JP4989290B2 - 光走査装置,画像形成装置 - Google Patents
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Description
即ち,第1の光学特性は,被走査面における像面湾曲が小さいこと(スポット径が揃っていること)である。第2の光学特性は,被走査面上の主走査方向における光の主走査方向の走査速度が一定であること(fθ特性が良好であること)である。第3の光学特性は,主走査方向に直交する副走査方向の倍率(副走査倍率)が小さいことである。副走査倍率が小さければ,光走査部の光反射面の角度に多少のばらつきがあっても,有効走査全域に渡って副走査方向のスポット径が揃うからである。この第3の光学特性は,複数の光束を同時に走査させるマルチビーム走査装置において,走査線のピッチ間隔を一定にする上で特に重要である。
さらに,画像形成装置の省スペース化ニーズへの対応のため,光走査装置のコンパクト化が望まれている。
従来,例えば特許文献1には,光束の入射面側にシリンドリカルレンズ面,出射面側にトーリック面を有するガラストーリックレンズとプラスチックトーリックレンズとの組み合わせからなるfθレンズ系が示されている。
また,特許文献2には,主走査方向にのみパワーを有するホログラフィックfθレンズと,副走査方向にパワーを有する円柱レンズとを備えた光学系により,fθ特性と面倒れ補正及び1次回折光とその他の次数の回折光の分離等を行う技術について示されている。
また,特許文献2に示される光学系において,例えば前記円柱レンズの材質がガラスである場合,複数のレンズを組み合わせたfθレンズよりはコスト的に有利ではあるものの,プラスチックレンズに比べるとやはり高価であるという問題点があった。また,特許文献2に示される光学系において,例えば前記円柱レンズの材質がプラスチックである場合,光束の発振波長の変化や環境変化(特に温度変化)によって副走査方向のピントずれが生じるという問題点があった。また,そのピントずれの発生を回避するために,前記円柱レンズを被走査面に近づけると,その円柱レンズの主走査方向の寸法を大きくする必要が生じる結果,装置のコンパクト化に反するとともに,コストも高くなるという問題点が生じる。
従って,本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり,その目的とするところは,コンパクトな装置構成により,被走査面における像面湾曲,副走査倍率及び主走査方向の光走査速度のばらつきを小さくでき,また,光束の発振波長の変化や環境変化に対し,被走査面上における副走査方向のピント移動量が小さい光走査装置及びそれを具備する画像形成装置を提供することにある。
(1)光源から出射された光束を反射面で反射しつつ所定の被走査面(像担持体の表面など)に向けて一の直線方向である主走査方向に走査させる光走査手段(例えば,ポリゴンミラー等)。
(2)前記光走査手段と前記被走査面との間に配置され前記光走査手段により走査される走査光を前記被走査面上に結像させるとともに,その被走査面上での前記走査光の走査速度を略一定化させる結像手段。
(3)前記結像手段が備えるものであり,前記主走査方向に正のパワーを有するとともに前記主走査方向に直交する副走査方向に負のパワーを有する第1のレンズ。
(4)前記結像手段が備えるものであり,前記第1のレンズよりも前記被走査面側に配置され,前記主走査方向に負のパワーを有するとともに前記副走査方向に正のパワーを有する第2のレンズ。
より具体的には,本発明に係る光走査装置が,前記第1のレンズ及び前記第2のレンズを合わせた前記結像手段の前記主走査方向におけるパワーをφtm,前記第1のレンズの前記主走査方向におけるパワーをφ1m,前記第2のレンズの前記主走査方向におけるパワーをφ2mとした場合に,少なくとも次の(a1)式又は(a2)式のいずれかの条件を満たしていることが望ましい。
−1.20≦φ2m/φtm≦−0.48 …(a1)
1.32≦φ1m/φtm≦ 2.00 …(a2)
また,本発明に係る光走査装置において,前記第1のレンズの前記副走査方向におけるパワーをφ1s,前記第2のレンズの前記副走査方向におけるパワーをφ2sとした場合に,次の(b1)式の条件を満たしていることが望ましい。
−2.98≦φ1s/φ2s≦−0.81 …(b1)
なお,前記第1のレンズ及び前記第2のレンズは,その加工性(生産性)の高さから,樹脂製のレンズであることが望ましい。
一般に,2つのレンズからなるfθレンズ系において,光進行方向下流側(前記被走査面に近い側)の第2のレンズを前記被走査面に近づけること,即ち,副走査方向における光束の幅がより広い位置に前記第2のレンズを配置することにより,被走査面における走査光の副走査倍率を下げることができるが,そうすると,主走査方向における前記第2のレンズの寸法を大きくする必要が生じ,装置のコンパクト化に反することになる。
これに対し,本発明では,前記結像手段において,副走査方向のパワーが負である前記第1のレンズにより,その第1のレンズを通過後の走査光の副走査方向における幅が従来(前記第1のレンズのパワーが正)よりも広がる。このため,前記被走査面から遠い位置(前記光走査手段の反射面に近い位置)に前記第2のレンズを配置しても,前記被走査面における走査光の副走査倍率を小さくすることができる。また,前記光走査手段に近い位置では,光の走査範囲が比較的狭いため,その位置に配置される前記第2のレンズの主走査方向の寸法は小さくて済む。従って,本発明によれば,装置のコンパクト化を図りつつ,前記被走査面における副走査方向の像面湾曲も小さくできる。
なお,前記第1及び第2のレンズの位置を前記被走査面から遠ざけると,走査光を前記被走査面に結像(収束)させるためにそのレンズ形状を回転対称非球面とする必要があるが,前記第1のレンズ及び前記第2のレンズとして樹脂製のレンズを採用することにより,前記第2のレンズを比較的容易に製造(加工)することができる。さらに,前記第1のレンズの副走査方向のパワーが負であるため,前記第2のレンズの副走査方向の寸法(高さ)が若干大きくなるが,それよりも前記第2のレンズの主走査方向の寸法(幅)を小さくできることの方が,装置のコンパクト化への寄与が大きい。
また,主として走査光の焦点距離を調整する前記第2のレンズが,曲率が小さく薄いレンズとなる(パワーが負である)ため,前記被走査面における主走査方向の像面湾曲を小さく抑えやすい。
例えば,前記第1のレンズ及び前記第2のレンズそれぞれの主走査方向のパワーが,前述した(a1)式又は(a2)式の条件を満たせば,前記被走査面における主走査方向の像面湾曲及び走査光の走査速度のばらつきを,その走査光により静電潜像の書き込みを行った場合の画像品質が十分な水準となる程度に小さく抑えることができる。
同様に,前記第1のレンズ及び前記第2のレンズそれぞれの副走査方向のパワーが,前述した(b1)式の条件を満たせば,前記被走査面における副走査方向の像面湾曲を,その走査光により静電潜像の書き込みを行った場合の画像品質が十分な水準となる程度に小さく抑えることができる。
また,本発明に係る光走査装置が,前記光源と前記光走査手段との間の前記光束の進路において前記光源側から順に配置されたコリメータレンズ,アパーチャ及びシリンドリカルレンズとを備え,さらに,前記光束が前記コリメータレンズを通過してから前記光走査手段に至るまでの光路に配置された回折光学素子を備えればなお好適である。例えば,前記回折光学素子が,前記シリンドリカルレンズの表面に設けられることが考えられる。
これにより,前記光源から出射される光の発振波長の変動や環境温度の変動が生じた場合に,その変動による被走査面における走査光のピント移動(ピントのずれ)を打ち消す方向に,前記回折光学素子によって前記シリンドリカルレンズの焦点距離を変化させることができる。特に,前記第1のレンズ及び前記第2のレンズが,樹脂製のレンズである場合,ガラス製のレンズに比べ,環境温度の変動による走査光のピント移動が比較的大きいため,前記回折光学素子によって顕著なピント補正効果が得られる。
また,本発明は,以上に示した本発明に係る光走査装置により,像担持体(感光体ドラムがその典型例)の表面に静電潜像書き込み用の光を走査させる画像形成装置として捉えることもできる。
ここに,図1は本発明の実施形態に係る光走査装置Yを備えた画像形成装置Xの主要部(画像形成部)の概略構成図,図2は副走査方向から見た光走査装置Y及びビーム光の光路の概略図,図3は主走査方向から見た光走査装置Yの断面及び走査光の光路の概略図,図4は光走査装置Yの実施条件の一例を示す図,図5は光走査装置Yにおける走査光レンズの主走査方向の第1のパワー条件の変更走査光のリニアリティに与える影響を評価した実験結果を表すグラフ,図6は光走査装置Yにおける走査光レンズの主走査方向の第1のパワー条件の変更主走査方向の象面湾曲に与える影響を評価した実験結果を表すグラフ,図7は光走査装置Yにおける走査光レンズの主走査方向の第1のパワー条件の変更副走査方向の象面湾曲に与える影響を評価した実験結果を表すグラフ,図8は光走査装置Yにおける走査光レンズの主走査方向の第2のパワー条件の変更走査光のリニアリティに与える影響を評価した実験結果を表すグラフ,図9は光走査装置Yにおける走査光レンズの主走査方向の第2のパワー条件の変更主走査方向の象面湾曲に与える影響を評価した実験結果を表すグラフ,図10は光走査装置Yにおける走査光レンズの主走査方向の第2のパワー条件の変更副走査方向の象面湾曲に与える影響を評価した実験結果を表すグラフ,図11は光走査装置Yにおける走査光レンズの副走査方向のパワー条件の変更走査光のリニアリティに与える影響を評価した実験結果を表すグラフ,図12は光走査装置Yにおける走査光レンズの副走査方向のパワー条件の変更主走査方向の象面湾曲に与える影響を評価した実験結果を表すグラフ,図13は光走査装置Yにおける走査光レンズの副走査方向のパワー条件の変更副走査方向の象面湾曲に与える影響を評価した実験結果を表すグラフ,図14は光走査装置Yによる走査光のスポットダイアグラム,図15〜図18は光走査装置Yにおける走査光レンズの主走査方向の第1のパワー条件を変更したときの走査光のスポットダイアグラム,図19〜図22は光走査装置Yにおける走査光レンズの主走査方向の第2のパワー条件を変更したときの走査光のスポットダイアグラム,図23〜図26は光走査装置Yにおける走査光レンズの副走査方向のパワー条件を変更したときの走査光のスポットダイアグラムである。
画像形成装置Xは,トナーを用いて画像形成を行う複写機,プリンタ,ファクシミリ装置等の電子写真方式の画像形成装置である。
画像形成装置Xは,トナー像を形成して記録紙に画像形成を行う画像形成部(図1に示す部分)や,その記録紙を前記画像形成部に供給する給紙部(不図示)及び画像形成の行われた記録紙の排出がなされる排紙部(不図示)等を備えている。
図1に示すように,画像形成装置Xは,トナー像を担持する感光体ドラム1(像担持体),その感光体ドラム1の表面を一様に帯電させる帯電装置3,前記感光体ドラム1表面にビーム光を走査させ,その走査光によって露光することにより静電潜像を書き込む光走査装置Y,その静電潜像にトナーを供給することによりトナー像として現像する現像装置2,そのトナー像を記録紙に転写させる転写ローラ4,トナー像を記録紙に転写後の前記感光体ドラム1表面の除電を行う除電装置5等を備えて概略構成される。
前記帯電装置3は,前記感光体ドラム1の表面をその軸方向に沿って一様に帯電させるものである。
前記現像装置2は,前記感光体ドラム1にトナーを供給する現像ローラを備え,その感光体ドラム1上の静電潜像をトナーにより顕像化するものである。前記現像ローラに印加された電位(現像バイアス電位)と前記感光体ドラム1表面の電位との電位ギャップに応じて,前記現像ローラ上のトナーが前記感光体ドラム1の面上に引き寄せられ,前記静電潜像がトナー像として顕像化される。
なお,画像形成装置Xは,一般的な電子写真方式の画像形成装置が備える他の周知の構成要素も備えているが,ここでは説明を省略する。
図2及び図3に示すように,光走査装置Yは,光源10,入射光調整光学機器20,ポリゴンミラー30,結像光学機器40(fθレンズ系)を備えている。
前記光源10は,静電潜像書き込み用のビーム光(光束)を出射する半導体レーザ等の光源である。
前記入射光調整光学機器20は,前記光源10と前記ポリゴンミラー30との間のビーム光(光束)の進路おいて前記光源10側から順に配置されたコリメータレンズ21,アパーチャ22及びシリンドリカルレンズ23を備え,これらの光学機器によって光源10からの出射光(ビーム光)を前記ポリゴンミラー30への入射前に成形するものである。
前記光源10から出射されたビーム光は,前記コリメータレンズ21を通過することにより平行光に変換され,その後前記アパーチャ22を通過することにより整形され,さらに前記シリンドリカルレンズ23によって光径が調整された後に前記ポリゴンミラー30に到達する。
また,前記シリンドリカルレンズ23の表面には,回折光学素子24が設けられている。この回折光学素子24は,ビーム光(光束)が前記コリメータレンズ21を通過してから前記ポリゴンミラー30に至るまでの光路であれば,他の位置に配置されてもよい。この回折光学素子24の作用については後述する。
前記結像光学機器40は,前記ポリゴンミラー30と感光体ドラム1の表面との間に配置され,前記ポリゴンミラー30により走査されるビーム光(以下,走査光という)を感光体ドラム1の表面に結像させる(所望のスポット径に調整して照射する)とともに,感光体ドラム1表面上での前記走査光の走査速度をほぼ一定化させるいわゆるfθレンズとして機能するレンズ系である(前記結像手段の一例)。図2及び図3に示すように,前記結像光学機器40は,走査光の進行方向上流側から順に配置された第1の走査光レンズ41と第2の走査光レンズ42とを備えている。
図3は,前記主走査方向の光の走査範囲の中心位置(前記第1の走査光レンズ41及び前記第2の走査光レンズ42の主走査方向における中心位置)における断面図である。また,図2に示す走査光の光路は,前記ポリゴンミラー30による走査光が主走査範囲(主走査方向における全走査範囲)の中心位置にあるときの光路である。
また,前記第2の走査光レンズ42は,前記第1の走査光レンズ41よりも感光体ドラム1表面側に配置され,走査光を通過させるようその主走査方向に伸びて形成されたレンズである。前記第2の走査光レンズ42は,その位置が前記第1の走査光レンズ41よりも前記ポリゴンミラー30から遠い分だけ走査光の走査範囲が広いため,前記第1の走査光レンズ41よりも主走査方向の寸法(幅)が大きい。この第2の走査光レンズ42は,前記主走査方向に負のパワーを有するとともに前記副走査方向に正のパワーを有するレンズである(前記第2のレンズに相当)。
ここで,前記第1の走査光レンズ41及び前記第2の走査光レンズ42は,前記ポリゴンミラー30の反射面30a及び感光体ドラム1表面の中間位置より前記ポリゴンミラー30の反射面30aに近い側に配置されている。即ち,前記ポリゴンミラー30の反射面30aから感光体ドラム1表面までの距離をL,前記ポリゴンミラー30の反射面30aから前記第2の走査光レンズ42の感光体ドラム1側の面42bまでの距離をdとした場合,(d<L/2)である。
ここで,前記第1の走査光レンズ41及び前記第2の走査光レンズ42の位置を感光体ドラム1表面から遠ざけると,走査光を感光体ドラム1表面に結像(収束)させるためにそれらレンズ41,42の形状を回転対称非球面とする必要がある。これに対し,前記第1及び第2の走査光レンズ41,42として,樹脂製のレンズを採用することにより,両レンズ41,42を比較的容易に製造(加工)することができる。
前記第1の走査光レンズ41の各面(走査光入射側の面41a及び同出射側の面41b)及び前記第2の走査光レンズ42の各面(走査光入射側の面42a及び同出射側の面42b)の副走査方向の断面形状(回転対称非球面)は,次の(c1)式により表すことができる。
なお,前記第1の走査光レンズ41の副走査方向のパワーが負であるため,前記第2の走査光レンズ42の副走査方向の寸法(高さ)が若干大きくなるが,それよりも前記第2の走査光レンズ42の主走査方向の寸法(幅)を小さくできることの方が,装置のコンパクト化への寄与が大きい。
また,主として走査光の焦点距離を調整する前記第2の走査光レンズ42が,曲率が小さく薄いレンズとなる(パワーが負である)ため,感光体ドラム1表面における主走査方向の像面湾曲を小さく抑えやすい。
図4に光走査装置Yの実施条件の一例を示す。
なお,図4に示す条件において,光走査光レンズの面番号「1」〜「4」は,それぞれ前記第1の走査光レンズ41の走査光入射側の面41a,同出射側の面41b,前記第2の走査光レンズ42の走査光入射側の面42a及び同出射側の面42bを指す識別番号である。また,非球面係数及びコーニック係数は,前記(c1)式に適用される係数である。
図14は,図4に示した実施条件を満たす光走査装置Yにおける走査光のスポットダイアグラム(感光体ドラム1表面におけるスポット中心位置のばらつき)を表す。
また,図5〜図7及び図15〜図18は,図4に示した実施条件を基準として2つの走査光レンズ41,42の主走査方向のパワーに関する後述する条件(以下,第1の主走査方向パワー条件という)を変更したときの走査光のリニアリティ,主走査方向の象面湾曲(主走査象面湾曲),副走査方向の像面湾曲(副走査像面湾曲),スポット中心位置のばらつきを表すグラフである。
また,図8〜図10及び図19〜図22は,図4に示した実施条件を基準として2つの走査光レンズ41,42の主走査方向のパワーに関する後述する条件(以下,第2の主走査方向パワー条件という)を変更したときの走査光のリニアリティ,主走査方向の象面湾曲(主走査象面湾曲),副走査方向の像面湾曲(副走査像面湾曲),スポット中心位置のばらつきを表すグラフである。
また,図11〜図13及び図23〜図26は,図4に示した実施条件を基準として2つの走査光レンズ41,42の副走査方向のパワーに関する後述する条件(以下,副走査方向パワー条件という)を変更したときの走査光のリニアリティ(理想像高に対する相対的なズレ),主走査方向の象面湾曲(主走査象面湾曲),副走査方向の像面湾曲(副走査像面湾曲),スポット中心位置のばらつきを表すグラフである。なお,走査光のリニアリティとは,走査光が感光体ドラム1表面において目標とする一定の速度で主走査方向に走査される状態(リニアな状態)を基準とし,その基準状態での走査位置(理想像高)に対する実際の走査位置のズレの大小を表す。
なお,図5〜図13において,横軸は像高(主走査範囲の中心を基準とする主走査方向の位置)である。また,図5〜図26において,「OK範囲」と示される範囲は,その範囲内で潜像書き込み用のビーム光(走査光)の幾何光学収差に理想状態に対するズレが生じた場合でも,目視上問題となる程度の画質悪化につながらない範囲(許容範囲)である。また,図14〜図26において,(a)「軸上」とは,主走査範囲の中心位置のことであり,(b)「周辺」とは,主走査範囲における走査開始位置(又は走査終了位置)付近の位置のことである。
以下,前記第1の走査光レンズ41及び前記第2の走査光レンズ42を合わせた前記結像光学機器40の主走査方向におけるパワーをφtm,前記第1の走査光レンズ41の主走査方向におけるパワーをφ1m,前記第2の走査光レンズ42の主走査方向におけるパワーをφ2m,前記第1の走査光レンズ41の副走査方向におけるパワーをφ1s,前記第2の走査光レンズ42の副走査方向におけるパワーをφ2sとする。
前記第1の主走査方向パワー条件は,φ2m/φtmがどのように設定されているかという条件である。
より具体的には,図4に示した実施条件における前記第1の主走査方向パワー条件d1Mは,φ2m/φtm=−0.75である。また,図5〜図7及び図15〜図18には,それ以外の前記第1の主走査方向パワー条件として,(φ2m/φtm)が,−1.22であるとき(条件d1L’),−1.20であるとき(条件d1L),−0.48であるとき(条件d1H),−0.50であるとき(条件d1H’)の状態について示している。
図6に示すグラフからわかるように,前記第1の主走査方向パワー条件が(φ2m/φtm<−1.20)又は(φ2m/φtm>−0.48)となると(条件d1L’又は条件d1H’のグラフを参照),感光体ドラム1表面における走査光の主走査方向の象面湾曲が適正範囲(OK範囲)を超えて大きくなる。
また,図17及び図18からわかるように,前記第1の主走査方向パワー条件が(φ2m/φtm<−1.20)又は(φ2m/φtm>−0.48)となると(条件d1L’又は条件d1H’のグラフを参照),感光体ドラム1表面における走査光のスポット位置のばらつきが適正範囲(OK範囲)を超えて大きくなる。
一方,図5〜図7及び図14〜図16に示すグラフからわかるように,前記第1の主走査方向パワー条件が次の(a1)式を満たせば,感光体ドラム1表面における走査光のリニアリティ,主走査方向の象面湾曲及び副走査方向の像面湾曲,並びにスポット位置のばらつきが全て適正範囲に収まる。
−1.20≦φ2m/φtm≦−0.48 …(a1)
前記第2の主走査方向パワー条件は,φ1m/φtmがどのように設定されているかという条件である。
より具体的には,図4に示した実施条件における前記第2の主走査方向パワー条件d2Mは,φ1m/φtm=1.65である。また,図8〜図10及び図19〜図22には,それ以外の前記第2の主走査方向パワー条件として,(φ1m/φtm)が,1.30であるとき(条件d2L’),1.32であるとき(条件d2L),2.00であるとき(条件d2H),2.02であるとき(条件d2H’)の状態について示している。
図8に示すグラフからわかるように,前記第2の主走査方向パワー条件が(φ1m/φtm>2.00)となると(条件d2H’のグラフを参照),感光体ドラム1表面における走査光のリニアリティが適正範囲(OK範囲)を超えて悪化する。
また,図9に示すグラフからわかるように,前記第2の主走査方向パワー条件が(φ1m/φtm<1.32)となると(条件d2L’のグラフを参照),感光体ドラム1表面における主走査光の主走査方向の象面湾曲が適正範囲(OK範囲)を超えて大きくなる。
さらに,図21からわかるように,前記第2の主走査方向パワー条件が(φ1m/φtm<1.32)となると(条件d2L’のグラフを参照),感光体ドラム1表面における走査光のスポット位置のばらつきが適正範囲(OK範囲)を超えて大きくなる。
一方,図8〜図10,図14及び図19〜図22に示すグラフからわかるように,前記第2の主走査方向パワー条件が次の(a2)式を満たせば,感光体ドラム1表面における走査光のリニアリティ,主走査方向の象面湾曲及び副走査方向の像面湾曲,並びにスポット位置のばらつきが全て適正範囲に収まる。
1.32≦φ1m/φtm≦ 2.00 …(a2)
前記副走査方向パワー条件は,φ1s/φ2sがどのように設定されているかという条件である。
より具体的には,図4に示した実施条件における前記副走査方向パワー条件d3Mは,φ1s/φ2s=−2.52である。また,図11〜図13及び図23〜図26には,それ以外の前記副走査方向パワー条件として,(φ1s/φ2s)が,−3.00であるとき(条件d3L’),−2.98であるとき(条件d3L),−0.81であるとき(条件d3H),−0.81であるとき(条件d3H’)の状態について示している。
図13に示すグラフからわかるように,前記副走査方向パワー条件が(φ1s/φ2s<−2.98)又は(φ1s/φ2s>−0.81)となると(条件d3L’,条件d3H’のグラフを参照),感光体ドラム1表面における主走査光の副走査方向の象面湾曲が適正範囲(OK範囲)を超えて大きくなる。
さらに,図25及び図26からわかるように,前記副走査方向パワー条件が(φ1s/φ2s<−2.98)又は(φ1s/φ2s>−0.81)となると(条件d3L’,条件d3H’のグラフを参照),感光体ドラム1表面における走査光のスポット位置のばらつきが適正範囲(OK範囲)を超えて大きくなる。
一方,図11〜図13,図14及び図23〜図26に示すグラフからわかるように,前記副走査方向パワー条件が次の(b1)式を満たせば,感光体ドラム1表面における走査光のリニアリティ,主走査方向の象面湾曲及び副走査方向の像面湾曲,並びにスポット位置のばらつきが全て適正範囲に収まる。
−2.98≦φ1s/φ2s≦−0.81 …(b1)
なお,図24〜図26におけるスポット中心位置の大きなばらつきは,走査光の収差のばらつきに起因するものである。
同様に,前記第1の走査光レンズ41及び前記第2の走査光レンズ42それぞれの副走査方向のパワーが,前述した(b1)式の条件を満たせば,感光体ドラム1表面における副走査方向の像面湾曲を,その走査光により静電潜像の書き込みを行った場合の画像品質が十分な水準となる程度に小さく抑えることができる。
半導体レーザ等の前記光源10は,その使用条件によって出射するビーム光の発振波長が変動する。また,前記第1の走査光レンズ41や前記第2の走査光レンズ42は,環境温度の変動に応じてその屈折率が無視できない程度に変化する。このため,光走査装置Yの使用条件の変動が,感光体ドラム1表面における走査光のピント移動(ピントずれ)のが生じる。
これに対し,前記コリメータレンズ21からポリゴンミラー30までの間のビーム光の光路に配置された前記回折光学素子24は,前記光源10から出射されるビーム光の発振波長の変動や環境温度の変動が生じた場合に,その変動による走査光のピント移動(ピントのずれ)を打ち消す方向に,前記シリンドリカルレンズ23を通過したビーム光の焦点距離を変化させることができる。特に,前記第1の走査光レンズ41及び前記第2の走査光レンズ42が,樹脂製のレンズであるため,それらがガラス製のレンズである場合に比べ,環境温度の変動による屈折率変化(即ち,走査光のピント移動量)が比較的大きいため,前記回折光学素子24によって顕著なピント補正効果が得られる。
Y :光走査装置
10:光源
1 :感光体ドラム
2 :現像装置
3 :帯電装置
5 :除電装置
10:光源
20:入射光調整光学機器
21:コリメータレンズ
22:アパーチャ
23:シリンドリカルレンズ
24:回析光学素子
30:ポリゴンミラー
40:結像光学機器
41:第1の走査光レンズ
42:第2の走査光レンズ
Claims (7)
- 光源から出射された光束を反射面で反射しつつ所定の被走査面に向けて一の直線方向である主走査方向に走査させる光走査手段と,該光走査手段と前記被走査面との間に配置され前記光走査手段により走査される走査光を前記被走査面上に結像させるとともに該被走査面上での前記走査光の走査速度を略一定化させる結像手段とを具備する光走査装置であって,
前記結像手段が,
前記主走査方向に正のパワーを有するとともに前記主走査方向に直交する副走査方向に負のパワーを有する第1のレンズと,
前記第1のレンズよりも前記被走査面側に配置され,前記主走査方向に負のパワーを有するとともに前記副走査方向に正のパワーを有する第2のレンズと,
を具備してなり、
前記第1のレンズの前記副走査方向におけるパワーをφ 1s ,前記第2のレンズの前記副走査方向におけるパワーをφ 2s とした場合に,−2.98≦φ 1s /φ 2s ≦−2.52の条件を満たしてなることを特徴とする光走査装置。 - 前記第1のレンズ及び前記第2のレンズを合わせた前記結像手段の前記主走査方向におけるパワーをφtm,前記第2のレンズの前記主走査方向におけるパワーをφ2mとした場合に,−1.2≦φ2m/φtm≦−0.48の条件を満たしてなる請求項1に記載の光走査装置。
- 前記第1のレンズ及び前記第2のレンズを合わせた前記結像手段の前記主走査方向におけるパワーをφtm,前記第1のレンズの前記主走査方向におけるパワーをφ1mとした場合に,1.32≦φ1m/φtm≦2.00の条件を満たしてなる請求項1又は請求項2に記載の光走査装置。
- 前記光源と前記光走査手段との間の前記光束の進路おいて前記光源側から順に配置されたコリメータレンズ,アパーチャ及びシリンドリカルレンズと,
前記光束が前記コリメータレンズを通過してから前記光走査手段に至るまでの光路に配置された回折光学素子と,
を具備してなる請求項1〜3のいずれかに記載の光走査装置。 - 前記回折光学素子が,前記シリンドリカルレンズの表面に設けられてなる請求項4に記載の光走査装置。
- 前記第1のレンズ及び前記第2のレンズが樹脂製のレンズである請求項1〜5のいずれかに記載の光走査装置。
- 像担持体の表面に静電潜像書き込み用の光を走査させる請求項1〜6のいずれかに記載の光走査装置を具備してなることを特徴とする画像形成装置。
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