JP4983535B2 - カラーフィルタ欠陥検査方法 - Google Patents
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Description
認し、必要な場合、当該欠陥部位を修正する。前記欠陥データCでは、ガラス基板の不具合、例えばガラス内気泡が欠陥として検出される場合がある。特に、ガラス内気泡欠陥が検出され、ガラス基板自身の品質が規格内と保証されている場合、無駄な工数となり、検査及び修正の信頼性が低下する問題がある。
形成されており、検出欠陥はガラス基板自身のもの、若しくはBMパターンの形成工程で発生した欠陥が登録されている。一方、図7(h)の検出欠陥データCでは、被検査基板がガラス基板上にBMパターン、Rパターンが形成されており、検出欠陥はガラス基板自身のもの、若しくはBMパターンの欠陥の一部分、又はRパターンの形成工程で発生した欠陥が登録されている。以下同様に、図7(l)の検出欠陥データC、図7(q)、図7(u)と欠陥が登録され、複雑となる問題がある。
ある。従って、同一ガラス基板での複数回の欠陥検査では、欠陥位置は、同一座標となり、そのための測定誤差を回避する工夫がされている。一方、欠陥の検出は、欠陥の種類による、又は欠陥の寸法による等の影響により検出が不安定となる場合がある。例えば、欠陥20は、その寸法サイズが検査倍率が小さく検出限界以下では検出困難であり、高倍率で検出限界以上であれば確実に検出可能である。従って、欠陥検査では、検査条件と、欠陥検出との関係は、重要であり、その検査の狙いに適する検査条件に設定することが重要となる。
コート直前にコート前検査装置と、コート直後にコート後検査装置と、現像直後に現像後検査装置とを工程内に付設し、前記各検査装置にて検査した検査データを比較演算することにより、ガラス内気泡欠陥を除去することを特徴とするカラーフィルタ欠陥検査方法である。
検出欠陥データAと、分析欠陥データBより、分析欠陥データAを算出し、
分析欠陥データAと、現像後検査装置より検出した検出欠陥データCより、分析欠陥データCを算出することを特徴とする請求項1記載のカラーフィルタ欠陥検査方法である。
少なくとも以下の手順を含む構成によりカラーフィルタの欠陥を検査することを特徴とするカラーフィルタ欠陥検査方法。
(a)コート前検査装置を用いた透過光検査より検出した検出欠陥データAと、コート後検査装置を用いた反射光検査より検出した検出欠陥データBと、現像後検査装置を用いた透過光検査より検出した検出欠陥データCを、記録及びデータの出入力を管理するデータベース及び演算システムに出力する手順。
(b)検出欠陥データAの欠陥位置と、検出欠陥データBの欠陥位置を照合する手順。
(c)検出欠陥データAの欠陥位置、及び検出欠陥データBの欠陥位置に同一位置の演算欠陥データが有れば、検出欠陥データBに演算欠陥データ登録し、
検出欠陥データAの欠陥位置、又は検出欠陥データBの欠陥位置に不同一位置の演算欠陥データが有れば、検出欠陥データBからの演算欠陥データ除去する演算により分析欠陥データBを算出する手順。
(d)検出欠陥データAの欠陥位置と、前記分析欠陥データBの欠陥位置を照合する手順。
(e)検出欠陥データAの欠陥位置、及び分析欠陥データBの欠陥位置に同一位置の演算欠陥データが有れば、検出欠陥データAから演算欠陥データ除去し、
検出欠陥データAの欠陥位置に演算欠陥データが有って、該欠陥位置に分析欠陥データBの演算欠陥データが無い場合のみ、検出欠陥データAに演算欠陥データ登録する演算により分析欠陥データAを算出する手順。
(f)分析欠陥データAの欠陥位置と、検出欠陥データCの欠陥位置を照合する手順。
(g)分析欠陥データAの欠陥位置、及び検出欠陥データCの欠陥位置に同一位置の演算欠陥データが有れば、検出欠陥データCから演算欠陥データ除去し、
分析欠陥データAの欠陥位置に演算欠陥データが無くて、該欠陥位置に検出欠陥データCの演算欠陥データが有る場合のみ、検出欠陥データCに演算欠陥データ登録する演算により分析欠陥データCを算出する手順である。
全面に形成する。前記BMレジストは遮光性が高いレジスト膜である。次いで、図1のカラーフィルタ製造工程60のレジスト塗布コート工程33、パターン露光工程34、レジスト現像工程35を繰り返しながら、前記ガラス基板上のBMパターンの所定位置に、R画素のレジストパターン、G画素のレジストパターン、B画素のパターンと順番にガラス基板上に形成する。
装置より検出した検出欠陥データA及び現像後検査装置より検出した検出欠陥データCは、同一の検査条件で検査することが重要である。必要な場合、コート前検査の検査条件は、現像後検査装置より検出した検出欠陥データCと同じ程度となるように、例えばガラス内気泡の検出レベルとなるように検査条件を再度、微調整することが必要となる。
で、図2(b)では、その検査結果、検出欠陥データAを出力する。
あり、(b)は、コート前検査装置検出欠陥より分析した分析欠陥Aであり、(c)は、現像前後検査装置検出欠陥より分析した分析欠陥Cである。
路であるANDゲートを用いた算出である。
2…BMパターン(ブラックマトリックスパターン)
2a…BMレジスト
3…レジストコート基板
4…パターンレジスト基板
5…レジストパターン基板
10…ガラス内気泡欠陥
20…欠陥
20a…欠陥
33…レジスト塗布コート工程
34…パターン露光工程
35…レジスト現像工程
41…コート前検査装置
43…コート後検査装置
45…現像後検査装置
51…ネットワーク回線
52…データベース及び演算システム
60…カラーフィルタ製造工程
61…検出欠陥データA
63…検出欠陥データB
65…検出欠陥データC
66…検出欠陥データ
67…演算欠陥データ
68…(検出、若しくは演算)欠陥位置
68a…(検出、若しくは演算)欠陥位置
68b…(検出、若しくは演算)欠陥位置
68c…(検出、若しくは演算)欠陥位置
71…分析欠陥データA
73…分析欠陥データB
75…分析欠陥データC
Claims (5)
- カラーフィルタ用ガラス基板の片面に、レジスト塗布コートと、パターン露光と、レジスト現像を繰り返しながら、BMパターン、Rパターン、Gパターン、Bパターンをその順にガラス基板上に形成するカラーフィルタを製造する工程内で、
コート直前にコート前検査装置と、コート直後にコート後検査装置と、現像直後に現像後検査装置とを工程内に付設し、前記各検査装置にて検査した検査データを比較演算することにより、ガラス内気泡欠陥を除去することを特徴とするカラーフィルタ欠陥検査方法。 - コート前検査装置より検出した検出欠陥データAと、コート後検査装置より検出した検出欠陥データBより、分析欠陥データBを算出し、
検出欠陥データAと、分析欠陥データBより、分析欠陥データAを算出し、
分析欠陥データAと、現像後検査装置より検出した検出欠陥データCより、分析欠陥データCを算出することを特徴とする請求項1記載のカラーフィルタ欠陥検査方法。 - カラーフィルタ用ガラス基板の片面に、レジスト塗布コートと、パターン露光と、レジスト現像を繰り返しながら、BMパターン、Rパターン、Gパターン、Bパターンをその順にガラス基板上に形成するカラーフィルタの製造を製造する工程において、
少なくとも以下の手順を含む構成によりカラーフィルタの欠陥を検査することを特徴とするカラーフィルタ欠陥検査方法。
(a)コート前検査装置を用いた透過光検査より検出した検出欠陥データAと、コート後検査装置を用いた反射光検査より検出した検出欠陥データBと、現像後検査装置を用いた透過光検査より検出した検出欠陥データCを、記録及びデータの出入力を管理するデータベース及び演算システムに出力する手順。
(b)検出欠陥データAの欠陥位置と、検出欠陥データBの欠陥位置を照合する手順。
(c)検出欠陥データAの欠陥位置、及び検出欠陥データBの欠陥位置に同一位置の演算欠陥データが有れば、検出欠陥データBに演算欠陥データ登録し、
検出欠陥データAの欠陥位置、又は検出欠陥データBの欠陥位置に不同一位置の演算欠陥データが有れば、検出欠陥データBからの演算欠陥データ除去する演算により分析欠陥データBを算出する手順。
(d)検出欠陥データAの欠陥位置と、前記分析欠陥データBの欠陥位置を照合する手順。
(e)検出欠陥データAの欠陥位置、及び分析欠陥データBの欠陥位置に同一位置の演算欠陥データが有れば、検出欠陥データAから演算欠陥データ除去し、
検出欠陥データAの欠陥位置に演算欠陥データが有って、該欠陥位置に分析欠陥データBの演算欠陥データが無い場合のみ、検出欠陥データAに演算欠陥データ登録する演算により分析欠陥データAを算出する手順。
(f)分析欠陥データAの欠陥位置と、検出欠陥データCの欠陥位置を照合する手順。
(g)分析欠陥データAの欠陥位置、及び検出欠陥データCの欠陥位置に同一位置の演算欠陥データが有れば、検出欠陥データCから演算欠陥データ除去し、
分析欠陥データAの欠陥位置に演算欠陥データが無くて、該欠陥位置に検出欠陥データCの演算欠陥データが有る場合のみ、検出欠陥データCに演算欠陥データ登録する演算により分析欠陥データCを算出する手順。 - 前記演算により分析欠陥データBを算出は、演算システム内に付与した論理回路であるANDゲートを用いて算出することを特徴とする請求項3記載のカラーフィルタ欠陥検査方法。
- 前記演算により分析欠陥データAを算出する手順及び前記演算により分析欠陥データCを算出は、演算システム内に付与した論理回路であるNANDゲートを用いて算出するこ
とを特徴とする請求項3記載のカラーフィルタ欠陥検査方法。
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