JP2016530182A - 構成要素層が統合された光学的構造体 - Google Patents

Abstract

光学的構造体を連続製造プロセスで形成する方法は、０．３ｍｍ以下の厚さを有する連続した可撓性の帯状ガラス基体（１３４）を設ける工程を備える。連続した可撓性の帯状ガラス基体は、該可撓性の帯状ガラス基体によって構成される平面によって分けられた第１の面および第２の面を有する。連続した可撓性の帯状ガラス基体の移動中に、偏光層を形成するために、偏光材料適用装置によって、可撓性の帯状ガラス基体の第１の面および第２の面の一方に液状の偏光材料（１４２）が適用される。タッチセンサ式ディスプレイ用のタッチ層を形成するために、可撓性の帯状ガラス基体の第１の面および第２の面の一方に導電性材料（１５０）が適用される。

Description

優先権の主張

本願は、２０１３年６月１０日に出願された米国仮特許出願第６１／８３３１６８号よる優先権を主張するものであり、その内容に依拠すると共に、その全体を参照して本明細書に組み込む。

本開示は、光学的構造体に関し、特に、構成要素層が統合された可撓性ガラス基体に関する。

タッチディスプレイを用いた、タッチ機能が組み込まれたモバイル機器がますます増えている。タッチディスプレイは、複数の膜および／または物理的に区別できる素子を用いて構築されるのが一般的である。例えば、表示装置にタッチセンサ素子が取り付けられ得る。タッチセンサ素子からの入力を制御装置が受け付けて、タッチセンサ素子のタッチ位置を決定してもよく、表示装置を用いてユーザに対して情報を表示するために用いられ得る出力を供給することができる。可撓性ガラス基体上にタッチ構成要素および偏光構成要素の両方が統合された、統合型の光学的構造体が望まれる。

光学的構造体におけるタッチ機能を改善するための技術の一つは、タッチ構成要素および偏光構成要素の一方または両方を可撓性ガラス基体上に組み込むことであり、この技術では、少なくとも偏光構成要素はコーティングを用いて作製される。これにより、例えば、ロール・トゥ・ロールプロセスにおける可撓性帯状ガラスの連続処理を容易にすることができる。

更なる特徴および長所は、以下の詳細な説明で述べられると共に、部分的には、その説明から当業者に自明であり、或いは、明細書および添付の図面に例示されているように本開示を実施することによって認識される。上記の概要説明および以下の詳細説明は、どちらも本開示の単なる例示であり、特許請求される本開示の性質および特徴を理解するための概観または枠組みを提供することを意図したものであることを理解されたい。

添付の図面は、本開示の原理の更なる理解を提供するために含まれるものであり、本明細書に組み込まれてその一部を構成するものである。これらの図面は１以上の実施形態を示しており、本明細書と共に本開示の原理および作用を例として説明するものである。なお、本明細書および図面に開示される本開示の様々な特徴は、あらゆる組み合わせで用いられ得るものであることを理解されたい。限定しない例として、本開示の様々な特徴は、以下の態様に従って互いに組み合わされてもよい。

第１の態様によれば、光学的構造体を連続製造プロセスで形成する方法は、０．３ｍｍ以下の厚さを有する連続した可撓性の帯状ガラス基体であって、該可撓性の帯状ガラス基体によって構成される平面によって分けられた第１の面および第２の面を有する連続した可撓性の帯状ガラス基体を設ける工程と、連続した可撓性の帯状ガラス基体の移動中に、偏光層を形成するために、偏光材料適用装置によって、可撓性の帯状ガラス基体の第１の面および第２の面の一方に液状の偏光材料を適用する工程と、タッチセンサ式ディスプレイ用のタッチ層を形成するために、可撓性の帯状ガラス基体の第１の面および第２の面の一方に導電性材料を適用する工程とを有してなる。

第２の態様によれば、液状の偏光材料が、二色性染料を含有する液体を含む、態様１の方法が提供される。

第３の態様によれば、導電性材料が酸化インジウムスズまたは銀のナノワイヤを含む、態様１または態様２の方法が提供される。

第４の態様によれば、導電性材料が透明である、態様１〜３のいずれか１つの方法が提供される。

第５の態様によれば、偏光構成要素を形成するために液状の偏光材料を配向する工程を更に有する、態様１〜４のいずれか１つの方法が提供される。

第６の態様によれば、第１の面および第２の面の一方にリターデーション材料を適用する工程を更に有する、態様１〜５のいずれか１つの方法が提供される。

第７の態様によれば、リターデーション材料が、可撓性の帯状ガラス基体の第１の面において偏光層と可撓性の帯状ガラス基体との間に配置されたリターデーション層を形成する、態様６の方法が提供される。

第８の態様によれば、タッチ層が、可撓性の帯状ガラス基体の第２の面に配置される、態様７の方法が提供される。

第９の態様によれば、リターデーション材料がリターデーション層を形成し、可撓性の帯状ガラス基体と偏光層との間に偏光層が配置される、態様６の方法が提供される。

第１０の態様によれば、偏光層が、可撓性の帯状ガラス基体の第１の面に配置され、タッチ層が、可撓性の帯状ガラス基体の第２の面に配置される、態様１〜９のいずれか１つの方法が提供される。

第１１の態様によれば、偏光層およびタッチ層の両方が可撓性の帯状ガラス基体の第１の面に配置される、態様１〜６のいずれか１つの方法が提供される。

第１２の態様によれば、タッチ層が、可撓性の帯状ガラス基体と偏光層との間に配置される、態様１１の方法が提供される。

第１３の態様によれば、可撓性の帯状ガラス基体の第１の面にリターデーション層を適用する工程を更に備え、タッチ層および偏光層が、リターデーション層と可撓性の帯状ガラス基体との間に配置される、態様１２の方法が提供される。

第１４の態様によれば、偏光層が、タッチ層と可撓性の帯状ガラス基体との間に配置される、態様１１の方法が提供される。

第１５の態様によれば、光学的構造体は、０．３ｍｍ以下の厚さを有する可撓性ガラス基体であって、該可撓性ガラス基体によって構成される平面によって分けられた第１の面および第２の面を有する可撓性ガラス基体と、可撓性ガラス基体の第１の面および第２の面の一方にある、偏光層を形成する偏光材料のコーティングであって、二色性染料を含有する液体で構成される偏光材料のコーティングと、可撓性ガラス基体の第１の面および第２の面の一方にある、タッチセンサ式ディスプレイ用のタッチ層を形成する導電性材料とを備える。

第１６の態様によれば、導電性材料が酸化インジウムスズまたは銀のナノワイヤを含む、態様１５の光学的構造体が提供される。

第１７の態様によれば、導電性材料が透明である、態様１５または態様１６の光学的構造体が提供される。

第１８の態様によれば、第１の面および第２の面の一方にリターデーション材料を更に備える、態様１５〜１７のいずれか１つの光学的構造体が提供される。

第１９の態様によれば、リターデーション材料が、可撓性ガラス基体の第１の面において偏光層と可撓性ガラス基体との間に配置されたリターデーション層を形成する、態様１８の光学的構造体が提供される。

第２０の態様によれば、タッチ層が、可撓性の帯状ガラス基体の第２の面に配置される、態様１９の光学的構造体が提供される。

第２１の態様によれば、リターデーション材料がリターデーション層を形成し、可撓性の帯状ガラス基体と偏光層との間に偏光層が配置される、態様１８の光学的構造体が提供される。

第２２の態様によれば、偏光層が、可撓性の帯状ガラス基体の第１の面に配置され、タッチ層が、可撓性の帯状ガラス基体の第２の面に配置される、態様１５〜２１のいずれか１つの光学的構造体が提供される。

第２３の態様によれば、偏光層およびタッチ層の両方が可撓性の帯状ガラス基体の第１の面に配置される、態様１５〜１９のいずれか１つの光学的構造体が提供される。

第２４の態様によれば、タッチ層が、可撓性の帯状ガラス基体と偏光層との間に配置される、態様２３の光学的構造体が提供される。

第２５の態様によれば、可撓性の帯状ガラス基体の第１の面にリターデーション層を更に備え、タッチ層および偏光層が、リターデーション層と可撓性の帯状ガラス基体との間に配置される、態様２４の光学的構造体が提供される。

第２６の態様によれば、偏光層が、タッチ層と可撓性の帯状ガラス基体との間に配置される、態様２３の光学的構造体が提供される。

本開示の上記および他の特徴、態様、および長所は、以下の本開示の詳細な説明を添付の図面と共に読めば、よりよく理解される。

本開示の態様によるタッチディスプレイを形成する際に用いられる光学的構造体の実施形態を示す 本開示の態様によるタッチディスプレイを形成する際に用いられる光学的構造体の別の実施形態を示す 本開示の態様によるタッチディスプレイを形成する際に用いられる光学的構造体の別の実施形態を示す 本開示の態様によるタッチディスプレイを形成する際に用いられる光学的構造体を形成するための例示的な方法を示す 本開示の態様によるタッチディスプレイを形成する際に用いられる光学的構造体を形成するためのプロセスおよび装置の実施形態を模式的に示す 本開示の態様によるタッチディスプレイを形成する際に用いられる光学的構造体の別の実施形態を示す 本開示の態様によるタッチディスプレイを形成する際に用いられる光学的構造体の別の実施形態を示す 本開示の態様によるタッチディスプレイを形成する際に用いられる光学的構造体の別の実施形態を示す

以下の詳細な説明では、限定ではなく説明の目的で、本開示の様々な原理の完全な理解を提供するために具体的な詳細を開示する例示的な実施形態を述べる。しかし、本開示の利益を享受した当業者には、本開示が、本明細書に開示された具体的な詳細とは異なる他の実施形態で実施され得ることは自明である。更に、本開示の様々な原理の記載を不明瞭にしないために、周知の装置、方法および材料の説明は省略され得る。最後に、当てはまる場合には、類似の参照番号は類似の要素を示す。

本明細書において、範囲は、“約”１つの特定の値からの範囲として、および／または、“約”別の特定の値までの範囲として表すことができる。そのような範囲が表現された場合には、もう１つの実施形態は、１つの特定の値から、および／または、別の特定の値までを含む。同様に、値が、先行する“約”を用いることによって近似値として表現された場合には、その特定の値はもう１つの実施形態を構成することを理解されたい。更に、各範囲の終点は、他方の終点と関連した意味、および他方の終点から独立した意味の両方を表すことを理解されたい。

本明細書で用いる方向を表す用語（例えば、上、下、右、左、前、後、上部、下部等）は、単に描かれた図面を参照したものであり、絶対的な向きを暗示することは意図しない。

特に明記しない限り、本明細書で述べるいずれの方法も、その工程が特定の順序で行われることが必要であると解釈されることは決して意図しない。従って、方法クレームが、その工程が従う順序を実際に記載していない場合、または、特許請求の範囲や明細書において、それらの工程が特定の順序に限定されることが別様で具体的に述べられていない場合には、いかなる点においても、或る順序が推論されることは決して意図しない。このことは、工程または動作フローの構成に関する論理の問題、文法的な秩序や句読点から生じる通常の意味、明細書に記載されている実施形態の数またはタイプを含む、あり得るいかなる非明示的な解釈の基準に対しても適用される。

本明細書で用いる名詞は、文脈において特に明記しない限り、複数の指示対象も含む。従って、例えば、“構成要素”という場合には、文脈において特に明記しない限り、そのような構成要素を２以上有する態様を含む。

本明細書に記載される実施形態は、一般的には、可撓性ガラス基体上にタッチ構成要素および偏光構成要素の両方が統合された光学的構造体であって、少なくとも偏光構成要素は、予め形成された膜材料ではなくコーティングを用いて可撓性ガラス基体上に形成された、光学的構造体に関する。偏光構成要素は、例えば、水溶液の形態の液晶相を示す二色性染料溶液であり得る。偏光コーティングを用いることにより、例えば、可撓性ガラス基体のロールまたは他の形態の比較的高速の連続供給を用いた、光学的構造体の連続形成が可能になる。

図１を参照すると、光学的構造体１０は、可撓性ガラス基体１４を含むガラス層１２を含み、可撓性ガラス基体１４の一方の面２０には、偏光構成要素１８を含む偏光層１６がコーティングされており、可撓性ガラス基体１４の反対側の面２６には、タッチ構成要素２４を含むタッチ層２１が適用されている。可撓性ガラス基体１４は薄くてもよく（例えば、約０．３ｍｍ未満）、可撓性ガラス基体１４は、より高い処理温度、略ゼロの複屈折（リターデーションが約１０ｎｍ未満）、および無彩色の点で、標準的なポリマー基体よりも有利であり得る。

可撓性ガラス基体１４は、約０．３ｍｍ以下の厚さを有し得る（例えば、約０．０１〜０．０５ｍｍ、約０．０５〜０．１ｍｍ、約０．１〜０．１５ｍｍ、約０．１５〜０．３ｍｍ、０．３、０．２７５、０．２５、０．２２５、０．２、０．１９、０．１８、０．１７、０．１６、０．１５、０．１４、０．１３、０．１２、０．１１、０．１０、０．０９、０．０８、０．０７、０．０６、０．０５、０．０４、０．０３、０．０２、または０．０１ｍｍの厚さを含むが、上記に限定されない）。可撓性ガラス基体１４は、ガラス、ガラスセラミック、セラミック材料、またはそれらの複合材料で形成され得る。様々な装置において、高品質の可撓性のシート状ガラスを形成するフュージョン法（例えば、ダウンドロー法）を用いることができ、そのような用途の１つはフラットパネルディスプレイである。フュージョン法で製造されるシート状ガラスは、他の方法で製造されたシート状ガラスと比べて、平面性および平滑性に優れた表面を有する。フュージョン法については、米国特許第３，３３８，６９６号および同第３，６８２，６０９号の各明細書に記載されている。他の適切なシート状ガラス形成方法としては、フロート法、アップドロー法、およびスロットドロー法が挙げられる。更に、米国特許出願公開第２０１２／００３４４３５Ａ１号明細書に更に記載されているように、可撓性ガラス基体１４は、表面に０〜０．０４７μｇ／ｃｍ^２より大きい範囲のＡｇイオン濃度を有するガラス用の化学組成を用いることにより、抗菌特性を含んでもよい。米国特許出願公開第２０１１／００８１５４２Ａ１号明細書に更に記載されているように、可撓性ガラス基体１４には、所望の抗菌特性を得るために、銀から成るグレーズがコーティングされてもよく、または別様で銀イオンが添加されてもよい。更に、可撓性ガラス基体１４は、所望の抗菌効果を達成するために、５０％のＳｉＯ_２、２５％のＣａＯ、および２５％のＮａ_２Ｏのモル組成を有してもよい。

偏光構成要素１８は、可撓性ガラス基体１４の面２０に、直接、または例えば偏光構成要素１８と面２０との間に中間層を有してコーティング可能な任意の適切な材料で形成されてよい。例えば、偏光構成要素１８の形成には、二色性染料を含有する液体が用いられ得る。液晶相の染料分子溶液を用いて分子の方向を揃えることができ、これにより、偏光構成要素の形成を簡単にすることができる。二色性染料の例は、米国特許第６,０４９,４２８号明細書に見出すことができ、また、アントラキノン系、アゾ系、アゾメチン系、ベンジジン系、インディゴ系、メロシアニン系、ペリレン系、キノン系、キノフタロン系、スチルベン系、スチリル系、およびテトラジン系も挙げられる。二色性染料を含有する液体は、二色性染料に加えて、例えばディスプレイの所望の光学特性に応じて、接着性および／または靱性増加剤、レオロジー調整剤、可塑剤、界面活性剤、平滑化剤等の添加剤を含んでもよい。可撓性ガラス基体１４に二色性染料を含有する液体をコーティングするためには、スピンコーティング、フローコーティング、ディップコーティング、スロットダイコーティング、およびスプレーコーティング等の任意の適切な方法を用いてよい。

タッチ構成要素２４は、可撓性ガラス基体１４の反対側の面２６に適用されてもよい。しかし、他の構成も可能であり、それらについては後述する。タッチ構成要素２４は、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）または他の任意の適切な透明な導電性材料等といった透明な導電性材料を含み得る。タッチパターンは、１つの導電性の平面でＸ位置およびＹ位置の検出を可能にするものであり得る。電極は、一例として、エッチングプロセスおよび／またはステレオリソグラフィーを用いて設けられてもよく、静電容量型タッチスクリーン機能を提供してもよい。導電性材料を適用するために、真空スパッタリング装置、電子ビーム蒸着装置、またはコーティング装置等の任意の適切な方法を用いてよい。

図２を参照すると、光学的構造体３０の別の実施形態は、可撓性ガラス基体３４を含むガラス層３２、並びに、可撓性ガラス基体３４の一方の面４０にコーティングされた偏光構成要素３８を含む偏光層３６、および、可撓性ガラス基体３４の反対側の面４６に適用されたタッチ構成要素４４を含むタッチ層４２を含む、上述の層の多くを含む。この例示的な実施形態では、偏光層３６の面５０にリターデーション層４８（例えば、５５０ｎｍで約１／４λ）が適用される。リターデーション層４８は、更に偏光を制御するために偏光光の相対位相を変えるために用いられ得る。リターデーション層４８を形成する例示的な材料は、液晶ポリマーおよび無機化合物を含む。リターデーション層４８は、スロットダイコーティング、ディップコーティング、カーテンコーティング、および真空蒸着等の任意の適切なプロセスによって適用されてよい。図３は、光学的構造体６０の別の実施形態を示しており、ここでは、偏光層６４と可撓性ガラス基体６６との間にリターデーション層６２が適用され、上述したように、可撓性ガラス基体６６の反対側の面にはタッチ層６８が適用されている。

ここで、タッチディスプレイに用いられる光学的構造体の製造方法について説明する。図４は例示的な方法の工程を表しているが、図示されている工程は、特に明記しない限り異なる順序で実行されてもよいことを理解されたい。更に、特に明記しない限り、図示されていない追加の工程も設けられ得る。図４に示されるように、この方法は、任意に、１００において、約３００μｍ以下（例えば、約２００μｍ以下、約１００μｍ以下、約５０μｍ以下等）の厚さを有する可撓性ガラス基体を設けるステップ１０２で開始し得る。可撓性ガラス基体には、ソーダ石灰ガラス、ホウケイ酸、およびアルカリ土類アルミノホウケイ酸を含む様々なガラス群から選択されるガラスが設けられ得るが、更に別の例では他のガラス組成が用いられてもよい。

ステップ１０４で、偏光構成要素を形成するために、可撓性ガラス基体の広い表面に二色性染料を含有する液体が適用され得る。１つの偏光構成要素（図１）のみを形成するために、二色性染料を含有する液体は、可撓性ガラス基体の一方の面に適用されてもよい。偏光層の厚さは、例えば、約０．０５〜５μｍであり得る。一部の実施形態では、二色性染料含有材料は、二色性染料を配向すると共に堆積させる配向層（例えば、ポリイミド）上に適用されてもよい。他の実施形態では、配向層は用いられなくてもよい。一部の実施形態では、ステップ１０６で、二色性染料を配向してその二色性を利用ためにガラスの表面を磨くことによって、偏光層を形成してもよい。研磨剤粒子を含む泡（フォーム）等の任意の適切な研磨剤を用いてよい。一部の実施形態では、偏光層に保護層が適用され得る。他の実施形態では、保護層は用いられなくてもよい。

ステップ１０８で、透明な導電性コーティングが、可撓性ガラス基体の反対側の広い表面（即ち、偏光層が配設された面とは反対側の面）に適用され得る。上記で示したように、透明な導電性コーティングは、ＩＴＯまたは銀のナノワイヤを含んでもよく、例えば、真空スパッタリングプロセス、またはタッチ構成要素用の透明な導電性コーティングを形成するのに適した他の任意のプロセスを用いて適用され得る。ステップ１１０で、エッチングプロセスまたは他の適切なプロセスを用いて、透明な導電性コーティングに電極パターンが形成され得る。

タッチ構成要素はコーティングとして形成される必要はないが、コーティングを用いると、ロールプロセスまたはファブリケーション（例えば、ダウンドロー）プロセス等の連続プロセスにおける光学的構造体の形成を容易にすることができる。例えば、図５は、可撓性ガラス基体の２つの例示的な供給源１２０を示しているが、他の供給源が設けられてもよい。例えば、供給源１２０は、ダウンドローガラス形成装置１２２を含み得る。模式的に示されているように、ダウンドローガラス形成装置１２２は、トラフ１２６の底部に形成ウェッジ１２４を含み得る。ガラスは、形成ウェッジ１２４の両面１２８および１３０を流れ下る。この溶融ガラスの２枚のシートは、その後、形成ウェッジ１２４のルート部１３２から離れる方向に延伸される際に略一体に融合する。従って、可撓性帯状ガラスの形態の可撓性ガラス基体１３４は、下向きの方向１３６に移動するようにフュージョンドローされて、形成ウェッジ１２４のルート部１３２から離れて、ダウンドローガラス形成装置の下流に配置された下向きのゾーン１３８に直接入り得る。

可撓性ガラス基体１３４には、形成後、更に切断、トリミング等の処理が施され得る。連続した可撓性の帯状ガラスの形態の可撓性ガラス基体１３４は、スロットダイコーティング装置、フローコーティング装置、ディップコーティング装置、および／またはスプレーコーティング装置等の偏光材料適用装置１４０に送られても、即ち向かってもよく、そこで、偏光材料１４２（例えば、二色性染料を含有する液体）が連続的または半連続的に可撓性ガラス基体１３４の広い表面に適用される。上記で示したように、一部の実施形態では、偏光材料１４２は、ガラスの表面に直接適用されてもよく、または、ガラスの表面にある配向層に適用されてもよい。偏光材料１４２を有する可撓性ガラス基体１３４は、処理ステーション１４４に向けられてもよく、そこで、偏光材料１４２が（加熱されることによって、および／または、冷却されることによって）硬化されることにより、偏光構成要素１４６が形成され得る。上記で示したように、一部の実施形態では、偏光構成要素１４６に保護層が適用されてもよい。偏光構成要素１４６を有する可撓性ガラス基体１３４は、真空スパッタリング装置またはコーティング装置等の導電性材料適用装置１４８に向かってもよく、そこで、導電性材料１５０（例えば、ＩＴＯを含む透明な導電性コーティング等）が連続的または半連続的に可撓性ガラス基体１３４の反対側の広い表面に適用される。偏光材料１４２および導電性材料１５０を有する可撓性ガラス基体１３４は、処理ステーション１５２に向かってもよく、そこで、導電性材料１５０に、加熱、冷却、およびパターン形成のうちの任意の処理が施されることにより、タッチ構成要素１５４が形成され得る。一部の実施形態では、可撓性ガラス基体１３４はまず導電性材料適用装置１４８に向かってもよく、次に（例えば、図５および図７の光学的構造体を形成するために）偏光材料適用装置１４０に向かってもよい。更に、導電性材料適用装置１４８および偏光材料適用装置１４０は可撓性ガラス基体１３４の互いに反対側にそれぞれ図示されているが、これらの装置は、これらの層を可撓性ガラス基体１３４の同じ側に同時に適用するために同じ側に配置されてもよく、両側に配置されてもよく、且つ／または、様々な層を適用するための複数の装置があってもよい。リターデーション層が適用される実施形態では、リターデーション層は、コーティングとして、または、膜材料として適用され得る。連続した帯状ガラスから個々の光学装置を分けるために、切断装置１５６が用いられてもよい。

図１〜図３は、偏光構成要素およびタッチ構成要素を可撓性ガラス基体の互いに反対側の面に有する光学的構造体を示している。しかし、他の構成も可能である。図６を参照すると、光学的構造体１６０の別の実施形態は、タッチ構成要素１６４を含むタッチ層１６２と、偏光構成要素１６８を含む偏光層１６６との両方を、可撓性ガラス基体１７０の同じ側の面に有している。この実施形態では、タッチ構成要素１６４は、可撓性ガラス基体１７０と偏光構成要素１６８との間に配置されている。一部の実施形態では、図７に示されるように、偏光層１６６にはリターデーション層１７４が適用され得る。図８では、光学的構造体１８０の実施形態は、タッチ構成要素１８４を含むタッチ層１８２と、偏光構成要素１８８を含む偏光層１８６との両方を、可撓性ガラス基体１９０の同じ側の面に有する。この実施形態では、偏光構成要素１８８は、可撓性ガラス基体１９０とタッチ構成要素１８４との間に配置される。図６〜図８の実施形態では、可撓性ガラス基体は、偏光構成要素およびタッチ構成要素に対する保護バリアを提供してもよい。

上記の光学的構造体は、本質的にゼロの複屈折、優れた光学的透明性、化学的安定性、および高温処理が可能であるという可撓性ガラス基体の性質に少なくとも部分的に起因して、偏光構成要素およびタッチ構成要素の両方を、単一の可撓性ガラス基体上に統合することができる。薄い可撓性ガラス基体を用いることにより、偏光コーティング材料を用いた連続（例えば、ロール・トゥ・ロール）処理が可能になる。可撓性ガラス基体の化学的安定性を高めることで、二色性染料液晶系の選択の幅を広げることができる。可撓性ガラス基体の複屈折が本質的にゼロであることにより、偏光光学構成要素としての性能を高めることができる。

上述の本開示の実施形態は、どの実施形態も、単に可能な実施の例であり、本開示の様々な原理の明確な理解のために述べられたものに過ぎないことが強調されるべきである。上述の本開示の実施形態には、本開示の趣旨および様々な原理から実質的に逸脱することなく、多くの変更および変形がなされ得る。そのような変形および変更の全ては、本開示および本開示の範囲に包含され、添付の特許請求の範囲によって保護されることが意図される。

Claims (6)

1. 連続製造プロセスにおいて光学的構造体を形成する方法であって、
   ０．３ｍｍ以下の厚さを有する連続した可撓性の帯状ガラス基体であって、該可撓性の帯状ガラス基体によって構成される平面によって分けられた第１の面および第２の面を有する連続した可撓性の帯状ガラス基体を設ける工程と、
   前記連続した可撓性の帯状ガラス基体の移動中に、偏光層を形成するために、偏光材料適用装置によって、前記可撓性の帯状ガラス基体の前記第１の面および前記第２の面の一方に液状の偏光材料を適用する工程と、
   タッチセンサ式ディスプレイ用のタッチ層を形成するために、前記可撓性の帯状ガラス基体の前記第１の面および前記第２の面の一方に導電性材料を適用する工程と
   を有してなることを特徴する方法。
2. 前記液状の偏光材料が、二色性染料を含有する液体を含む、請求項１記載の方法。
3. 偏光構成要素を形成するために、前記液状の偏光材料を配向する工程を更に有する、請求項１または２記載の方法。
4. 前記第１の面および前記第２の面の一方にリターデーション材料を適用する工程を更に有する、請求項１〜３のいずれか１つに記載の方法。
5. ０．３ｍｍ以下の厚さを有する可撓性ガラス基体であって、該可撓性ガラス基体によって構成される平面によって分けられた第１の面および第２の面を有する可撓性ガラス基体と、
   前記可撓性ガラス基体の前記第１の面および前記第２の面の一方にある、偏光層を形成する偏光材料のコーティングであって、二色性染料を含有する液体で構成される偏光材料のコーティングと、
   前記可撓性ガラス基体の前記第１の面および前記第２の面の一方にある、タッチセンサ式ディスプレイ用のタッチ層を形成する導電性材料と、
   を備えることを特徴とする光学的構造体。
6. 前記第１の面および前記第２の面の一方にリターデーション材料を更に備える、請求項５記載の光学的構造体。

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