JP6294099B2 - パターン測定装置、及びパターン測定装置の管理装置 - Google Patents
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Description
従って、図8に例示したようなDistortion値が得られ、且つDistortion値の閾値を3.0nmと設定した場合、それ以下で最もトップ側に近いTh.70%のパラメータで抽出された輪郭線をプロセスバイアス確認のための輪郭線として使用する。
202 偏向器
203 検出器
204 制御装置
205 管理装置
206 設計データ記憶媒体
207 画像処理部
208 メモリ
209 測定パラメータ設定部
210 入力装置
211 輪郭線抽出部
212 歪み量演算部
213 EPE測長実行部
Claims (5)
- 荷電粒子線装置によって得られた画像データに基づいて、画像データ上のパターンの輪郭線データを抽出する画像処理装置を備えたパターン測定装置において、
当該画像処理装置は、前記パターンエッジの輝度分布に対する複数の閾値設定に基づいて、複数の輪郭線を抽出すると共に、当該複数の輪郭線の歪みを示す指標値を求め、前記複数の輪郭線の輪郭線形成条件の中から、前記指標値が所定の条件を満たすパターンの最もボトム側、或いは最もトップ側の輪郭線の輪郭線形成条件を選択することを特徴とするパターン測定装置。 - 請求項1において、
前記画像処理装置は、前記所定の条件を満たす輪郭線形成条件によって得られた輪郭線に関する寸法測定を実行することを特徴とするパターン測定装置。 - 荷電粒子線装置によって得られた画像データに基づいて、画像データ上のパターンの輪郭線データを抽出する画像処理装置を備えたパターン測定装置において、
当該画像処理装置は、前記パターンエッジの輝度分布に対する複数の閾値設定に基づいて、複数の輪郭線を抽出すると共に、当該複数の輪郭線の歪みを示す指標値を求め、前記複数の輪郭線の輪郭線形成条件の中から、前記歪みを示す指標値が所定値以下、或いは所定値未満のパターンの最もボトム側、或いは最もトップ側の輪郭線の輪郭線形成条件を選択することを特徴とするパターン測定装置。 - 複数の荷電粒子線装置によって得られた画像データに基づいて形成される輪郭線データを評価する画像処理装置を備えたパターン測定装置の管理装置であって、
前記画像処理装置は、複数の輪郭線形成条件の中から、当該輪郭線の歪みを示す指標値が所定の条件を満たすパターンの最もボトム側、或いは最もトップ側の輪郭線の輪郭線形成条件を選択することを特徴とするパターン測定装置の管理装置。 - 請求項4において、
前記画像処理装置は、前記所定の条件を満たす輪郭線形成条件を、前記複数の荷電粒子線装置の機差評価を行うための輪郭線形成条件として設定することを特徴とするパターン測定装置の管理装置。
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