JP4975263B2 - ホールラフネス計測方法および装置 - Google Patents
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検出したエッジについてエッジ座標をθ−r平面に変換し、
θ−r平面でフーリエ変換して周波数成分を求め、周波数成分に基づいてθ−r平面でのホールの近似曲線を形成し、
該近似曲線を検出したエッジ座標との差からホールラフネスを計測すること
を特徴とするホールラフネス計測方法および装置を提供する。
検出したエッジについてのエッジ座標をθ−r平面に変換し、
θ−r平面で、ホールの近似曲線を形成し
該近似曲線を検出したエッジ座標との差からホールラフネスを計測してホールラフネス曲線を形成し、
画面表示装置の画面上に、ホールの近似曲線による第1の円形状表示と、ホールラフネス曲線による第2の円形状表示を重ね合わせて行わせることによって両者の面積差が画面上に判別されるようにしたこと
を特徴とするホールラフネス計測方法および装置を提供する。
(1)設計したホール形状に応じ近似曲線を設定することで、真円ではないホール形状のラフネスを容易に評価することが可能になった。
(2)検出したホールのラフネスを面積表示して、視覚的に判断できる表示方法を実現した。
(3)閾値の設定に対応したラフネス画図を作成することができるようになった。
検出したエッジについてのエッジ座標をθ−r平面に変換し、
θ−r平面でフーリエ変換して周波数成分を求め、
フーリエ空間で、指定された閾値でローパスフィルタ処理を行って高周波成分をカットし、
高周波成分をカットした周波数成分について逆フーリエ変換してθ−r平面でのホールの近似曲線を形成し、
該近似曲線と検出したエッジ座標との差からホールラフネスを計測することで構成される。
検出したエッジについてのエッジ座標をθ−r平面に変換するθ−r平面変換手段と、
θ−r平面でフーリエ変換して周波数成分を求める周波数成分演算手段と、
フーリエ空間で、指定された複数閾値でローパスフィルタ処理を行って高周波成分をカットするローパスフィルタ処理手段と、
高周波成分をカットした周波数成分について逆フーリエ変換してθ−r平面でのホールの近似曲線を形成する近似曲線形成手段と、
該近似曲線と検出したエッジ座標との差からホールラフネスを計測するホールラフネス計測処理手段と、
ホールの近似曲線による複数の第1の円形状表示と、ホールラフネス曲線による複数の第2の円形状表示をそれぞれ重ね合わせて行わせることによって両者の面積差が画面上に判別されるようにした画面表示手段と、を含んで構成される。
フーリエ空間で、指定された複数閾値でローパスフィルタ処理を行って高周波成分をカットするローパスフィルタ処理手段。
Claims (8)
- 被測定物に形成されたホールにエネルギー線を照射して被測定物から発生する反射エネルギーを検出することによってホールの中心から放射状にエッジを検出し、
検出したエッジについてエッジ座標をθ−r平面に変換し、
θ−r平面でフーリエ変換して周波数成分を求め、
当該求められた周波数成分についてローパスフィルタ処理を行うときの周波数の可変閾値を設定し、
周波数成分に基づいて当該可変閾値が設定されたローパスフィルタ処理によって得られるθ−r平面でのホールの近似曲線を前記可変闘値に基づいて複数形成し、画像表示装置の画面上に、前記検出されたエッジ座標に基づくホール円形表示と複数の近似曲線に基づくホール円形表示とを重ねることで、双方のホール円形表示の差による複数のホールラフネス画像を表示し、
複数のホールラフネス画像から選択された1つのホールラフネス画像に基づいてホールラフネスを計測すること
を特徴とするホールラフネス計測方法。 - 被測定物に形成されたホールにエネルギー線を照射して被測定物から発生する反射エネルギーを検出することによってホールの中心から放射状にエッジを検出し、
検出したエッジについてのエッジ座標をθ−r平面に変換し、
θ−r平面でフーリエ変換して周波数成分を求め、
当該求められた周波数成分についてローパスフィルタ処理を行うときの周波数の可変閾値を設定し、
フーリエ空間で、指定された閾値でローパスフィルタ処理を行って高周波成分をカットし、
高周波成分をカットした周波数成分について当該可変閾値が設定されたローパスフィルタ処理によって得られるθ−r平面でのホールの近似曲線を前記可変闘値に基づいて複数形成し、画像表示装置の画面上に、前記検出されたエッジ座標に基づくホール円形表示と複数の近似曲線に基づくホール円形表示と重ねることで、双方のホール円形表示の差による複数のホールラフネス画像を表示し、
複数のホールラフネス画像から選択された1つのホールラフネス画像に基づいてホールラフネスを計測すること
を特徴とするホールラフネス計測方法。 - 被測定物に形成されたホールにエネルギー線を照射して被測定物から発生する反射エネルギーを検出することによってホールの中心から放射状にエッジを検出し、
検出したエッジについてエッジ座標をθ−r平面に変換し、
θ−r平面でフーリエ変換して周波数成分を求め、
当該求められた周波数成分についてローパスフィルタ処理を行うときの周波数の可変閾値を設定し、
当該可変閾値が設定されたローパスフィルタ処理によって得られるθ−r平面で、ホールの近似曲線を前記可変闘値に基づいて複数形成し、1つの近似曲線と検出したエッジ座標との差からホールラフネスを計測するホールラフネス計測方法において、
前記検出されたエッジ座標に基づくホール円形表示と複数の近似曲線に基づくホール円形表示とを重ねることで、双方のホール円形表示の差による複数のホールラフネス画像を表示し、
画面表示装置の画面上に、検出されたエッジ座標に基づくホールの近似曲線による第1の円形状表示と、複数の近似曲線による複数の第2の円形状表示を重ね合わせて行わせ、第1の円形状表示と複数の第2の円形状表示から選択された1つの第2の円形状表示とから双方の面積差が画面上に判別されてホールラフネスが計測されるようにしたこと
を特徴とするホールラフネス計測方法。 - 被測定物に形成されたホールにエネルギー線を照射して被測定物から発生する反射エネルギーを検出することによってホールの中心から放射状にエッジを検出し、
検出したエッジについてのエッジ座標をθ−r平面に変換し、
θ−r平面でフーリエ変換して周波数成分を求め、
当該求められた周波数成分についてローパスフィルタ処理を行うときの周波数の可変閾値を設定し、
フーリエ空間で、指定された閾値でのローパスフィルタ処理を行って高周波成分をカットし、
高周波成分をカットした周波数成分について当該可変閾値が設定されたローパスフィルタ処理によって得られるθ−r平面でのホールの近似曲線を前記可変闘値に基づいて複数形成し、
1つの近似曲線と検出したエッジ座標との差からホールラフネスを計測するホールラフネス計測方法において、
画面表示装置の画面上に、検出されたエッジ座標に基づくホールの近似曲線による第1の円形状表示と、複数の近似曲線による複数の第2の円形状表示を重ね合わせて行わせ、第1の円形状表示と複数の第2の円形状表示から選択された1つの第2の円形状表示とから双方の面積差が画面上に判別されてホールラフネスが計測されるようにしたこと
を特徴とするホールラフネス計測方法。 - 被測定物に形成されたホールにエネルギー線を照射して被測定物から発生する反射エネルギーを検出することによってホールの中心から放射状にエッジを検出するエッジ検出手段と、
検出したエッジについてエッジ座標をθ−r平面に変換するθ−r平面変換手段と、
θ−r平面でフーリエ変換して周波数成分を求める周波数成分取得手段と、
当該求められた周波数成分についてローパスフィルタ処理を行うときの周波数の可変闘値を設定する周波数闘値設定手段と、
当該可変闘値が設定されたローパスフィルタ処理によって得られる周波数成分に基づいてθ−r平面でのホールの近似曲線を前記可変闘値に基づいて複数形成する近似曲線形成手段と、
画像表示装置の画面上に、前記検出されたエッジ座標に基づくホール円形表示と複数の近似曲線に基づくホール円形表示とを重ねることで、双方のホール円形表示の差による複数のホールラフネス画像を表示するホールラフネス画像表示手段と、
表示された複数のホールラフネス画像から選択された1つのホールラフネス画像に基づいてホールラフネスを評価する評価手段と、を含んで構成されること
を特徴とするホールラフネス計測装置。 - 被測定物に形成されたホールにエネルギー線を照射して被測定物から発生する反射エネルギーを検出することによってホールの中心から放射状にエッジを検出するエッジ検出手段と、
検出したエッジについてのエッジ座標をθ−r平面に変換するθ−r平面変換手段と、
θ−r平面でフーリエ変換して周波数成分を求める周波数成分取得手段と、
当該求められた周波数成分についてローパスフィルタ処理を行うときの周波数の可変閾値を設定する周波数閾値設定手段と、
フーリエ空間で、指定された閾値でローパスフィルタ処理を行って高周波成分をカットするローパスフィルタ処理手段と、
高周波成分をカットした周波数成分について当該可変閾値が設定されたローパスフィルタ処理によって得られるθ−r平面でのホールの近似曲線を前記可変闘値に基づいて複数形成する近似曲線形成手段と、
画像表示装置の画面上に、前記検出されたエッジ座標に基づくホール円形表示と複数の近似曲線に基づくホール円形表示とを重ねることで、双方のホール円形表示の差による複数のホールラフネス画像を表示するホールラフネス画像表示手段と、
表示された複数のホールラフネス画像から選択された1つのホールラフネス画像に基づいてホールラフネスを計測するホールラフネス計測処理手段と、を含んで構成されること
を特徴とするホールラフネス計測装置。 - 被測定物に形成されたホールにエネルギー線を照射して被測定物から発生する反射エネルギーを検出することによって、ホールの中心から放射状にエッジを検出するエッジ検出手段と、
検出したエッジについてエッジ座標をθ−r平面に変換するθ−r平面変換手段と、
θ−r平面でフーリエ変換して周波数成分を求める周波数成分取得手段と、
当該求められた周波数成分についてローパスフィルタ処理を行うときの周波数の可変閾値を設定する周波数閾値設定手段と、
当該可変閾値が設定されたローパスフィルタ処理によって得られるθ−r平面で、ホールの近似曲線を前記可変闘値に基づいて複数形成する近似曲線形成手段と、
画像表示装置の画面上に、前記検出されたエッジ座標に基づくホールの近似曲線による第1の円形状表示と、複数の近似曲線による第2の円形状表示のそれぞれを重ね合わせて行わせることによって双方の面積差がそれぞれ画面上に判別されるようにした画面表示手段と、を含んで構成され、重ね合わされた複数の円形状表示から選択された1つの円形状表示に基づいてホールラフネスを計測すること
を特徴とするホールラフネス計測装置。 - 被測定物に形成されたホールにエネルギー線を照射して被測定物から発生する反射エネルギーを検出することによってホールの中心から放射状にエッジを検出するエッジ検出手段と、
検出したエッジについてのエッジ座標をθ−r平面に変換するθ−r平面変換手段と、
θ−r平面でフーリエ変換して周波数成分を求める周波数成分取得手段と、
当該求められた周波数成分についてローパスフィルタ処理を行うときの周波数の可変閾値を設定する周波数閾値設定手段と、
フーリエ空間で、指定された閾値でローパスフィルタ処理を行って高周波成分をカットするローパスフィルタ処理手段と、
高周波成分をカットした周波数成分について当該可変閾値が設定されたローパスフィルタ処理によって得られるθ−r平面でのホールの近似曲線を前記可変闘値に基づいて複数形成する近似曲線形成手段と、
1つの近似曲線と検出したエッジ座標との差からホールラフネスを計測するホールラフネス計測処理装置において、
検出されたエッジ座標に基づいたホールの近似曲線による第1の円形状表示と、複数の近似曲線による第2の円形状表示のそれぞれとを重ね合わせて行わせることによって双方の面積差が画面上にそれぞれ判別されるようにした画面表示装置と、を含んで構成され、重ね合わされた複数の円形状表示から選択された1つの円形状表示に基づいてホールラフネスを計測すること
を特徴とするホールラフネス計測装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2005104266A JP4975263B2 (ja) | 2005-03-31 | 2005-03-31 | ホールラフネス計測方法および装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2005104266A JP4975263B2 (ja) | 2005-03-31 | 2005-03-31 | ホールラフネス計測方法および装置 |
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JP2006284351A JP2006284351A (ja) | 2006-10-19 |
JP4975263B2 true JP4975263B2 (ja) | 2012-07-11 |
Family
ID=37406440
Family Applications (1)
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JP2005104266A Active JP4975263B2 (ja) | 2005-03-31 | 2005-03-31 | ホールラフネス計測方法および装置 |
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- 2005-03-31 JP JP2005104266A patent/JP4975263B2/ja active Active
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