TD−80U:富士写真フイルム(株)製)にケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光子(HF−1)の反対側表面に貼り付けた。
TN型液晶セルを使用した液晶表示装置(AQUOS LC20C1S、シャープ(株)製)に設けられている一対の偏光板を剥がし、代わりに上記の作製した偏光板(HB−1)を、光学補償シート(KH−1)が液晶セル側となるように粘着剤を介して、観察者側及びバックライト側に一枚ずつ貼り付けた。観察者側の偏光板の透過軸と、バックライト側の偏光板の透過軸とは、Oモードとなるように配置した。
光学補償シートを偏光板に挟んだ上記TN液晶セルを目視観察することによりスジの評価を行った。なお、評価は以下のようにした。
<液晶表示装置パネル上でのムラ評価及び上視野角色味評価>
液晶表示装置の表示パネルを全面中間調に調整し、ムラを評価した。なお、評価は以下のようにした。
<配向性の評価>
スジの評価と同様に、上記TN液晶セルを目視観察することにより配向性を評価した。なお、評価は以下のようにした。
まず、塗布量、乾燥速度、表面張力等の塗布条件を表1に示し、光学補償シートの面状、光学特性の評価結果を表2に示す。
塗布条件を表1に示すように変えた以外は実施例1−1と同様にした。この結果を表2に示す。
塗布条件を表1に示すように変えた以外は実施例1−1と同様に評価した。この結果を表2に示す。
次に、塗布量6.4mL/m2、乾燥速度1.06g/(m2・秒)で一定とし、フルオロ脂肪族基含有ポリマーの添加量を変えたときの、光学補償シートの面状、光学特性への影響を評価した。この結果を表3に示す。
表3のようにフルオロ脂肪族基含有ポリマーの種類や添加量を変えた以外は、実施例7と同様に評価した。この結果を表3に示す。
実施例1の光学異方性層塗布液の組成をベースとして、図5の表4に示すようにフルオロ脂肪族基含有ポリマー、酸性基含有フルオロ脂肪族基含有ポリマーの組成比を変えたものを調製した。これらのフルオロ脂肪族基含有ポリマー等の組成が異なる塗布液について、エクストルージョン塗布方式(E型)により透明支持体上に塗布した。そして、塗布直後からの塗布液の表面張力の時間変化と、外観特性との関係について評価した。
次に、光学異方性層形成用の組成物に、フルオロ脂肪族基含有ポリマーの他、傾斜角補助剤を加えたときの液晶セルのムラ、傾斜角について評価した。
<ポリマー基材の作製>
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、30℃に加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液を調製した。
−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
セルロースアセテート溶液組成(質量部) 内層 外層
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酢化度60.9%のセルロースアセテート 100 100
トリフェニルホスフェート(可塑剤) 7.8 7.8
ビフェニルジフェニルホスフェート(可塑剤) 3.9 3.9
メチレンクロライド(第1溶媒) 293 314
メタノール(第2溶媒) 71 76
1−ブタノール(第3溶媒) 1.5 1.6
シリカ微粒子(AEROSIL R972、日本アエロジル(株)製
0 0.8
下記レターデーション上昇剤 1.7 0
−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
得られた内層用ドープ及び外層用ドープを、三層共流延ダイを用いて、0℃に冷却したドラム上に流延した。残留溶剤量が70質量%のフィルムをドラムから剥ぎ取り、両端をピンテンターにて固定して搬送方向のドロー比を115%として搬送しながら80℃で乾燥させ、残留溶剤量が10%となったところで、110℃で乾燥させた。その後、155℃の温度で20分乾燥し、残留溶剤が0.3質量%のセルロースアセテートフィルム(外層:3μm、内層:74μm、外層:3μm)を作製した。作製したセルロースアセテートフィルムをポリマー基材(PK−2)として、光学特性を測定した。
下記の変性ポリビニルアルコール 10質量部
下記化合物X 0.01質量部
水 371質量部
メタノール 119質量部
グルタルアルデヒド(架橋剤) 0.5質量部
(光学異方性層塗布液の組成)
下記のディスコティック液晶性化合物 41.01質量部
エチレンオキサイド変成トリメチロールプロパントリアクリレート
(V#360、大阪有機化学(株)製) 4.06質量部
セルロースアセテートブチレート
(CAB551−0.2 イーストマンケミカル) 0.34質量部
セルロースアセテートブチレート
(CAB531−1 イーストマンケミカル) 0.11質量部
下記化合物P 0.27質量部
下記化合物O 0.20質量部
光重合開始剤(イルガキュアー907、チバガイギー社製) 1.35質量部
増感剤(カヤキュアーDETX、日本化薬(株)製) 0.45質量部
上記1)のωF(C4+C6)型ポリマーP3
0.27質量部
上記光学異方性層組成物Aを、メチルエチルケトンにて溶解し、比重0.900の塗布液14とした。
平均重合度4000、鹸化度99.8mol%のPVAを水に溶解し、4.0%の水溶液を得た。この溶液をテーパーのついたダイを用いてバンド流延して乾燥し、延伸前の幅が110mmで厚みは左端が120μm、右端が135μmになるように製膜した。
ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、光学補償シート(KH−2)をポリマー基材(PK−2)面で偏光子(HF−1)の片側に貼り付けた。また、厚さ80μmのトリアセチルセルロースフィルム(TD−80U:富士フイルム(株)製)にケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光子の反対側に貼り付けた。
実施例3−1で用いた化合物P、Oの添加量を変更して、表7のように特性を変更した以外は、実施例3−1と同様にして光学補償シートを作製した。
TN型液晶セルを使用した液晶表示装置(LL−191A、シャープ(株)製)に設けられている一対の偏光板を剥がし、代わりに実施例1で作製した偏光板(HB−2)を、光学補償シート(KH−2)が液晶セル側となるように粘着剤を介して、観察者側およびバックライト側に一枚ずつ貼り付けた。観察者側の偏光板の透過軸と、バックライト側の偏光板の透過軸とは、Oモードとなるように配置した。
実施例3−1〜3−4の液晶表示装置の表示パネルを全面中間調に調整し、ムラを評価した。結果を表8に示す。
光学補償シートの光学異方性層における液晶性化合物の配向膜近傍の傾斜角及び空気界面近傍の傾斜角は、エリプソメーター(APE−100、島津製作所(株)製)を用いて観察角度を変えてレターデーションを測定し、屈折率楕円体モデルと仮想し、Designing Concepts of the Discotic Negative Birefringence Compensation Films,SID98 DIGEST に記載されている手法で算出した。測定波長は632.8nmであり、結果を表7に示す。
実施例3−1で用いたレターデーション上昇剤の添加量を変えて、Rthを70、80、100、110nmにしたポリマー基材を作製したこと以外は、実施例3−1と同様にして、光学補償シート、さらには光学補償シート付き偏光板を作製した。ポリマー基材のRthを70、80、100、110nmに変えても、上下左右の視野角は実施例3−1で得られた効果と同様の効果が得られた。
実施例3−1で用いたレターデーション上昇剤を、下記のレターデーション上昇剤に代え、内層の添加量を1.4質量部にし、Rthを95nmにしたポリマー基材を作製した以外は、実施例3−1と同様にして、光学補償シート、さらには、光学補償シート付き偏光板を作製した。実施例3−1で得られた効果と同様の効果が得られた。
Claims (10)
- 液晶性化合物を含有する塗布液を、走行する帯状可撓性支持体上に4.5〜12mL/m2塗布した後、該塗布液を乾燥、硬化させて光学異方性層を形成する光学フィルムの製造方法であって、
前記塗布液は、下記(i)のモノマーから導かれる繰り返し単位を含むフルオロ脂肪族基含有ポリマーを含有するとともに、下記(ii)の条件を満たすことを特徴とする光学フィルムの製造方法。
(i)末端構造が−(CF2CF2)3Fで表される第1のフルオロ脂肪族基含有モノマーと、末端構造が−(CF2CF2)2Fで表される第2のフルオロ脂肪族基含有モノマーと、を含むフルオロ脂肪族基含有共重合体である
(ii)前記塗布液中の前記フルオロ脂肪族基含有ポリマーの濃度C(質量%)と該フルオロ脂肪族基含有ポリマー中のフッ素含有量F(%)との積C×Fが0.05〜0.12であり、前記塗布液の最大泡圧法により測定した10m秒後と1000m秒後の表面張力比(10m秒後の表面張力/1000m秒後の表面張力)が1.0〜1.2である - 前記フルオロ脂肪族基含有ポリマーは、前記光学異方性層に対して0.05〜1質量%含有されることを特徴とする請求項1に記載の光学フィルムの製造方法。
- 前記フルオロ脂肪族基含有ポリマーにおいて、
前記第1のフルオロ脂肪族基含有モノマーの含有量は、第1及び第2のフルオロ脂肪族基含有モノマーの総量に対して20〜80質量%であることを特徴とする請求項1又は2に記載の光学フィルムの製造方法。 - 前記第1及び第2のフルオロ脂肪族基含有モノマーの総量は、前記フルオロ脂肪族基含有ポリマー全体に対して20〜50質量%であることを特徴とする請求項1〜3の何れか1項に記載の光学フィルムの製造方法。
- 前記第1及び第2のフルオロ脂肪族基含有モノマーが下記(i)のモノマーで表されるとともに、
前記フルオロ脂肪族基含有ポリマーは、
下記(i)のモノマーから導かれる繰り返し単位及び下記(ii)のモノマーから導かれる繰り返し単位を含むフルオロ脂肪族基含有共重合体であることを特徴とする請求項1〜4の何れか1項に記載の光学フィルムの製造方法。
(i)下記一般式[1]で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマー
(ii)ポリ(オキシアルキレン)アクリレート及び(又は)ポリ(オキシアルキレン)メタクリレート
一般式[1]
- 前記フルオロ脂肪族基含有ポリマーは、
下記(i)のモノマーから導かれる繰り返し単位、下記(ii)のモノマーから導かれる繰り返し単位、及び下記(iii)のモノマーから導かれる繰り返し単位を含むフルオロ脂肪族基含有共重合体であることを特徴とする請求項5に記載の光学フィルムの製造方法 。
(i)請求項5に記載の一般式[1]で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマー
(ii)ポリ(オキシアルキレン)アクリレート及び(又は)ポリ(オキシアルキレン)メタクリレート
(iii)上記(i)及び(ii)と共重合可能な下記一般式[2]で示されるモノマー
一般式[2]
- 前記塗布液の乾燥速度は、0.4〜1.1(g/m2・秒)であることを特徴とする請求項1〜6の何れか1項に記載の光学フィルムの製造方法。
- 前記塗布液は、スロットダイにより塗布することを特徴とする請求項1〜7の何れか1項に記載の光学フィルムの製造方法。
- 前記液晶化合物が、ディスコティック化合物であることを特徴とする請求項1〜8の何れか1項に記載の光学フィルムの製造方法。
- 請求項1〜9の何れか1項に記載の光学フィルムの製造方法により製造されたことを特徴とする光学フィルム。
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