JP4991004B2 - Conveying apparatus and vacuum processing apparatus - Google Patents

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Description

本発明は、基板の搬送装置、及び真空処理装置に関する。 The present invention includes a transport device for the substrate, and relates to a vacuum processing equipment.

大型FPD(Flat Panel Display )の製造工程においては、基板に対する成膜処理や加熱処理を実施するための各種の真空処理装置が利用されている。真空処理装置においては、基板のサイズに応じた真空空間が必要とされることから、基板サイズの大型化が進むに従い、真空空間を形成するために多大な時間が費やされてしまう。そこで、真空処理装置では、従来から、真空空間の形成頻度を低減させるため、複数の処理室の各々を互いに連通可能な真空空間で構成する提案がなされている。   In a manufacturing process of a large FPD (Flat Panel Display), various vacuum processing apparatuses for performing film forming processing and heat processing on a substrate are used. In the vacuum processing apparatus, a vacuum space corresponding to the size of the substrate is required. Therefore, as the substrate size increases, a great amount of time is consumed to form the vacuum space. Therefore, conventionally, in order to reduce the formation frequency of the vacuum space, a vacuum processing apparatus has been proposed in which each of the plurality of processing chambers is configured as a vacuum space that can communicate with each other.

特許文献1に記載する真空処理装置は、1つの列方向に沿って連結された複数の処理室と、各処理室を貫通して該列方向に延びる一対の搬送路と、一方の搬送路(往路)にある搬送トレーを他方の搬送路(復路)へ搬送する搬送室とを備えている。この真空処理装置は、往路上で搬送トレーを往動させた後、往路上の搬送トレーを復路上へ搬送し、復路上で該搬送トレーを復動させる。これによって、特許文献1に記載する真空処理装置は、連通可能な複数の真空空間で順に異なる処理工程を実行できる。
特開2007‐39157号公報
The vacuum processing apparatus described in Patent Document 1 includes a plurality of processing chambers connected along one row direction, a pair of transfer paths that extend through the process chambers in the row direction, and one transfer path ( A transport chamber for transporting the transport tray in the forward path to the other transport path (return path). In this vacuum processing apparatus, after the transport tray is moved forward on the forward path, the transport tray on the forward path is transported to the return path, and the transport tray is moved back on the return path. Thereby, the vacuum processing apparatus described in Patent Document 1 can execute different processing steps in order in a plurality of communicated vacuum spaces.
JP 2007-39157 A

図4(a)〜(d)及び図5(a)〜(d)は、それぞれ特許文献1に記載する真空処理装置の搬送工程を模式的に示す図である。搬送室50には、搬送トレー51を昇降させる昇降機構52と、搬送トレー51を搬送路上で非接触的に保持する保持機構53と、往路R1と復路R2との間で搬送トレー51をスライドさせるスライド機構54とが配設されている。   4 (a) to 4 (d) and FIGS. 5 (a) to 5 (d) are diagrams each schematically showing a transfer process of the vacuum processing apparatus described in Patent Document 1. FIG. In the transfer chamber 50, a lifting mechanism 52 that raises and lowers the transfer tray 51, a holding mechanism 53 that holds the transfer tray 51 in a non-contact manner on the transfer path, and a slide between the forward path R <b> 1 and the return path R <b> 2. A slide mechanism 54 is provided.

図4(a)において、搬送室50には、まず、基板を立てた状態で支持する搬送トレー51が往路R1に沿って搬入される。搬送室50は、以下に示すように、搬送トレー51の昇降動作と、搬送トレー51の保持動作とを同期させることにより、搬送工程における基板位置の安定化を図っている。   4A, first, a transport tray 51 that supports a substrate in a standing state is carried into the transport chamber 50 along the forward path R1. The transfer chamber 50 stabilizes the substrate position in the transfer process by synchronizing the lifting and lowering operation of the transfer tray 51 and the holding operation of the transfer tray 51 as described below.

すなわち、図4(b)において、搬送トレー51が搬入されると、昇降機構52と保持機構53とが、搬送トレー51と保持磁石53aとの間の距離を維持しながら、搬送トレー51と保持磁石53aとを一旦上昇させて、搬送トレー51を往路R1から離脱させる。搬送トレー51が往路R1から離脱すると、図4(c)に示すように、スライド機構54が、トレーステージ54fをスライドさせて、搬送トレー51に設けられた突片51aの下方へフック54aを配置する。   That is, in FIG. 4B, when the transport tray 51 is carried in, the lifting mechanism 52 and the holding mechanism 53 hold the transport tray 51 while maintaining the distance between the transport tray 51 and the holding magnet 53a. The magnet 53a is once raised, and the transport tray 51 is separated from the forward path R1. When the transport tray 51 is separated from the forward path R1, as shown in FIG. 4C, the slide mechanism 54 slides the tray stage 54f and arranges the hooks 54a below the projecting pieces 51a provided on the transport tray 51. To do.

図4(d)において、フック54aが突片51aの下方に配置されると、昇降機構52と保持機構53とが、搬送トレー51と保持磁石53aとの間の距離を維持しながら、搬送トレー51と保持磁石53aとを一旦下降させる。そして、突片51aとフック54aとの係着によって、トレーステージ54fに搬送トレー51が吊持ちされる。   In FIG. 4D, when the hook 54a is disposed below the projecting piece 51a, the lifting mechanism 52 and the holding mechanism 53 maintain the distance between the transport tray 51 and the holding magnet 53a, and the transport tray. 51 and the holding magnet 53a are once lowered. The transport tray 51 is suspended from the tray stage 54f by the engagement between the protruding piece 51a and the hook 54a.

図5(a)において、トレーステージ54fに搬送トレー51が吊持ちされると、保持機構53が、保持磁石53aを搬送トレー51から十分に離間させて、搬送トレー51の拘束(保持)を解除する。搬送トレー51の拘束が解除されると、図5(b)に示すように、スライド機構54が、トレーステージ54fをスライドさせて、搬送トレー51を復路R2の上方へ配置する。   In FIG. 5A, when the transport tray 51 is suspended from the tray stage 54f, the holding mechanism 53 sufficiently separates the holding magnet 53a from the transport tray 51 to release the restraint (holding) of the transport tray 51. To do. When the restraint of the transport tray 51 is released, as shown in FIG. 5B, the slide mechanism 54 slides the tray stage 54f to place the transport tray 51 above the return path R2.

図5(c)において、搬送トレー51が復路R2の上方へ配置されると、昇降機構52が再度上昇し、保持機構53が保持磁石53aを再度下降させることにより、搬送トレー51が復路R2の上方で昇降機構52上に再度保持される。搬送トレー51が再度保持されると、図5(d)に示すように、昇降機構52と保持機構53とが、搬送トレー51と保持磁石53aとの間の距離を維持しながら、搬送トレー51と保持磁石53aとを上昇させて、突片51aとフック54aとの係着を解く。   In FIG. 5C, when the transport tray 51 is disposed above the return path R2, the elevating mechanism 52 is raised again, and the holding mechanism 53 lowers the holding magnet 53a again, so that the transport tray 51 is moved along the return path R2. It is held again on the lifting mechanism 52 above. When the transport tray 51 is held again, as shown in FIG. 5D, the elevating mechanism 52 and the holding mechanism 53 maintain the distance between the transport tray 51 and the holding magnet 53a while maintaining the transport tray 51. And the holding magnet 53a are lifted to release the engagement between the protruding piece 51a and the hook 54a.

これによって、搬送室50は、搬送トレー51の昇降と保持磁石53aの昇降との同期によって、搬送トレー51の昇降時における基板位置の安定性を向上できる。また、搬送室50は、突片51aとフック54aとの係着によって、搬送路間における基板位置の安定性を向上できる。   Accordingly, the transfer chamber 50 can improve the stability of the substrate position when the transfer tray 51 is lifted and lowered by synchronizing the lift of the transfer tray 51 and the lift of the holding magnet 53a. Further, the transfer chamber 50 can improve the stability of the substrate position between the transfer paths by engaging the protruding pieces 51a and the hooks 54a.

しかしながら、特許文献1の搬送工程では、基板を搬送するたびに、トレーステージ54fに固設されたフック54aと搬送トレー51の突片51aとを係着させることから、トレーステージ54fを複数回にわたり昇降させなければならない。この結果、基板の搬送工程においては、複数回にわたる搬送トレー51の昇降に多大な時間を要し、基板処理のスループットを大幅に損なってしまうという問題があった。尚、この問題は、特許文献1の搬送装置に限定されるものでなく、基板を搬送するトレーを複数回にわたって昇降させる必要があるその他の従来の搬送装置でも同様に生じるものであった。   However, since the hook 54a fixed to the tray stage 54f and the protruding piece 51a of the transport tray 51 are engaged each time the substrate is transported in the transport process of Patent Document 1, the tray stage 54f is moved several times. Must be raised and lowered. As a result, in the substrate transfer process, it takes a lot of time to raise and lower the transfer tray 51 a plurality of times, and the throughput of the substrate processing is greatly impaired. Note that this problem is not limited to the transport apparatus disclosed in Patent Document 1, and similarly occurs in other conventional transport apparatuses that require the tray for transporting the substrate to be raised and lowered multiple times.

また、特許文献1の搬送装置では、フック54aがスライド機構54上で突片51aと係着する位置に予め固定されている(図4a)。このため、搬送トレー51を搬送室50へ搬送する際、搬送トレー51とフック54aとが接触しないようにスライド機構54を移動させるスペースが必要となり、装置の体積が大きくなってしまうという問題があった。また、この場合には、搬送トレー51の搬入後、搬送トレー51を昇降するためにフック54aを搬送路上に移動させる必要があり、搬送工程が多くなってスループットを損なってしまうという問題があった。さらには、搬送トレー51を昇降させる昇降機構52と搬送トレー51をスライドさせるスライド機構54が往路R1の左右に別々に設けられているので、装置の体積が大きくなってしまうという問題があった。   Moreover, in the conveyance apparatus of patent document 1, the hook 54a is previously fixed to the position which engages with the protrusion 51a on the slide mechanism 54 (FIG. 4a). For this reason, when the transport tray 51 is transported to the transport chamber 50, a space for moving the slide mechanism 54 is required so that the transport tray 51 and the hook 54a do not come into contact with each other, and the volume of the apparatus increases. It was. Further, in this case, it is necessary to move the hook 54a on the conveyance path in order to raise and lower the conveyance tray 51 after the conveyance tray 51 is carried in, and there is a problem that the number of conveyance steps increases and the throughput is impaired. . Furthermore, since the lifting mechanism 52 for raising and lowering the transport tray 51 and the slide mechanism 54 for sliding the transport tray 51 are separately provided on the left and right of the forward path R1, there is a problem that the volume of the apparatus becomes large.

本発明は、装置を大型化することなく基板の搬送処理におけるスループットを向上させる搬送装置及び該搬送装置を備えた真空処理装置を提供する。
本発明の一つの態様は、基板を搬送する搬送装置である。搬送装置は、前記基板を立てた状態で支持しながら第1の搬送路と第2の搬送路との間で同基板を搬送する搬送トレーと、前記搬送トレーを支持可能なトレーステージと、前記トレーステージを上昇させて前記搬送トレーを前記各搬送路から離脱させ、前記トレーステージを下降させて前記搬送トレーを前記各搬送路へ載置するリフト機構と、前記リフト機構を前記第1及び第2の搬送路間で移動させるスライド機構と、を備え、前記リフト機構は、前記トレーステージの上昇と連動して前記搬送トレーを前記トレーステージにロックし、前記トレーステージの下降と連動して前記搬送トレーのロック状態を解除するロック機構を含む。
The present invention provides a vacuum processing apparatus having a conveying device及beauty said conveying device to improve throughput in the transport process of the substrate without increasing the size of the device.
One aspect of the present invention is a transfer device for transferring a substrate. The transport apparatus includes a transport tray that transports the substrate between the first transport path and the second transport path while supporting the substrate in an upright state, a tray stage that can support the transport tray, A lift mechanism that raises the tray stage to disengage the transport tray from the transport paths, lowers the tray stage and places the transport tray on the transport paths, and the lift mechanism includes the first and first lift mechanisms. A slide mechanism that moves between the two transport paths, and the lift mechanism locks the transport tray to the tray stage in conjunction with the raising of the tray stage, and interlocks with the lowering of the tray stage. A lock mechanism for releasing the lock state of the transport tray is included.

本発明の他の態様は、真空処理装置である。真空処理装置は、基板を立てた状態で支持する搬送トレーと、前記搬送トレーが移動可能な第1及び第2の搬送路と、前記第1及び第2の搬送路上に設置されており、前記搬送トレーに支持された前記基板を真空下で処理する真空処理室と、前記第1及び第2の搬送路上に設置されるとともに前記真空処理室に連結されており、前記搬送トレーが、前記基板を立てた状態で支持しながら前記第1の搬送路と前記第2の搬送路との間で同基板を搬送するために使用される搬送室と、を備え、前記搬送室が、前記搬送トレーを支持可能なトレーステージと、前記トレーステージを上昇させて前記搬送トレーを前記各搬送路から離脱させ、前記トレーステージを下降させて前記搬送トレーを前記各搬送路へ載置するリフト機構と、前記リフト機構を前記第1及び第2の搬送路間で移動させるスライド機構と、を含み、前記リフト機構が、前記トレーステージの上昇と連動して前記搬送トレーを前記トレーステージにロックし、前記トレーステージの下降と連動して前記搬送トレーのロック状態を解除するロック機構を含む。   Another aspect of the present invention is a vacuum processing apparatus. The vacuum processing apparatus is installed on a transport tray that supports the substrate in an upright state, first and second transport paths in which the transport tray can move, and the first and second transport paths, A vacuum processing chamber for processing the substrate supported by a transfer tray under vacuum, and the first and second transfer paths are connected to the vacuum processing chamber and the transfer tray is connected to the substrate. A transfer chamber used for transferring the substrate between the first transfer path and the second transfer path while supporting the transfer tray in a standing state, and the transfer chamber includes the transfer tray. A lift stage that raises the tray stage to disengage the transport tray from the transport paths, and lowers the tray stage to place the transport tray on the transport paths; The lift mechanism A slide mechanism that moves between the first and second transport paths, the lift mechanism locking the transport tray to the tray stage in conjunction with the ascent of the tray stage, and lowering the tray stage And a locking mechanism that releases the locked state of the transport tray in conjunction with the movement.

真空処理装置の全体を模式的に示す斜視図。The perspective view which shows typically the whole vacuum processing apparatus. トラバース装置を示す側面図。The side view which shows a traverse apparatus. (a)〜(d)は、それぞれトラバース装置を用いた搬送工程を示す図。(A)-(d) is a figure which shows the conveyance process using a traverse apparatus, respectively. (a)〜(d)は、それぞれ従来例のトラバース装置を用いた搬送工程を示す図。(A)-(d) is a figure which shows the conveyance process using the traverse apparatus of a prior art example, respectively. (a)〜(d)は、それぞれ従来例のトラバース装置を用いた搬送工程を示す図。(A)-(d) is a figure which shows the conveyance process using the traverse apparatus of a prior art example, respectively.

符号の説明Explanation of symbols

R1:搬送路の一例である往路、R2:搬送路の一例である復路、S:基板、10:真空処理装置、13:真空処理室の一例である第一処理室、14:真空処理室の一例である第二処理室、15:搬送室、17:搬送トレー、17a:被係着部としての凸部、30:搬送装置としてのトラバース装置、31:スライド機構、32:リフト機構、37:係着部の一例であるフック、38:トレーステージ、39:リンクの一例であるリンク部材。   R1: Outward path as an example of a transport path, R2: Return path as an example of a transport path, S: Substrate, 10: Vacuum processing apparatus, 13: First processing chamber as an example of a vacuum processing chamber, 14: Vacuum processing chamber Second processing chamber, which is an example, 15: transfer chamber, 17: transfer tray, 17a: convex portion as an engaged portion, 30: traverse device as a transfer device, 31: slide mechanism, 32: lift mechanism, 37: A hook as an example of an engaging portion, 38: a tray stage, 39: a link member as an example of a link.

以下、本発明の一実施形態の搬送装置を図面に従って説明する。図1は、搬送装置30を備えた真空処理装置10を模式的に示す斜視図である。図1において、真空処理装置10は、着脱室11、ロード/アンロード室(以下単に、LL室12と言う。)、第一処理室13、第二処理室14、及び搬送室15がそれぞれ仕切り弁16を介して連結されている。   Hereinafter, a transport apparatus according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a perspective view schematically showing a vacuum processing apparatus 10 provided with a transfer device 30. In FIG. 1, a vacuum processing apparatus 10 is divided into a detachable chamber 11, a load / unload chamber (hereinafter simply referred to as an LL chamber 12), a first processing chamber 13, a second processing chamber 14, and a transfer chamber 15. They are connected via a valve 16.

真空処理装置10には、着脱室11から搬送室15へ向かって延びる第一の搬送路(以下単に、往路R1と言う。)と、搬送室15から着脱室11へ向かって延びる第二の搬送路(以下単に、復路R2と言う。)とが設けられている。本実施形態における往路R1と復路R2とは互いに平行である。   The vacuum processing apparatus 10 includes a first transfer path extending from the attachment / detachment chamber 11 toward the transfer chamber 15 (hereinafter simply referred to as an outward path R <b> 1), and a second transfer extending from the transfer chamber 15 toward the attachment / detachment chamber 11. A route (hereinafter simply referred to as a return route R2) is provided. In the present embodiment, the forward path R1 and the return path R2 are parallel to each other.

往路R1及び復路R2においては、それぞれ複数の搬送トレー17が、ラックアンドピニオン機構によって搬送される。各搬送トレー17は、基板Sの外縁を囲う四角枠体状に形成されるのが好ましく、この場合には例えば搬送トレー17は、その下側に設けられるラック18と、往路R1及び復路R2に分配されたピニオン19とが係合し、各ピニオン19が回転することによって、往路R1及び復路R2に沿って搬送される。   In the forward path R1 and the return path R2, a plurality of transport trays 17 are each transported by a rack and pinion mechanism. Each of the transport trays 17 is preferably formed in a rectangular frame shape surrounding the outer edge of the substrate S. In this case, for example, the transport tray 17 is provided in a rack 18 provided on the lower side thereof, and in the forward path R1 and the return path R2. The distributed pinions 19 engage with each other, and each pinion 19 rotates to be conveyed along the forward path R1 and the return path R2.

各搬送トレー17の左右両側(搬送方向における前側及び後側)には、それぞれ被係着部としての凸部17aが設けられている。各凸部17aは、搬送トレー17の搬送工程において、該搬送トレー17をトレーステージ38(図2参照)にロックするために利用される。また、各搬送トレー17の上側には、トレー磁石21が配設されている。第一処理室13、第二処理室14、及び搬送室15の各々には、搬送トレー17のトレー磁石21と磁気的に作用する保持装置22が配設されている。搬送トレー17のトレー磁石21は、該搬送トレー17の搬送過程において、各保持装置22の保持磁石と作用することにより、該搬送トレー17を各搬送路の上方で非接触的に拘束する。   On both the left and right sides (the front side and the rear side in the transport direction) of each transport tray 17, convex portions 17a are provided as engaged portions. Each convex portion 17a is used to lock the transport tray 17 to the tray stage 38 (see FIG. 2) in the transport process of the transport tray 17. In addition, a tray magnet 21 is disposed above each transport tray 17. Each of the first processing chamber 13, the second processing chamber 14, and the transfer chamber 15 is provided with a holding device 22 that magnetically acts on the tray magnet 21 of the transfer tray 17. The tray magnet 21 of the transport tray 17 acts with the holding magnet of each holding device 22 in the process of transporting the transport tray 17 to restrain the transport tray 17 in a non-contact manner above each transport path.

本実施形態においては、往路R1における搬送トレー17の搬送方向をX方向と言う。また、水平面に対して垂直の方向をZ方向とし、X方向及びZ方向と直交する方向であって、往路R1から復路R2へ向かう方向をY方向と言う。   In the present embodiment, the transport direction of the transport tray 17 in the forward path R1 is referred to as the X direction. Also, the direction perpendicular to the horizontal plane is defined as the Z direction, and the direction perpendicular to the X direction and the Z direction and from the forward path R1 toward the return path R2 is referred to as the Y direction.

着脱室11は、外部から投入される処理前の基板Sを搬送トレー17に取り付けて、該基板Sを立てた状態でLL室12へ搬出する。また、着脱室11は、搬送トレー17に取り付けられた処理後の基板Sを搬送トレー17から取外して、真空処理装置10の外部へ搬出する。着脱室11は、上記基板Sの着脱を大気圧の下で行う。   The detachable chamber 11 attaches the unprocessed substrate S, which is input from the outside, to the transfer tray 17, and carries the substrate S upright to the LL chamber 12. The detachable chamber 11 removes the processed substrate S attached to the transport tray 17 from the transport tray 17 and carries it out of the vacuum processing apparatus 10. The attachment / detachment chamber 11 performs attachment / detachment of the substrate S under atmospheric pressure.

LL室12は、室内を大気圧にして、着脱室11から搬送トレー17を往路R1に沿って搬入し、その後、室内を減圧することにより、該搬送トレー17を往路R1に沿って第一処理室13へ搬出する。また、LL室12は、室内を減圧して、第一処理室13から搬送トレー17を復路R2に沿って搬入し、その後、室内を大気に解放することにより、該搬送トレー17を復路R2に沿って着脱室11へ搬出する。   The LL chamber 12 is set to atmospheric pressure, the transport tray 17 is carried from the detachable chamber 11 along the forward path R1, and then the interior is decompressed, whereby the transport tray 17 is first processed along the forward path R1. Carry out to chamber 13. The LL chamber 12 depressurizes the chamber, carries the transfer tray 17 from the first processing chamber 13 along the return path R2, and then releases the chamber to the atmosphere, thereby moving the transfer tray 17 to the return path R2. Along and is carried out to the detachable chamber 11.

第一処理室13は、LL室12から搬送トレー17を往路R1に沿って搬入して、保持装置22による磁気的な作用によって、該搬送トレー17を往路R1上に拘束する。第一処理室13は、搬送トレー17に取付けられた基板Sに成膜処理や加熱処理等の各種の処理を施した後、保持装置22による拘束を解除して、該搬送トレー17を往路R1に沿って第二処理室14へ搬出する。   The first processing chamber 13 carries the transport tray 17 from the LL chamber 12 along the forward path R1 and restrains the transport tray 17 on the forward path R1 by a magnetic action by the holding device 22. The first processing chamber 13 performs various processes such as a film forming process and a heating process on the substrate S attached to the transport tray 17, and then releases the restraint by the holding device 22, and moves the transport tray 17 to the forward path R1. Are carried out to the second processing chamber 14.

また、第一処理室13は、第二処理室14から搬送トレー17を復路R2に沿って搬入して、保持装置22による磁気的な作用によって、該搬送トレー17を復路R2上に拘束する。第一処理室13は、搬送トレー17に取付けられた基板Sに成膜処理や加熱処理等の各種の処理を施した後、保持装置22による拘束を解除して、該搬送トレー17を復路R2に沿ってLL室12へ搬出する。第一処理室13は、上記搬送トレー17の搬入・搬出を減圧下で行う。   The first processing chamber 13 carries the transport tray 17 from the second processing chamber 14 along the return path R2 and restrains the transport tray 17 on the return path R2 by the magnetic action of the holding device 22. The first processing chamber 13 performs various processes such as a film forming process and a heating process on the substrate S attached to the transport tray 17, and then releases the restraint by the holding device 22, and moves the transport tray 17 to the return path R2. Along the LL chamber 12. The first processing chamber 13 carries in and out the transfer tray 17 under reduced pressure.

第二処理室14は、第一処理室13から搬送トレー17を往路R1に沿って搬入して、保持装置22による磁気的な作用によって、該搬送トレー17を往路R1上に拘束する。第二処理室14は搬送トレー17に取付けられた基板Sに成膜処理や加熱処理等の各種の処理を施した後、保持装置22による拘束を解除して、該搬送トレー17を往路R1に沿って搬送室15へ搬出する。   The second processing chamber 14 carries the transport tray 17 from the first processing chamber 13 along the forward path R <b> 1 and restrains the transport tray 17 on the forward path R <b> 1 by a magnetic action by the holding device 22. The second processing chamber 14 performs various processes such as a film forming process and a heating process on the substrate S attached to the transport tray 17, and then releases the restraint by the holding device 22 so that the transport tray 17 is moved to the forward path R1. Along the transfer chamber 15.

また、第二処理室14は、搬送室15から搬送トレー17を復路R2に沿って搬入して、保持装置22による磁気的な作用によって、該搬送トレー17を復路R2上に拘束する。第二処理室14は、搬送トレー17に取付けられた基板Sに成膜処理や加熱処理等の各種の処理を施した後、保持装置22による拘束を解除して、該搬送トレー17を復路R2に沿って第一処理室13へ搬出する。第二処理室14は、上記搬送トレー17の搬入・搬出を減圧下で行う。   The second processing chamber 14 carries the transport tray 17 from the transport chamber 15 along the return path R2 and restrains the transport tray 17 on the return path R2 by the magnetic action of the holding device 22. The second processing chamber 14 performs various processes such as a film forming process and a heating process on the substrate S attached to the transport tray 17, and then releases the restraint by the holding device 22, and moves the transport tray 17 to the return path R2. Are carried out to the first processing chamber 13. The second processing chamber 14 carries in and out the transfer tray 17 under reduced pressure.

搬送室15におけるX方向の両側(搬送方向における前側及び後側)には、搬送装置としての一対のトラバース装置30が搭載されている。搬送室15は、第二処理室14から搬送トレー17を往路R1に沿って搬入して、保持装置22による磁気的な作用によって、該搬送トレー17を一旦往路R1上に拘束する。搬送室15は、往路R1上における搬送トレー17の磁気的な拘束を解きながら、トラバース装置30を用いた搬送処理によって、該搬送トレー17を往路R1から復路R2上へ搬送する。搬送室15は、復路R2へ載置した搬送トレー17を復路R2に沿って第二処理室14へ搬出する。   A pair of traverse devices 30 as a transport device are mounted on both sides of the transport chamber 15 in the X direction (front and rear sides in the transport direction). The transfer chamber 15 carries the transfer tray 17 from the second processing chamber 14 along the forward path R1 and temporarily restrains the transfer tray 17 on the forward path R1 by a magnetic action by the holding device 22. The transport chamber 15 transports the transport tray 17 from the forward path R1 to the return path R2 by a transport process using the traverse device 30 while releasing the magnetic restraint of the transport tray 17 on the forward path R1. The transfer chamber 15 carries the transfer tray 17 placed on the return path R2 to the second processing chamber 14 along the return path R2.

搬送室15は、往路R1から復路R2への搬送トレー17の搬送を減圧下で行う。また、搬送室15は、搬送トレー17を往路R1から復路R2へ搬送する間、トラバース装置30のロック機能によって、該搬送トレー17をトレーステージ38(図2参照)にロックする。   The transfer chamber 15 transfers the transfer tray 17 from the forward path R1 to the return path R2 under reduced pressure. Further, the transfer chamber 15 locks the transfer tray 17 to the tray stage 38 (see FIG. 2) by the lock function of the traverse device 30 while the transfer tray 17 is transferred from the forward path R1 to the return path R2.

図2はトラバース装置30(一つのみを示す)を模式的に示す図であり、図3(a)〜(d)はそれぞれトラバース装置30を用いた搬送工程を示す工程図である。図2において、トラバース装置30は、スライド機構31とリフト機構32とを備えている。   FIG. 2 is a diagram schematically showing the traverse device 30 (only one is shown), and FIGS. 3A to 3D are process diagrams each showing a transport process using the traverse device 30. In FIG. 2, the traverse device 30 includes a slide mechanism 31 and a lift mechanism 32.

スライド機構31には、スライドモータM1と、スライドモータM1の駆動軸に連結された伝達部33とが備えられている。伝達部33の上側には、Y方向に延びるガイドレール33aが設けられ、ガイドレール33aには、リフト機構32が取り付けられている。伝達部33は、スライドモータM1の駆動力をスプラインシャフト等の動力伝達シャフトで受けて、スライドモータM1の駆動力をリフト機構32の移動力に変換する。   The slide mechanism 31 includes a slide motor M1 and a transmission unit 33 connected to the drive shaft of the slide motor M1. A guide rail 33a extending in the Y direction is provided above the transmission portion 33, and a lift mechanism 32 is attached to the guide rail 33a. The transmission unit 33 receives the driving force of the slide motor M1 by a power transmission shaft such as a spline shaft, and converts the driving force of the slide motor M1 into a moving force of the lift mechanism 32.

スライド機構31は、スライドモータM1が正転するとき、スライドモータM1の駆動力によって、リフト機構32をY方向へ移動させる(図2における二点鎖線位置から実線位置へ移動させる)。また、スライド機構31は、スライドモータM1が逆転するとき、スライドモータM1の駆動力によって、リフト機構32を反Y方向へ移動させる(図2における実線位置から二点鎖線位置へ移動させる)。   When the slide motor M1 rotates forward, the slide mechanism 31 moves the lift mechanism 32 in the Y direction by the driving force of the slide motor M1 (moves from the two-dot chain line position in FIG. 2 to the solid line position). Further, when the slide motor M1 rotates in the reverse direction, the slide mechanism 31 moves the lift mechanism 32 in the anti-Y direction by the driving force of the slide motor M1 (from the solid line position in FIG. 2 to the two-dot chain line position).

本実施形態においては、X方向から見て、トレーステージ38が往路R1の上方あるいは下方にあるときのリフト機構32の位置を、往路位置と言う。また、X方向から見て、トレーステージ38が復路R2の上方あるいは下方にあるときのリフト機構32の位置を、復路位置と言う。スライド機構31は、リフト機構32を往路位置と復路位置との間で移動する。   In the present embodiment, the position of the lift mechanism 32 when the tray stage 38 is above or below the forward path R1 when viewed from the X direction is referred to as the forward path position. Further, the position of the lift mechanism 32 when the tray stage 38 is above or below the return path R2 when viewed from the X direction is referred to as a return path position. The slide mechanism 31 moves the lift mechanism 32 between the forward path position and the backward path position.

リフト機構32には、リフトモータM2と、リフトモータM2の駆動軸に連結された伝達部35とが備えられている。伝達部35のY方向における端部側には、Z方向に延びる支持アーム36が設けられ、該支持アーム36のY方向における端部側には、Z方向に延びるガイドレール35aが設けられている。ガイドレール35aには、Z方向に沿って往復移動可能なトレーステージ38が取り付けられている。伝達部35は、リフトモータM2の駆動力をスプラインシャフト等の動力伝達シャフトで受けて、リフトモータM2の駆動力をトレーステージ38の移動力に変換する。   The lift mechanism 32 includes a lift motor M2 and a transmission unit 35 connected to the drive shaft of the lift motor M2. A support arm 36 extending in the Z direction is provided on the end portion side in the Y direction of the transmission portion 35, and a guide rail 35 a extending in the Z direction is provided on the end portion side in the Y direction of the support arm 36. . A tray stage 38 capable of reciprocating along the Z direction is attached to the guide rail 35a. The transmission unit 35 receives the driving force of the lift motor M2 by a power transmission shaft such as a spline shaft, and converts the driving force of the lift motor M2 into the moving force of the tray stage 38.

リフト機構32は、リフトモータM2が正転するとき、リフトモータM2の駆動力によって、トレーステージ38をZ方向へ移動させる(図2における実線位置から二点鎖線位置へ移動させる)。また、リフト機構32は、リフトモータM2が逆転するとき、リフトモータM2の駆動力によって、トレーステージ38を反Z方向へ移動させる(図2における二点鎖線位置から実線位置へ移動させる)。   When the lift motor M2 rotates forward, the lift mechanism 32 moves the tray stage 38 in the Z direction by the driving force of the lift motor M2 (moves from the solid line position in FIG. 2 to the two-dot chain line position). Further, when the lift motor M2 rotates in the reverse direction, the lift mechanism 32 moves the tray stage 38 in the anti-Z direction by the driving force of the lift motor M2 (moves from the two-dot chain line position in FIG. 2 to the solid line position).

本実施形態においては、Z方向において、トレーステージ38が往路R1あるいは復路R2よりも下方にあるときの同トレーステージ38の位置を、待機位置と言う。また、Z方向において、トレーステージ38が往路R1あるいは復路R2よりも上方にあるときの同トレーステージ38の位置を、離脱位置(搬送トレー17が搬送路R1,R2から離脱する位置)と言う。リフト機構32は、トレーステージ38を待機位置と離脱位置との間で移動させる。   In the present embodiment, the position of the tray stage 38 when the tray stage 38 is below the forward path R1 or the return path R2 in the Z direction is referred to as a standby position. Further, the position of the tray stage 38 when the tray stage 38 is above the forward path R1 or the return path R2 in the Z direction is referred to as a separation position (a position at which the conveyance tray 17 is separated from the conveyance paths R1 and R2). The lift mechanism 32 moves the tray stage 38 between the standby position and the separation position.

リフト機構32における支持アーム36の先端(上端付近)には、帯状をなすフック37の基端が、X方向に延びる回動軸36aを中心にして回動自在に支持されている。フック37の先端には、搬送トレー17の凸部17aと係着可能な切欠き37aが形成されている。フック37は、搬送トレー17がトレーステージ38の上方に位置する状態において、その切欠き37aと凸部17aとが離間する位置と、その切欠き37aと凸部17aとが係着する位置(図2における二点鎖線位置)との間を回動する。切欠き37aと凸部17aとが係着する状態において、搬送トレー17はトレーステージ38にロックされる。また、切欠き37aと凸部17aとが離間する状態において、搬送トレー17のロック状態が解除される。   A base end of a belt-like hook 37 is supported at the distal end (near the upper end) of the support arm 36 in the lift mechanism 32 so as to be rotatable about a rotation shaft 36a extending in the X direction. A notch 37 a that can be engaged with the convex portion 17 a of the transport tray 17 is formed at the tip of the hook 37. In the state where the transport tray 17 is positioned above the tray stage 38, the hook 37 is positioned so that the notch 37a and the convex portion 17a are separated from each other, and the position where the notch 37a and the convex portion 17a are engaged (see FIG. 2). The transport tray 17 is locked to the tray stage 38 in a state where the notch 37a and the convex portion 17a are engaged. Further, the locked state of the transport tray 17 is released in a state where the notch 37a and the convex portion 17a are separated from each other.

本実施形態においては、切欠き37aと凸部17aとが係着するフック37の位置を、ロック位置と言う。また、切欠き37aと凸部17aとが離間するフック37の位置であって、フック37が搬送トレー17の移動軌跡から離間する位置を、解除位置と言う。なお、図2におけるフック37の実線位置は、ロック位置と解除位置との間の位置を示す。   In the present embodiment, the position of the hook 37 where the notch 37a and the convex portion 17a are engaged is referred to as a lock position. Further, the position of the hook 37 where the notch 37a and the convex portion 17a are separated, and the position where the hook 37 is separated from the movement trajectory of the transport tray 17 is referred to as a release position. The solid line position of the hook 37 in FIG. 2 indicates a position between the lock position and the release position.

フック37の先端には、反Z方向に延びる棒状のリンク部材39が、X方向に延びる軸C1を中心にして回動自在に支持されている。リンク部材39の下端は、X方向に延びる軸C2を中心にして、トレーステージ38の上端に回転自在に支持されている。リンク部材39は、トレーステージ38が上昇するとき、トレーステージ38の上動をフック37へ伝達し、フック37を右回りへ回動する。また、リンク部材39は、トレーステージ38が下降するとき、トレーステージ38の下動をフック37へ伝達し、フック37を左回りへ回動する。   A rod-shaped link member 39 extending in the anti-Z direction is supported at the tip of the hook 37 so as to be rotatable about an axis C1 extending in the X direction. The lower end of the link member 39 is rotatably supported by the upper end of the tray stage 38 around the axis C2 extending in the X direction. When the tray stage 38 rises, the link member 39 transmits the upward movement of the tray stage 38 to the hook 37 and rotates the hook 37 clockwise. Further, when the tray stage 38 descends, the link member 39 transmits the downward movement of the tray stage 38 to the hook 37 and rotates the hook 37 counterclockwise.

詳述すると、搬送トレー17がトレーステージ38の上方に位置する状態において、トレーステージ38が待機位置から離脱位置へ上方移動すると、フック37は、リンク部材39を介し、トレーステージ38の上昇と連動して解除位置からロック位置へ移動する。すなわち、トレーステージ38が上昇すると、搬送トレー17が、トレーステージ38にロックされる。反対に、搬送トレー17がトレーステージ38に載置される状態において、トレーステージ38が離脱位置から待機位置へ下方移動すると、フック37は、リンク部材39を介し、トレーステージ38の下降と連動してロック位置から解除位置へ移動する。すなわち、トレーステージ38が下降すると、搬送トレー17のロック状態が解除される。   More specifically, when the transport tray 17 is positioned above the tray stage 38 and the tray stage 38 moves upward from the standby position to the disengagement position, the hook 37 is interlocked with the rise of the tray stage 38 via the link member 39. To move from the release position to the lock position. That is, when the tray stage 38 is raised, the transport tray 17 is locked to the tray stage 38. On the contrary, when the transport tray 17 is placed on the tray stage 38 and the tray stage 38 moves downward from the disengagement position to the standby position, the hook 37 is interlocked with the lowering of the tray stage 38 via the link member 39. Move from the locked position to the released position. That is, when the tray stage 38 is lowered, the locked state of the transport tray 17 is released.

本実施形態においては、これらフック37とリンク部材39とによってロック機構が構成されている。
図3(a)〜(d)は、トラバース装置30を用いた基板Sの搬送工程を示す図である。まず、搬送室15の内部では、図3(a)に示すように、トレーステージ38が往路R1の位置(以下単に、初期位置と言う。)に配置されている。また、フック37が解除位置に配置されて搬送トレー17の移動軌跡から離間している。
In the present embodiment, the hook 37 and the link member 39 constitute a lock mechanism.
FIGS. 3A to 3D are diagrams illustrating a transport process of the substrate S using the traverse apparatus 30. FIG. First, inside the transfer chamber 15, as shown in FIG. 3A, the tray stage 38 is disposed at the position of the forward path R1 (hereinafter simply referred to as the initial position). Further, the hook 37 is disposed at the release position and is separated from the movement locus of the transport tray 17.

この状態から、第二処理室14から搬送トレー17が搬送室15へ搬入されると、トラバース装置30は、図3(b)に示すように、リフト機構32を駆動して、トレーステージ38を初期位置から離脱位置へ(矢印方向へ)上方移動させる。これによって、搬送トレー17が、トレーステージ38上へ載置されて、往路R1から離脱する。   From this state, when the transport tray 17 is carried into the transport chamber 15 from the second processing chamber 14, the traverse device 30 drives the lift mechanism 32 to move the tray stage 38 as shown in FIG. Move upward from the initial position to the release position (in the direction of the arrow). As a result, the transport tray 17 is placed on the tray stage 38 and is separated from the forward path R1.

この際、保持装置22は、トレーステージ38が上昇した分だけ保持磁石MGを上昇させて、保持磁石MGとトレー磁石21との間の距離を維持し続ける。これによって、保持装置22は、搬送トレー17を往路R1の上方で磁気的に拘束し続ける。しかも、リフト機構32は、トレーステージ38の上昇と連動して、フック37を解除位置からロック位置へ移動させる。すなわち、トラバース装置30は、搬送トレー17を往路R1から離脱させながら、該搬送トレー17をトレーステージ38にロックする。   At this time, the holding device 22 continues to maintain the distance between the holding magnet MG and the tray magnet 21 by raising the holding magnet MG as much as the tray stage 38 is raised. As a result, the holding device 22 continues to magnetically restrain the transport tray 17 above the forward path R1. Moreover, the lift mechanism 32 moves the hook 37 from the release position to the lock position in conjunction with the raising of the tray stage 38. That is, the traverse device 30 locks the transport tray 17 to the tray stage 38 while detaching the transport tray 17 from the forward path R1.

搬送トレー17がトレーステージ38にロックされると、保持装置22は、図3(c)に示すように、保持磁石MGをさらに上昇させて、保持磁石MGとトレー磁石21との間の距離を十分に離間させる。これによって、保持装置22は、搬送トレー17への磁気的な拘束を解除する。搬送トレー17の拘束が解除されると、トラバース装置30は、スライド機構31を駆動して、リフト機構32を往路位置から復路位置へ(矢印方向へ)移動する。これによって、トレーステージ38が復路R2の直上に配置される。   When the transport tray 17 is locked to the tray stage 38, the holding device 22 further raises the holding magnet MG as shown in FIG. 3 (c), so that the distance between the holding magnet MG and the tray magnet 21 is increased. Separate them sufficiently. As a result, the holding device 22 releases the magnetic restraint on the transport tray 17. When the restraint of the transport tray 17 is released, the traverse device 30 drives the slide mechanism 31 and moves the lift mechanism 32 from the forward path position to the backward path position (in the direction of the arrow). As a result, the tray stage 38 is disposed immediately above the return path R2.

この間、搬送トレー17は、保持装置22による磁気的な拘束を受けない一方、トラバース装置30のロック機構による機械的な拘束を受けることから、トレーステージ38に対する相対的な位置を維持する。この結果、搬送トレー17は、トレーステージ38からの位置ズレを来たすことなく、往路R1の直上から復路R2の直上へ搬送される。   During this time, the transport tray 17 is not subjected to magnetic restraint by the holding device 22, but is mechanically restrained by the lock mechanism of the traverse device 30, so that the relative position with respect to the tray stage 38 is maintained. As a result, the transport tray 17 is transported from immediately above the forward path R1 to just above the return path R2 without causing a positional shift from the tray stage 38.

リフト機構32が復路位置に到達すると、トラバース装置30は、図3(d)に示すように、リフト機構32を駆動して、トレーステージ38を離脱位置から初期位置へ(矢印方向へ)下方移動させる。これによって、搬送トレー17がトレーステージ38から復路R2上へ載置される。   When the lift mechanism 32 reaches the return path position, the traverse device 30 drives the lift mechanism 32 to move the tray stage 38 downward from the release position to the initial position (in the direction of the arrow) as shown in FIG. Let As a result, the transport tray 17 is placed from the tray stage 38 onto the return path R2.

この際、保持装置22は、保持磁石MGを下降させることによって、保持磁石MGとトレー磁石21との間の距離を縮めて、搬送トレー17を復路R2の上方で磁気的に拘束する。また、リフト機構32は、トレーステージ38の下降と連動して、フック37をロック位置から解除位置へ移動させる。すなわち、トラバース装置30は、搬送トレー17を復路R2へ載置させながら、該搬送トレー17のロック状態を解除する。   At this time, the holding device 22 lowers the holding magnet MG, thereby reducing the distance between the holding magnet MG and the tray magnet 21, and magnetically restrains the transport tray 17 above the return path R2. The lift mechanism 32 moves the hook 37 from the lock position to the release position in conjunction with the lowering of the tray stage 38. That is, the traverse device 30 releases the locked state of the transport tray 17 while placing the transport tray 17 on the return path R2.

搬送トレー17が復路R2へ載置されると、トラバース装置30は、スライド機構31を駆動して、リフト機構32を復路位置から初期位置へ移動する。これによって、トレーステージ38が復路R2上から往路R1上に搬送される。以後同様に、搬送室15は、第二処理室14から搬送トレー17が搬入されるたび、保持装置22とトラバース装置30とを駆動して、往路R1上の搬送トレー17を復路R2へ搬送する。   When the transport tray 17 is placed on the return path R2, the traverse device 30 drives the slide mechanism 31 to move the lift mechanism 32 from the return path position to the initial position. As a result, the tray stage 38 is transported from the return path R2 to the forward path R1. Thereafter, similarly, every time the transport tray 17 is loaded from the second processing chamber 14, the transport chamber 15 drives the holding device 22 and the traverse device 30 to transport the transport tray 17 on the forward path R1 to the return path R2. .

上記実施形態の搬送装置30(真空処理装置10)は以下の利点を有する。
(1)トラバース装置30は、トレーステージ38の下降と上昇とによって該搬送路R1,R2に対する搬送トレー17の載置と離脱とを選択的に行うリフト機構32と、リフト機構32を搬送路R1,R2間で移動するスライド機構31とを有する。そして、リフト機構32は、トレーステージ38の上昇と連動して搬送トレー17をトレーステージ38にロックし、トレーステージ38の下降と連動して搬送トレー17のロック状態を解除するロック機構(一実施例では、フック37およびリンク部材39)を有する。
The conveyance apparatus 30 (vacuum processing apparatus 10) of the above embodiment has the following advantages.
(1) The traverse device 30 is configured to selectively place and remove the transport tray 17 with respect to the transport paths R1 and R2 by lowering and raising the tray stage 38, and the lift mechanism 32 to the transport path R1. , R2 and a slide mechanism 31 that moves between R2. The lift mechanism 32 locks the transport tray 17 to the tray stage 38 in conjunction with the raising of the tray stage 38, and releases the locked state of the transport tray 17 in conjunction with the lowering of the tray stage 38 (one implementation). The example has a hook 37 and a link member 39).

したがって、トラバース装置30は、トレーステージ38を1回上昇させるだけで、搬送トレー17を往路R1上から離脱させて、かつ、搬送トレー17をトレーステージ38にロックできる。また、トラバース装置30は、トレーステージ38を1回下降させるだけで、搬送トレー17のロック状態を解除でき、かつ、搬送トレー17を復路R2上に載置できる。言い換えれば、搬送トレー17をトレーステージ38にロックするのに必要な搬送トレー17の移動は1回の上昇のみであり、搬送トレー17とトレーステージ38とのロックを解除するのに必要な搬送トレー17の移動は1回の下降のみである。この結果、トラバース装置30は、搬送処理におけるトレーステージ38、ひいては搬送トレー17の昇降回数を最小限に抑えられることから、スループットを向上させられる。加えて、ロック機構(37,39)がトレーステージ38の上昇及び下降とに連動して駆動することから、ロック機構の駆動源を別途設ける場合に比べて、ロック機構の省スペース化を図ることができ、ひいては装置30の小型化を図ることができる。   Therefore, the traverse device 30 can lift the tray stage 38 only once, disengage the transport tray 17 from the forward path R1, and lock the transport tray 17 to the tray stage 38. Further, the traverse device 30 can release the locked state of the transport tray 17 and can place the transport tray 17 on the return path R2 only by lowering the tray stage 38 once. In other words, the movement of the conveyance tray 17 necessary for locking the conveyance tray 17 to the tray stage 38 is only lifted once, and the conveyance tray necessary for releasing the lock between the conveyance tray 17 and the tray stage 38. The movement of 17 is only one descent. As a result, the traverse device 30 can improve the throughput because the number of times of raising and lowering the tray stage 38 and hence the conveyance tray 17 in the conveyance process can be minimized. In addition, since the lock mechanism (37, 39) is driven in conjunction with the raising and lowering of the tray stage 38, space saving of the lock mechanism can be achieved compared to the case where a drive source for the lock mechanism is separately provided. As a result, the apparatus 30 can be reduced in size.

(2)フック37は、搬送トレー17の凸部17aと係着することによって搬送トレー17をロックするロック位置と、凸部17aから離間することによって搬送トレー17のロック状態を解除して搬送トレー17の移動軌跡から離間する解除位置との間を回動する。また、リンク部材39は、トレーステージ38とフック37との間に連結されて、トレーステージ38の上昇と下降とをフック37へ伝達し、フック37をロック位置と解除位置とへ移動する。   (2) The hook 37 engages with the convex portion 17a of the conveyance tray 17 to lock the conveyance tray 17, and the hook 37 releases the locked state of the conveyance tray 17 by separating from the convex portion 17a. It is rotated between a release position separated from the movement locus of 17. Further, the link member 39 is connected between the tray stage 38 and the hook 37, transmits the rising and lowering of the tray stage 38 to the hook 37, and moves the hook 37 to the lock position and the release position.

したがって、トラバース装置30においては、トレーステージ38の上下動がリンク部材39を介してフック37の回動に変換される。この結果、トラバース装置30は、搬送トレー17を往路R1から離脱させるだけで搬送トレー17をロックでき、搬送トレー17を復路R2へ載置するだけで搬送トレー17のロック状態を解除できる。よって、このトラバース装置30は、搬送処理におけるトレーステージ38の昇降回数を最小限に抑えられることから、スループットを向上させられる。また、フック37が解除位置に移動して搬送トレー17とのロックが解除されると、フック37が搬送トレー17の移動軌跡から離脱することとなる。これによって、トレーステージ38を予め往路R1上の待機位置に配置することができる。なぜなら、トレーステージ38が待機位置にあるときは、搬送トレー17の移動がトレーステージ38およびフック37によって妨げられないためである。このことから、トレーステージ38を往路R1から退避させるためのリフト機構32の移動空間を削減できる。ひいては、搬送室15や真空処理装置10の小型化を図ることができる。   Therefore, in the traverse device 30, the vertical movement of the tray stage 38 is converted into the rotation of the hook 37 via the link member 39. As a result, the traverse device 30 can lock the transport tray 17 simply by removing the transport tray 17 from the forward path R1, and can release the locked state of the transport tray 17 simply by placing the transport tray 17 on the return path R2. Therefore, the traverse device 30 can improve the throughput because the number of times of raising and lowering the tray stage 38 in the conveyance process can be minimized. Further, when the hook 37 moves to the release position and the lock with the transport tray 17 is released, the hook 37 is detached from the movement trajectory of the transport tray 17. As a result, the tray stage 38 can be placed in the standby position on the forward path R1 in advance. This is because the movement of the transport tray 17 is not hindered by the tray stage 38 and the hook 37 when the tray stage 38 is in the standby position. From this, the movement space of the lift mechanism 32 for retracting the tray stage 38 from the forward path R1 can be reduced. As a result, the transfer chamber 15 and the vacuum processing apparatus 10 can be reduced in size.

(3)ロック機構(37,39)は、トレーステージ38の上下動をフック37の回動へ変換することから、トレーステージ38の上下動を単にフック37の上下動として利用する場合に比べて、フック37(切欠き37a)の変位範囲を拡大できる。したがって、トラバース装置30は、搬送トレー17のサイズや形状、ひいては、基板Sのサイズや形状に関わる適用範囲を拡大できる。   (3) Since the lock mechanism (37, 39) converts the vertical movement of the tray stage 38 into the rotation of the hook 37, the vertical movement of the tray stage 38 is simply used as the vertical movement of the hook 37. The displacement range of the hook 37 (notch 37a) can be expanded. Therefore, the traverse device 30 can expand the application range related to the size and shape of the transport tray 17 and, consequently, the size and shape of the substrate S.

(4)フック37は、スライド機構31に固定されず、トレーステージ38の上下動に連動して回動する。そのため、基板処理室14及び搬送室15間における搬送トレー17の搬送の際、フック37と搬送トレー17との接触を避けるために、スライド機構31を移動させなくて良い。したがって、スライド機構31の移動する空間を縮小化できることから、装置の小型化を図ることができる。   (4) The hook 37 is not fixed to the slide mechanism 31 and rotates in conjunction with the vertical movement of the tray stage 38. Therefore, when the transport tray 17 is transported between the substrate processing chamber 14 and the transport chamber 15, it is not necessary to move the slide mechanism 31 in order to avoid contact between the hook 37 and the transport tray 17. Therefore, since the space in which the slide mechanism 31 moves can be reduced, the apparatus can be reduced in size.

(5)搬送路(往路R1)の位置で待機しているトレーステージ38上に搬送トレー17を直接搬入できる。このため、基板Sの搬入後に往路R1上までトレーステージ38を移動させる必要がない。このため、搬送処理におけるタクトタイムを短縮してスループットを向上させられる。   (5) The transport tray 17 can be directly carried onto the tray stage 38 waiting at the position of the transport path (outward path R1). For this reason, it is not necessary to move the tray stage 38 on the forward path R1 after the substrate S is loaded. For this reason, the tact time in the conveyance process can be shortened and the throughput can be improved.

(6)リフト機構32をスライド機構31の上部に設けたので、搬送室15内の空間を縮小させることができ、ひいては装置の小型化を図ることができる。
(7)真空処理装置10は、搬送室15にトラバース装置30を搭載することから、搬送処理におけるトレーステージ38(搬送トレー17)の昇降回数を最小限に抑えられ、ひいては、基板Sに関わる一連の処理工程において、スループットを向上させられる。
(6) Since the lift mechanism 32 is provided in the upper part of the slide mechanism 31, the space in the transfer chamber 15 can be reduced, and the apparatus can be downsized.
(7) Since the vacuum processing apparatus 10 is equipped with the traverse device 30 in the transfer chamber 15, the number of times of raising and lowering the tray stage 38 (transfer tray 17) in the transfer process can be minimized, and as a result, a series related to the substrate S. Throughput can be improved in this processing step.

尚、上記実施形態は、以下の態様で実施しても良い。
・フック37は、トレーステージ38の上下動を受けて上下動する構成であっても良い。すなわち、フック37は、トレーステージ38の上下動に連動して、搬送トレー17をロックするロック位置と搬送トレー17のロック状態を解除する解除位置との間を(例えば支持アーム36に沿って上下に)移動する構成でも良い。この場合、好ましくは、フック37を下方に移動させると同時に、もしくは下方に移動させた後に、該フック37を搬送トレー17の移動軌跡から退避させるのがよい。
In addition, you may implement the said embodiment in the following aspects.
The hook 37 may be configured to move up and down in response to the vertical movement of the tray stage 38. That is, the hook 37 is interlocked with the vertical movement of the tray stage 38 between the lock position for locking the transport tray 17 and the release position for releasing the lock state of the transport tray 17 (for example, up and down along the support arm 36). B) It may be configured to move. In this case, it is preferable that the hook 37 is retracted from the movement locus of the transport tray 17 at the same time or after the hook 37 is moved downward.

・被係着部を凸部17aの代わりに、例えば、搬送トレー17が有する凹部としても良い。すなわち、フック37と係着することによって、搬送トレー17をトレーステージ38にロックし、フック37から離間することによって、搬送トレー17のロック状態を解除する被係着部は、当業者であれば任意の構成を採用できる。   -Instead of the convex part 17a, the to-be-attached part is good also as a recessed part which the conveyance tray 17 has, for example. That is, the engaged portion for locking the transport tray 17 to the tray stage 38 by engaging with the hook 37 and releasing the locked state of the transport tray 17 by separating from the hook 37 is known to those skilled in the art. Any configuration can be adopted.

・上記実施形態においては、フック37の切欠き37aと搬送トレー17の凸部17aとが係着することによって、搬送トレー17がトレーステージ38にロックされる。これに限らず、ロック機構は磁石機構でもよい。一例として、切欠き37aと凸部17aとをそれぞれ磁石に変更してもよい。この場合、フック37に設けられるN極と搬送トレー17に設けられるS極とが近接することによって、搬送トレー17がトレーステージ38にロックされる。すなわち、トレーステージ38の上昇と連動して搬送トレー17をトレーステージ38にロックし、トレーステージ38の下降と連動して搬送トレー17のロック状態を解除するロック機構は、当業者であれば種々の構成を採用できる。   In the above embodiment, the notch 37 a of the hook 37 and the convex portion 17 a of the transfer tray 17 are engaged, whereby the transfer tray 17 is locked to the tray stage 38. Not limited to this, the lock mechanism may be a magnet mechanism. As an example, the notches 37a and the protrusions 17a may be changed to magnets. In this case, the transport tray 17 is locked to the tray stage 38 due to the proximity of the N pole provided on the hook 37 and the S pole provided on the transport tray 17. That is, those skilled in the art can use various locking mechanisms for locking the transport tray 17 to the tray stage 38 in conjunction with the raising of the tray stage 38 and releasing the locked state of the transport tray 17 in conjunction with the lowering of the tray stage 38. The configuration of can be adopted.

・ロック機構をフック37のみで構成してもよい(即ち、リンク部材39を省略してもよい)。この場合には、トレーステージ38の上昇前にフック37を解除位置(搬送トレー17の移動軌跡から離間する位置)に位置させておき、トレーステージ38の上昇後にフック37をロック位置に移動させればよい。   The lock mechanism may be configured only by the hook 37 (that is, the link member 39 may be omitted). In this case, the hook 37 is positioned at a release position (a position away from the movement trajectory of the transport tray 17) before the tray stage 38 is lifted, and the hook 37 can be moved to the lock position after the tray stage 38 is lifted. That's fine.

・上記実施形態においては、搬送路が往路R1と復路R2とによって構成されて、往路R1と復路R2とが互いに平行に設けられている。これに限らず、例えば、搬送路は3本以上であっても良く、各搬送路が交差する構成であっても良い。   In the above embodiment, the transport path is configured by the forward path R1 and the return path R2, and the forward path R1 and the return path R2 are provided in parallel to each other. For example, there may be three or more conveyance paths, and a configuration in which the conveyance paths intersect each other may be used.

・上記実施形態における搬送路は、ラックアンドピニオン機構を用いるが、搬送路は、ローラー搬送式、コンベア搬送式、あるいは真空処理室底面に固定されたレール上を車輪をもった搬送トレーが走るレール搬送式機構でもよく、またこれらの搬送方法のみに限定されるものでもない。   The transport path in the above embodiment uses a rack and pinion mechanism, but the transport path is a roller transport type, a conveyor transport type, or a rail on which a transport tray with wheels runs on a rail fixed to the bottom of the vacuum processing chamber. It may be a transport mechanism, and is not limited to these transport methods.

・上記実施形態におけるトレーステージ38の初期位置及び離脱位置、トレーステージ38による搬送トレー17の載置位置、および搬送トレー17の係着位置の高さは、搬送トレー17が搬出入される真空処理室10の最下辺から最上辺までの間で任意に変更できる。これらの位置は、搬送トレー17が、トラバース装置30の搬送処理によって、一つの搬送路から他の搬送路へ搬送できる位置であれば良い。ただし、トレーステージ38の初期位置は、トレーステージ38の上面(搬送トレー17の下面を支持する面)が搬送路R1,R2の上面よりも低くなるように設定することが望ましい。こうすれば、搬送トレー17を第二処理室14から搬送室15へと搬入する際にも、トレーステージ38によって搬送トレー17の移動が妨げられない。このため、往路R1から復路R2へのトレーステージ38の移動距離を最小にすることができる。しかしながら、この初期位置は本発明を制限するものではない。たとえ、搬送トレー17の移動軌跡から退避させるべくトレーステージ38を下方に移動させる必要が生じても、搬送トレー17を上下動させる回数は増加しないからである。   The height of the initial position and the disengagement position of the tray stage 38 in the above embodiment, the placement position of the transport tray 17 by the tray stage 38, and the engagement position of the transport tray 17 are the vacuum processing in which the transport tray 17 is carried in and out. It can be arbitrarily changed between the lowermost side and the uppermost side of the chamber 10. These positions may be positions where the transport tray 17 can be transported from one transport path to another transport path by the transport process of the traverse device 30. However, the initial position of the tray stage 38 is desirably set so that the upper surface of the tray stage 38 (the surface that supports the lower surface of the transport tray 17) is lower than the upper surfaces of the transport paths R1 and R2. In this way, even when the transport tray 17 is transported from the second processing chamber 14 to the transport chamber 15, the movement of the transport tray 17 is not hindered by the tray stage 38. For this reason, the moving distance of the tray stage 38 from the forward path R1 to the return path R2 can be minimized. However, this initial position does not limit the present invention. For example, even if it is necessary to move the tray stage 38 downward to retract from the movement trajectory of the transport tray 17, the number of times the transport tray 17 is moved up and down does not increase.

・上記実施形態においては、2つの搬送路を往路R1と復路R2とによって構成した。これに限らず、2つの搬送路の各々を搬送トレー17の往路と復路の両方に利用しても良い。この場合、例えば、搬送トレー17が一つの搬送路から他の搬送路へ移載されると、トラバース装置30がトレーステージ38を該他の搬送路上に待機させて、該他の搬送路にある搬送トレー17を再度該一つの搬送路へ移動する構成であっても良い。   In the above embodiment, the two transport paths are constituted by the forward path R1 and the return path R2. Not limited to this, each of the two transport paths may be used for both the forward path and the return path of the transport tray 17. In this case, for example, when the transport tray 17 is transferred from one transport path to another transport path, the traverse device 30 stands by the tray stage 38 on the other transport path and is in the other transport path. The structure which moves the conveyance tray 17 to this one conveyance path again may be sufficient.

・上記実施形態においては、複数の搬送路が一つの往路R1と一つの復路R2とによって構成されるが、これに限らず、複数の搬送路が複数の往路R1と複数の復路R2とによって構成されても良い。   In the above embodiment, the plurality of transport paths are configured by one forward path R1 and one return path R2, but the present invention is not limited thereto, and the plurality of transport paths are configured by a plurality of forward paths R1 and a plurality of return paths R2. May be.

Claims (12)

基板を搬送する搬送装置であって、
前記基板を立てた状態で支持しながら第1の搬送路と第2の搬送路との間で同基板を搬送する搬送トレーと、
前記搬送トレーを支持可能なトレーステージと、
前記トレーステージを上昇させて前記搬送トレーを前記各搬送路から離脱させ、前記トレーステージを下降させて前記搬送トレーを前記各搬送路へ載置するリフト機構と、
前記リフト機構を前記第1及び第2の搬送路間で移動させるスライド機構と、を備え、
前記リフト機構は、
前記トレーステージの上昇と連動して前記搬送トレーを前記トレーステージにロックし、前記トレーステージの下降と連動して前記搬送トレーのロック状態を解除するロック機構を含むことを特徴とする搬送装置。
A transfer device for transferring a substrate,
A transport tray for transporting the substrate between the first transport path and the second transport path while supporting the substrate in an upright state;
A tray stage capable of supporting the transport tray;
A lift mechanism that raises the tray stage to disengage the transport tray from the transport paths, and lowers the tray stage to place the transport tray on the transport paths;
A slide mechanism for moving the lift mechanism between the first and second transport paths,
The lift mechanism is
A transport apparatus comprising: a lock mechanism for locking the transport tray to the tray stage in conjunction with the raising of the tray stage and releasing the locked state of the transport tray in conjunction with the lowering of the tray stage.
請求項1に記載する搬送装置において、
前記トレーステージが、前記第1搬送路上及び第2搬送路上に選択的に配置されることを特徴とする搬送装置。
In the conveyance apparatus described in Claim 1,
The transport device, wherein the tray stage is selectively disposed on the first transport path and the second transport path.
請求項1に記載する搬送装置において、
前記トレーステージが、前記リフト機構に上下動可能に支持されていることを特徴とする搬送装置。
In the conveyance apparatus described in Claim 1,
The transport device, wherein the tray stage is supported by the lift mechanism so as to be movable up and down.
請求項3に記載する搬送装置は更に、
前記ロック機構と前記トレーステージとを連結し、前記トレーステージの上下動に連動して前記ロック機構を作動させるリンクを備えることを特徴とする搬送装置。
The conveying device according to claim 3 further includes:
A transport apparatus comprising: a link that connects the lock mechanism and the tray stage and operates the lock mechanism in conjunction with the vertical movement of the tray stage.
請求項4に記載する搬送装置において、
前記搬送トレーが前記各搬送路に載置されるまで前記トレーステージが下降するとき、前記リンクは、前記ロック機構を前記搬送トレーの移動軌跡から外れる位置まで移動させることを特徴とする搬送装置。
In the conveying apparatus described in Claim 4,
When the tray stage descends until the transport tray is placed on each transport path, the link moves the lock mechanism to a position deviating from the movement trajectory of the transport tray.
請求項1〜3のいずれか一項に記載する搬送装置において、
前記ロック機構は、
前記搬送トレーの被係着部と係着することによって前記トレーステージに前記搬送トレーをロックするロック位置と、前記被係着部から離間することによって前記搬送トレーのロック状態を解除する解除位置との間を移動する係着部を含むことを特徴とする搬送装置。
In the conveyance apparatus as described in any one of Claims 1-3,
The locking mechanism is
A lock position for locking the transport tray to the tray stage by engaging with the engaged portion of the transport tray, and a release position for releasing the locked state of the transport tray by separating from the engaged portion. A conveying device comprising an engaging portion that moves between the two.
請求項6に記載する搬送装置において、
前記係着部は、前記ロック位置と前記解除位置とに選択的に位置するように前記リフト機構に回動自在に支持されていることを特徴とする搬送装置。
In the conveyance apparatus described in Claim 6,
The conveying device is characterized in that the engaging portion is rotatably supported by the lift mechanism so as to be selectively located at the lock position and the release position.
請求項7に記載する搬送装置において、
前記リフト機構は、前記係着部を回動自在に支持する支持アームを含み、
前記支持アームに前記トレーステージが上下動可能に支持されていることを特徴とする搬送装置。
In the conveying apparatus described in Claim 7,
The lift mechanism includes a support arm that rotatably supports the engaging portion,
The transport device, wherein the tray stage is supported by the support arm so as to be movable up and down.
請求項8に記載する搬送装置において、
前記ロック機構は、
前記係着部として機能するフックと、
前記トレーステージと前記フックとの間に連結され、前記トレーステージの上昇と下降とを前記フックへ伝達して前記フックを前記ロック位置と前記解除位置とへ選択的に移動させるリンクとを含むことを特徴とする搬送装置。
In the conveying apparatus according to claim 8,
The locking mechanism is
A hook that functions as the engagement portion;
A link that is connected between the tray stage and the hook, and transmits the rising and lowering of the tray stage to the hook to selectively move the hook to the lock position and the release position. A conveying device characterized by the above.
請求項9に記載する搬送装置において、
前記フックは、前記ロック位置と前記解除位置との間を回動し、
前記リンクは、前記トレーステージの上下動を前記フックの回動に変換することを特徴とする搬送装置。
In the conveying apparatus according to claim 9,
The hook rotates between the lock position and the release position,
The link is characterized in that the link converts the vertical movement of the tray stage into rotation of the hook.
請求項1〜10のいずれか1つに記載の搬送装置であって、
前記リフト機構が、前記スライド機構の上部に設けられたことを特徴とする搬送装置。
It is a conveying apparatus as described in any one of Claims 1-10,
The transport apparatus according to claim 1, wherein the lift mechanism is provided on an upper portion of the slide mechanism.
真空処理装置であって、
基板を立てた状態で支持する搬送トレーと、
前記搬送トレーが移動可能な第1及び第2の搬送路と、
前記第1及び第2の搬送路上に設置されており、前記搬送トレーに支持された前記基板を真空下で処理する真空処理室と、
前記第1及び第2の搬送路上に設置されるとともに前記真空処理室に連結されており、前記搬送トレーが、前記基板を立てた状態で支持しながら前記第1の搬送路と前記第2の搬送路との間で同基板を搬送するために使用される搬送室と、を備え、
前記搬送室が、
前記搬送トレーを支持可能なトレーステージと、
前記トレーステージを上昇させて前記搬送トレーを前記各搬送路から離脱させ、前記トレーステージを下降させて前記搬送トレーを前記各搬送路へ載置するリフト機構と、
前記リフト機構を前記第1及び第2の搬送路間で移動させるスライド機構と、を含み、
前記リフト機構が、
前記トレーステージの上昇と連動して前記搬送トレーを前記トレーステージにロックし、前記トレーステージの下降と連動して前記搬送トレーのロック状態を解除するロック機構を含むことを特徴とする真空処理装置。
A vacuum processing apparatus,
A transport tray that supports the substrate in an upright state;
First and second transport paths in which the transport tray is movable;
A vacuum processing chamber which is installed on the first and second transport paths and which processes the substrate supported by the transport tray under vacuum;
The first transport path and the second transport path are installed on the first and second transport paths and connected to the vacuum processing chamber, and the transport tray supports the substrate in a standing state. A transfer chamber used for transferring the substrate to and from the transfer path, and
The transfer chamber is
A tray stage capable of supporting the transport tray;
A lift mechanism that raises the tray stage to disengage the transport tray from the transport paths, and lowers the tray stage to place the transport tray on the transport paths;
A slide mechanism for moving the lift mechanism between the first and second transport paths,
The lift mechanism is
A vacuum processing apparatus comprising: a lock mechanism that locks the transport tray to the tray stage in conjunction with the raising of the tray stage and releases the locked state of the transport tray in conjunction with the lowering of the tray stage. .
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