JP2008194659A - 塗布膜の乾燥方法及び装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】塗布直後に乾燥ゾーン14を設けて、走行するウエブ12の乾燥される塗布膜面を囲むと共に、乾燥ゾーン14内では、ウエブ12の幅方向の一方端側から他方端側に流れる一方向流れの乾燥風を供給する正風ゾーン35に、ウエブ12を走行させて塗布膜面を乾燥する正風乾燥工程と、ウエブ12の幅方向の他方端側から一方端側に流れる一方向流れであって、正風ゾーン35とは逆向きの乾燥風を供給する逆風ゾーン37に、ウエブ12を走行させて塗布膜面を乾燥する逆風乾燥工程と、を行うことを特徴とする塗布膜の乾燥方法である。
【選択図】図2
Description
案した。この塗布方法及び装置は、塗布直後に乾燥ゾーンを設けて、前記走行する長尺状支持体の乾燥される塗布膜面を囲むと共に前記乾燥ゾーンに前記長尺状支持体幅方向の一方端側から他方端側に流れる一方向流れの乾燥風を発生させることで、塗布液の粘度等の物性や溶媒の種類を変更することなく塗布膜を均一に乾燥するものである。この乾燥方法及び装置により、上記した斑の発生を抑制できるとされている。
燥する無風乾燥工程を行うことを特徴とする。
(ウエブの下面側)に沿った長四角な箱体状に形成され、箱体の各辺のうちの塗布膜面側の辺(箱体の上辺)が切除されている。これにより、走行するウエブ12の乾燥される塗布膜面を囲む乾燥ゾーン14が形成される。乾燥ゾーン14は、乾燥装置本体16を、ウエブ12の走行方向に直交した複数の仕切板28、28・・・で仕切ることにより、複数の分割ゾーン14A、14B、14C、14D、14E、14F、14G(本実施例では7つの分割ゾーン)に分割される。そして、本実施例においては、正風ゾーンと逆風ゾーンが交互に配置されており、さらに、正風ゾーンと逆風ゾーンの間に無風ゾーンが配置されている。つまり、14A、14Eが正風ゾーン35、14B、14D、14Fが無風ゾーン36、14C、14Gが逆風ゾーン37を構成している。この場合、乾燥ゾーン14を分割する仕切板28の上端と、ウエブ12に形成された塗布膜面との距離は、0.5mm〜12mmの範囲が好ましく、更に好ましくは1mm〜10mmの範囲である。正風ゾーン35には、ウエブ12の一方端側から他方端側に流れる一方向流れの乾燥風を発生させる一方向気流発生手段18が設けられている。また、逆風ゾーン37には、ウエブ12の他方端側から一方端側に流れる一方向流れの乾燥風を発生させる一方向気流発生手段19が設けられている。ただし、無風ゾーンにおいては、風を供給しなければ、本発明の乾燥方法により乾燥することができるため、無風ゾーンにおいて、一方向気流発生手段を設けることも可能である。また、本実施例においては、正風ゾーン35、無風ゾーン36、逆風ゾーン37を図1のような構成にしたが、塗布液の種類、乾燥のしやすさ等により、適宜変更が可能である。本実施例においては、分割ゾーン毎に異なる乾燥ゾーンとしたが、二つ以上続けて同種のゾーンとすることもできる。
、より好ましくは80mm以上1200mm以下である。無風ゾーン36の長さを上記範囲とすることにより、正風ゾーンと逆風ゾーンの乾燥風が混合することなく、一方向流れの乾燥風を供給することができる。無風ゾーンの長さを長くすると、乾燥が遅くなるため好ましくない。
層を有するものであると共に、塗布液は液晶性ディスコティック化合物を含む有機溶剤性塗布液の例で説明する。
ある。
固形分量(%)=固形分/(揮発分+固形分)×100
である。固形分及び(揮発分+固形分)は、重量測定により、以下の式(1)及び式(2)により求めることができる。
固形分=[A:乾燥終了した膜の重量]−[B:塗布前の支持体の重量]・・・(1)
揮発分+固形分=[C:ある乾燥ゾーンでサンプルした膜の重量]−[B:塗布前の支持体の重量] ・・・(2)
したがって、あるゾーンでサンプルを採取した時に
A:揮発分の沸点以上で絶乾させた重量、
B:Aを脱膜して測った重量、
C:サンプルしてすぐに測った重量、
を各々測定することにより固形分量を得ることができる。
次に、本発明で使用される塗布液について説明する。本発明の塗布膜の乾燥方法に用いられる塗布液は、特に限定されず用いることができる。しかし、好ましくは、塗布液中のフルオロ脂肪族基含有ポリマーの濃度C質量%と、フルオロ脂肪族基含有ポリマーに起因するフッ素含量F質量%との積C×Fが0.05〜0.12であるときの前記塗布液の最大泡気圧法にて測定した10m秒と1000m秒との表面張力比(塗布後10m秒における表面張力/塗布後1000m秒後の表面張力)が1.00〜1.20を満たすことが好ましい。塗布液の表面張力を適切に調整することにより、塗布液のレベリング性を向上させることができるため、表面張力比を上記範囲とすることにより、光学異方性層に好適に用いることができる。
R1は水素原子又はメチル基を表し、Xは酸素原子、イオウ原子又は−N(R2)−を表し、mは1以上6以下の整数、nは2〜4の整数を表す。R2は水素原子または炭素数1〜4のアルキル基、具体的にはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基を表し、好ましくは水素原子又はメチル基である。Xは酸素原子が好ましい。
液晶性化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類及びアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。
ディスコティック液晶性化合物には、C.Destradeらの研究報告(Mol.Cryst.71巻、111頁(1981年))に記載されているベンゼン誘導体、C.Destradeらの研究報告(Mol.Cryst.122巻、141頁(1985年)、Physics lett,A,78巻、82頁(1990))に記載されているトルキセン誘導体、B.Kohneらの研究報告(Angew.Chem.96巻、70頁(1984年))に記載されたシクロヘキサン誘導体及びJ.M.Lehnらの研究報告(J.C.S.,Chem.Commun.,1794頁(1985年))、J.Zhangらの研究報告(J.Am.Chem.Soc.116巻、2655頁(1994年))に記載されているアザクラウン系やフェニルアセチレン系マクロサイクルが含まれる。
塗布時のハジキを防止するために、ハジキ防止剤を液晶性化合物、特にディスコティック液晶性化合物とともに使用できる。ハジキ防止剤は、液晶性化合物と相溶性を有し、液晶性化合物のチルト角変化や配向を著しく阻害しない高分子化合物(ポリマー)であれば特に制限はない。
配向膜側表面の傾斜角を制御する添加剤として、分子内に極性基と非極性基の双方を有する化合物を光学異方性層中に添加することができる。
液晶性化合物の分子を配向状態に固定して光学異方性層を形成することが好ましい。配向状態を固定する方法としては、重合反応を利用するのが好ましい。重合反応には、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と光重合開始剤を用いる光重合反応とが含まれるが、熱により支持体等が変形、変質するのを防ぐためにも、光重合反応が好ましい。
光学異方性層形成用の組成物には、液晶性化合物とともに重合性モノマーを含んでもよい。本発明に使用できる重合性モノマーとしては、液晶性化合物と相溶性を有し、液晶性化合物のチルト角変化や配向阻害を著しく引き起こさない限り、特に限定はない。これらの中では重合活性なエチレン性不飽和基、例えばビニル基、ビニルオキシ基、アクリロイル基およびメタクリロイル基などを有する化合物が好ましく用いられる。上記重合性モノマーの添加量は、液晶性化合物に対して一般に1〜50質量%の範囲にあり、5〜30質量%の範囲にあることが好ましい。また反応性官能基数が2以上のモノマーを用いると、配向膜と光学異方性層間の密着性を高める効果が期待できるため、特に好ましい。
光学異方性層形成用の組成物には、本発明に係るフルオロ脂肪族基含有ポリマーが含まれているが、更に別のポリマーをディスコティック液晶性化合物とともに使用してもよい。そのポリマーとしては、ディスコティック液晶性化合物とある程度の相溶性を有し、ディスコティック液晶性化合物に傾斜角の変化を与えられることが好ましい。
光学異方性層形成用の組成物は、塗布液として調製できる。塗布液の調製に使用する溶媒としては、有機溶媒が好ましい。
本発明の乾燥方法により形成された塗布膜は、ESCA法により測定したフッ素原子存在率(F/C)を前記塗布膜の空気界面において100とした場合に空気界面から深さ方向に10nmの位置でのフッ素原子存在率(F/C)が2〜10であることが好ましい。塗布膜の表面のフッ素濃度を高くし、さらに、塗布膜の内部においても、フッ素を含ませることにより、外観特性の良好な塗布膜を形成することができる。
本発明の乾燥装置を用いて、0.01〜0.5m/sの風速で表の実施例1〜6、比較例1〜2の条件で乾燥を行い、塗膜の斑の発生を確認した。風速はライン停止状態で風速計を360度回転させて最大になる値で測定した。
を行なう乾燥ゾーン46、加熱ゾーン48、紫外線ランプ50を通過して巻取機52で巻き取られる。
◎・・・斑が発生しなかった
○・・・斑が僅かに発生するが品質上全く問題にならないレベルの斑である
△・・・斑は発生するが品質上問題にならないレベルの斑である
×・・・斑の発生が見られた
(乾燥状態)
◎・・・乾燥ゾーン出口で完全に乾いている
○・・・塗布耳部〜3mmの耳部が乾燥不完全だが塗布膜全体は乾燥している
×・・・全体的に乾燥が不充分である
(総合判定)
◎・・・製品として許容でき極めてよい面状である
○・・・製品として許容でき更によい面状である
△・・・製品として許容できる
×・・・製品として許容できない
その結果、図6から分かるように、乾燥風が一方端側から他方端側にのみ供給される比較例1および比較例2は、乾燥風の給気側の支持体の乾燥風の給気側部分の乾燥が不完全であった。また、無風ゾーンの長い実施例2は、乾燥がやや不充分であり、ムラの発生が確認された。
図7に示す組成を用いて、メチルエチルケトンに溶解し、塗布液を調整した。ディスコティック液晶性化合物は、下記のディスコティック液晶性化合物(1)を用いた。また、フルオロ脂肪族基含有ポリマーは下記の化合物(P−0)から(P−4)の化合物を用いて塗布液を調整した。
本発明の乾燥装置を用いて実施例7、比較例3、4の塗布液を用いて塗布膜の形成、乾燥を行った。塗布膜の形成条件は、ウエブを走行速度30m/分で走行させながら、塗布液量がウエブ1m2当たり5ml〜7mlになるように行った。乾燥後のフッ素原子存在比率をESCA分析により測定した。結果を図9に示す。なお、フッ素濃度はESCA分析により測定した。測定には、JEOL製JPS−9000MXを用いて行った。また、図9における外観特性については、以下の基準により評価した。
作製した光学フィルムを、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、ポリマー基材(TACフィルム)面で偏光子の片側に貼り付けた。また、厚さ80μmのトリアセチルセルロースフィルム(TD−80U:富士写真フイルム(株)製)にケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光子の反対側に貼り付けた。
上記偏光板を平面高輝度光源(群馬ウシオ電機製 FP901高輝度平面光源)に貼合し、判断基準となるレベル見本と対比させて、肉眼によりムラを評価した。
○・・・レベル見本同等以上に優れる
×・・・レベル見本より劣る
その結果、フルオロ脂肪族基含有ポリマーとして、化合物(P-3)を含む塗布液を用いた実施例16は、形成された塗布膜表面のフッ素濃度が100%であり、かつ、深さ方向に対しても、塗布膜内部にフッ素を含んでおり、外観特性の良好な塗布膜が得られた。化合物(P−2)を用いた比較例2および化合物(P−1)を用いた比較例3は、フッ素が、表面のみに存在する、または、表面のフッ素濃度が100%でないため、外観特性が良好ではなかった。
Claims (10)
- 走行する長尺状支持体に有機溶剤を含む塗布液を塗布して形成した塗布膜の乾燥方法において、
前記塗布直後に乾燥ゾーンを設けて、前記走行する長尺状支持体の乾燥される塗布膜面を囲むと共に、前記乾燥ゾーン内では、
前記長尺状支持体幅方向の一方端側から他方端側に流れる一方向流れの乾燥風を供給する正風ゾーンに、前記長尺状支持体を走行させて前記塗布膜面を乾燥する正風乾燥工程と、
前記長尺状支持体幅方向の他方端側から一方端側に流れる一方向流れであって、前記正風ゾーンとは逆向きの乾燥風を供給する逆風ゾーンに、前記長尺状支持体を走行させて前記塗布膜面を乾燥する逆風乾燥工程と、行うことを特徴とする塗布膜の乾燥方法。 - 前記正風乾燥工程と前記逆風乾燥工程とを交互に複数回行うことを特徴とする請求項1記載の塗布膜の乾燥方法。
- 前記正風乾燥工程と前記逆風乾燥工程との間において、乾燥風を吹かない無風ゾーンに前記長尺状支持体を走行させて前記塗布膜面を乾燥する無風乾燥工程を行うことを特徴とする請求項1または2記載の塗布膜の乾燥方法。
- 前記無風ゾーンの長さが、前記長尺状支持体の走行方向において80mm以上2000mm以下であることを特徴とする請求項3記載の塗布膜の乾燥方法。
- 前記乾燥される塗布膜は、光学補償シートを製造する際に、ラビング処理が施された配向膜上に塗布された液晶層用の塗布液であることを特徴とする請求項1から4いずれかに記載の塗布膜の乾燥方法。
- 前記塗布液が、下記(i)のモノマーから導かれる繰り返し単位を含むフルオロ脂肪族基含有ポリマーを含有するとともに、該フルオロ脂肪族基含有ポリマーが下記(ii)の条件を満たすことを特徴とする請求項1から5いずれか記載の塗布膜の乾燥方法。
(i)末端構造が−(CF2CF2)3Fで表される第1のフルオロ脂肪族基含有モノマーと、末端構造が−(CF2CF2)2Fで表される第2のフルオロ脂肪族基含有モノマーと、を含むフルオロ脂肪族基含有共重合体である。
(ii)前記塗布液中の前記フルオロ脂肪族基含有ポリマーの濃度C質量%と該フルオロ脂肪族基含有ポリマー中のフッ素含量F%との積C×Fが0.05〜0.12であるときの前記塗布液の最大泡気圧法にて測定した10m秒と1000m秒との表面張力比(塗布後10m秒における表面張力/塗布後1000m秒後の表面張力)が1.00〜1.20である。 - 形成された前記塗布膜は、ESCA法により測定したフッ素原子存在率(F/C)を前記塗布膜の空気界面において100とした場合に空気界面から深さ方向に10nmの位置でのフッ素原子存在率(F/C)が2〜10であることを特徴とする請求項1から6いずれか記載の塗布膜の乾燥方法。
- 走行する長尺状支持体に塗布機により有機溶剤を含む塗布液を塗布して形成した塗布膜の乾燥装置において、
前記塗布機の直後に設けられ、前記走行する長尺状支持体の乾燥される塗布膜面を囲む乾燥ゾーンを形成する乾燥装置本体と、
前記乾燥装置本体内を前記長尺状支持体の走行方向に複数のゾーンに分割する仕切板と、を備え、
前記分割された複数のゾーンは、
前記長尺状支持体幅方向の一方端側から他方端側に流れる一方向流れの乾燥風を発生させる一方向気流発生手段を備えた正風ゾーンと、
前記長尺状支持体幅方向の他方端側から一方端側に流れる一方向流れであって、前記正風ゾーンとは逆向きの乾燥風を発生させる一方向気流発生手段を備えた逆風ゾーンと、で構成されることを特徴とする塗布膜の乾燥装置。 - 前記正風ゾーンと前記逆風ゾーンとが交互に複数配設されていることを特徴とする請求項8記載の塗布膜の乾燥装置。
- 前記正風ゾーンと前記逆風ゾーンとの間に、乾燥風を吹かない無風ゾーンを配設したことを特徴とする請求項8または9記載の塗布膜の乾燥装置。
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