JP4982742B2 - 磁性微粒子を用いた触媒化学加工方法及び装置 - Google Patents
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Description
2 酸化剤、
3 加工槽、
4 マグネット定盤、
5 回転軸、
6 回転軸、
7 被加工物、
8 ホルダー、
9 磁性微粒子、
10 永久磁石板、
11 NC加工装置、
12 酸化剤、
13 加工槽、
14 ホルダー、
15 マグネット加工ヘッド、
16 回転軸。
Claims (5)
- 酸化剤としてH 2 O 2 の溶液中に結晶性SiC、焼結SiC、GaN、サファイヤ、ルビー、ダイヤモンド、ガラスの内から選ばれた1種である被加工物を配し、定盤若しくは加工ヘッドに磁場により拘束し、空間的に制御されたFe、Ni、Coから選択した1種又は2種以上の組み合わせ、あるいはFe、Ni又はCoを含む合金からなる磁性微粒子を、被加工物の被加工面に極低荷重のもとで接触させるとともに、被加工面と磁性微粒子とを相対的に変位させ、前記磁性微粒子の触媒作用により、磁性微粒子表面上で生成した酸化力を持つ活性種と被加工物の表面原子との化学反応で生成した化合物を除去、あるいは溶出させることによって被加工物を加工することを特徴とする磁性微粒子を用いた触媒化学加工方法。
- 前記磁性微粒子がFe、被加工物がSiC、GaN又はダイヤモンドであり、フェントン反応を利用して加工する請求項1記載の磁性微粒子を用いた触媒化学加工方法。
- 結晶性SiC、焼結SiC、GaN、サファイヤ、ルビー、ダイヤモンド、ガラスの内から選ばれた1種である被加工物を平坦化加工する加工装置であって、
酸化剤としてH 2 O 2 を入れた加工槽と、
前記加工槽内の底面部に設け、回転あるいは偏心運動が可能なマグネット定盤と、
前記加工槽内に前記マグネット定盤と対面させて配し、前記マグネット定盤の回転軸に対して偏心した回転軸を有する被加工物のホルダーと、
前記マグネット定盤の表面にFe、Ni、Coから選択した1種又は2種以上の組み合わせ、あるいはFe、Ni又はCoを含む合金からなる磁性微粒子を磁場により拘束し、前記ホルダーに保持した被加工物の被加工面を前記磁性微粒子に極低荷重のもとで接触させ、前記マグネット定盤とホルダーの双方又は一方を回転させて、被加工物の被加工面を平坦化加工することを特徴とする磁性微粒子を用いた触媒化学加工装置。 - 結晶性SiC、焼結SiC、GaN、サファイヤ、ルビー、ダイヤモンド、ガラスの内から選ばれた1種である被加工物を平坦化加工する加工装置であって、
酸化剤としてH 2 O 2 を入れた加工槽と、
前記加工槽内の底面部に設け、被加工物を保持するとともに、平面内で往復移動あるいは回転可能な被加工物のホルダーと、
前記加工槽内に前記ホルダーと対面させて配し、回転可能なマグネット加工ヘッドと、
前記マグネット加工ヘッドの表面にFe、Ni、Coから選択した1種又は2種以上の組み合わせ、あるいはFe、Ni又はCoを含む合金からなる磁性微粒子を磁場により拘束し、前記ホルダーに保持した被加工物の被加工面を前記磁性微粒子に極低荷重のもとで接触させ、前記マグネット加工ヘッドを回転させながら前記ホルダーを往復移動あるいは回転させて、被加工物の被加工面を任意の自由曲面形状に加工することを特徴とする磁性微粒子を用いた触媒化学加工装置。 - 前記磁性微粒子がFe、被加工物がSiC、GaN又はダイヤモンドであり、フェントン反応を利用して加工する請求項3又は4記載の磁性微粒子を用いた触媒化学加工装置。
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