JP4975211B2 - 新規な光開始剤及びその応用 - Google Patents
新規な光開始剤及びその応用 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4975211B2 JP4975211B2 JP2000552170A JP2000552170A JP4975211B2 JP 4975211 B2 JP4975211 B2 JP 4975211B2 JP 2000552170 A JP2000552170 A JP 2000552170A JP 2000552170 A JP2000552170 A JP 2000552170A JP 4975211 B2 JP4975211 B2 JP 4975211B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- alkyl
- poly
- substituted
- block
- hydrogen
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- GWIDQKWZSRPDQO-UHFFFAOYSA-N C[NH+](c1ccccc1)[O-] Chemical compound C[NH+](c1ccccc1)[O-] GWIDQKWZSRPDQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F2/00—Processes of polymerisation
- C08F2/38—Polymerisation using regulators, e.g. chain terminating agents, e.g. telomerisation
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
- A61K6/00—Preparations for dentistry
- A61K6/80—Preparations for artificial teeth, for filling teeth or for capping teeth
- A61K6/884—Preparations for artificial teeth, for filling teeth or for capping teeth comprising natural or synthetic resins
- A61K6/887—Compounds obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F2/00—Processes of polymerisation
- C08F2/46—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
- C08F2/48—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
- C08F2/50—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D7/00—Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
- C09D7/40—Additives
- C09D7/45—Anti-settling agents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D7/00—Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
- C09D7/40—Additives
- C09D7/65—Additives macromolecular
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
- G03F7/031—Organic compounds not covered by group G03F7/029
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/0008—Organic ingredients according to more than one of the "one dot" groups of C08K5/01 - C08K5/59
- C08K5/0025—Crosslinking or vulcanising agents; including accelerators
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Oral & Maxillofacial Surgery (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Animal Behavior & Ethology (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Veterinary Medicine (AREA)
- Public Health (AREA)
- Plastic & Reconstructive Surgery (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Inks, Pencil-Leads, Or Crayons (AREA)
- Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
- Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
本発明は、光開始剤類(それらは、連鎖移動基を有する光開始剤類の重合により得られる)及びブロックコポリマーを得る該マクロ光開始剤の光重合に関する。
【0002】
SH−置換基を含む光開始剤のいくつかは、当技術において知られており、例えば米国特許4582862の実施例に開示されている。SH−置換を有する多くのSH−置換光開始剤は、GB-A 2320027に記載されている。それらの化合物は、連鎖移動剤としては知られていない。Y. Yagci et al in J. Macromol. Sci. Chem., A28(1), pp. 129-141(1991)は、第一のモノマーと化合物の熱重合により、次いで第二のモノマーを光化学的に重合することによるブロック−コポリマーの製造のための開始剤としてアゾ−ベンゾイン化合物の使用を記載している。 J. of polym. Sci., Part A, Polymer Chemistry, Vol. 34, 3471-3484(1996) and FR−A 2715653において、R. Popielarz は、熱連鎖移動部分及び熱開始部分を有する化合物を、ブロック−コポリマーの製造のために用いている。
【0003】
定義されたブロックコポリマーの容易に制御し得る製造方法に対する必要性がこの技術に存在している。特定のマクロ光開始剤での光重合によりそのようなコポリマーが得られる。
【0004】
したがって、本発明の目的は、光開始基に連鎖移動基を更に含む光開始剤化合物を熱重合することにより得ることができるマクロ光開始剤である。
【0005】
連鎖移動基を有する光開始剤は、式(I)、(II)、(III)又は(IV):
【0006】
【化27】
【0007】
(式中、
aは、整数1、2又は4であり;
Arは、フェニル、ビフェニリル又はベンゾイルフェニル(そのそれぞれは、非置換又は1〜5個の、ハロゲン、C1−C12アルキル、C3−C12アルケニル、C5−C6シクロアルキル、フェニル−C1−C3アルキル、−COOH、−COO(C1−C4アルキル)、−OR7、−SH、−SR8、−SOR8、−SO2R8、−CN、−SO2NH2、−SO2NH(C1−C4アルキル)、−SO2−N(C1−C4アルキル)2、−NR9R10若しくは−NHCOR9により、又は式(V):
【0008】
【化28】
【0009】
の基により置換されている)であるか;あるいは
Arは、式(VI)又は(VII):
【0010】
【化29】
【0011】
の基であり;
Ar1は、aが1ならば、Arと同義であり;
aが2ならば、Ar1は、式(VIII)又は(VIIIa):
【0012】
【化30】
【0013】
で示される2価の芳香族基であり;
aが4ならば、Ar1は、式(VIIIb):
【0014】
【化31】
【0015】
で示される4価の芳香族基であり;
Ar2は、下記式:
【0016】
【化32】
【0017】
のいずれかの基(このそれぞれは、非置換又は1〜5個の、ハロゲン、C1−C12アルキル、C3−C12アルケニル、C5−C6シクロアルキル、フェニル−C1−C3アルキル、−COOH、−COO(C1−C4アルキル)、−OR7、−SH、−SR8、−SOR8、−SO2R8、−CN、−SO2NH2、−SO2NH(C1−C4アルキル)、−SO2−N(C1−C4アルキル)2、−NR9R10若しくは−NHCOR9により、又は上記の式(V)の基により置換されている)であるか、あるいは
Ar2は、式(VIa)又は(VIIa):
【0018】
【化33】
【0019】
の基であり;
Xは、直接結合、−O−、−S−又は−N(R6)−であり;
Yは、水素、C1−C12アルキル(これは、非置換又は1〜5個の、OH、OR6、COOR6、SH、N(R 6 ) 2 若しくはハロゲンにより、又は式(Ia):
【0020】
【化34】
【0021】
の基により置換されている)であるか、あるいは
Yは、C2−C20アルキル(これは、1〜9個の、−O−、−N(R6)−、−S−、−SS−、−X−C(=O)−、−X−C(=S)−、−C(=O)−X−、−X−C(=O)−X−、−C(=S)−X−若しくは−O−P(=S)(−SH)−O−により中断されている)であり、ここで、この中断されたC2−C20アルキルは、非置換又は1〜5個のSHにより置換されているか;あるいはYは、ベンジル(これは、非置換又は1回若しくは2回−CH2SHにより置換されている)であり、そして該ベンジルは、1〜4個のC1−C4アルキルにより更に置換されていてもよいか;あるいは
Yは、Ar(上記と同義);下記式:
【0022】
【化35】
【0023】
のいずれかの基、1〜4個のN、O若しくは/及びS−原子を含む、複素環式の5〜7員の、脂肪族又は芳香族環系;1〜6個のN、O若しくは/及びS−原子を含む、8〜12員の2環の、脂肪族又は芳香族環系(これらの単−又は2環は、非置換又はSHにより置換されているか;あるいは式(Ia)の基により1〜5回置換されている)であるか、あるいは
Yは、下記式:
【0024】
【化36】
【0025】
のいずれかの基であり;
qは、1又は2であり;
rは、1、2又は3であり;
pは、0又は1であり;
tは、1〜6であり;
uは、2又は3であり;
M1は、−NR3R4又は−OHであり;
R1及びR2は、互いに独立して、C1−C8アルキル(これは、非置換又はOH、C1−C4アルコキシ、SH、CN、−COO(C1−C8アルキル)、−OCO(C1−C4アルキル)若しくは−N(R3)(R4)により置換されている)であるか;又はR1及びR2は、互いに独立して、C3−C6アルケニル、フェニル、クロロフェニル、R7−O−フェニル、R8−S−フェニル又はフェニル−C1−C3−アルキル(このそれぞれは、非置換又は1〜5個のSHにより置換されている)であるか;又はR1とR2は、一緒になって、C2−C9アルキレン、C3−C9オキサアルキレン又はC3−C9アザアルキレン(このそれぞれは、非置換又は1〜5個のSHにより置換されている)であるか;あるいはR1及びR2は、互いに独立して、式(IX)又は(X):
【0026】
【化37】
【0027】
の基であり;
R3は、水素、C1−C12アルキル;C2−C4アルキル(これは、OH、SH、C1−C4アルコキシ、CN又は−COO(C1−C4アルキル)で置換されている)であるか;又はR3は、C3−C5アルケニル、C5−C12−シクロアルキル若しくはフェニル−C1−C3アルキルであり;
R4は、C1−C12アルキル;C2−C4アルキル(これは、OH、SH、C1−C4アルコキシ、CN又は−COO(C1−C4アルキル)により置換されている)であるか;又はR4は、C3−C5アルケニル、C5−C12−シクロアルキル、フェニル−C1−C3アルキル;又はフェニル(これは、非置換又はハロゲン、C1−C12アルキル、C1−C4アルコキシ若しくは−COO(C1−C4アルキル)により置換されている)であるか;あるいはR4は、R2と一緒になって、C1−C7アルキレン、フェニル−C 1 −C 4 アルキレン、o−キシリレン、2−ブテニレン、C2−C3オキサアルキレン又はC2−C3アザアルキレンであるか;あるいは
R3とR4は、一緒になって、C3−C7アルキレン(これは、−O−、−S−、−CO−若しくは−N(R6)−により中断されていることができ、かつ非置換又はOH、SH、C1−C4アルコキシ若しくは−COO(C1−C4アルキル)により置換されている)であり;
R5は、C1−C6アルキレン、キシリレン、シクロヘキシレン(このそれぞれは、非置換又は1〜5個のSHにより置換されている)であるか;又はR5は、直接結合であり;
R6は、水素;C1−C12アルキル(これは、非置換又はOH、SH若しくはHS−(CH2)q−(CO)O−で置換されている);C2−C12アルキル(これは、−O−、−NH−又は−S−で中断されている)であるか;又はR6は、C3−C5アルケニル、フェニル、フェニル−C1−C3−アルキル、CH2CH2CN;C1−C4アルキル−CO−CH2CH2−(これは、非置換又はOH若しくはSHにより置換されている);C2−C8アルカノイル(これは、非置換又はOH若しくはSHにより置換されている)であるか;あるいはR6は、ベンゾイルであり;
Zは、下記式:
【0028】
【化38】
【0029】
の2価基、−N(R17)−又は−N(R17)−R18−N(R17)−であり;
Gは、C1−C7アルキレンであり;
L及びEは、互いに独立して、直接結合、−O−、−S−又は−N(R6)−であるが、但しL及びEは、両方同時に直接結合ではなく;
Mは、O、S又はN(R6)であり;
R7は、水素、C1−C12アルキル、C3−C12−アルケニル、シクロヘキシル、ヒドロキシシクロヘキシル;C1−C4アルキル(これは、Cl、Br、CN、SH、−N(C1−C4アルキル)2、ピペリジノ、モルホリノ、OH、C1−C4アルコキシ、−OCH2CH2CN、−OCH2CH2COO(C1−C4アルキル)、−OOCR19、−COOH、−COO(C1−C8アルキル)、−CONH(C1−C4アルキル)、−CON(C1−C4アルキル)2、−CO(C1−C4アルキル)、又は下記式:
【0030】
【化39】
【0031】
のいずれかの基により一若しくは多置換されている)であるか;あるいはR7は、2,3−エポキシプロピル、−(CH2CH2O)mH;フェニル(これは、非置換又はハロゲン、C1−C4アルキル、C1−C4アルコキシ又は−COO(C1−C4アルキル)で置換されている)であるか;あるいはR7は、フェニル−C1−C3アルキル、テトラヒドロピラニル、テトラヒドロフラニル、−COOR19、−COO(C1−C8アルキル)、−CONH(C1−C4アルキル)、−CON(C1−C8アルキル)2、−Si(R20)(R21)2又は−SO2R22であり;
R8は、C1−C12アルキル、C3−C12アルケニル、シクロヘキシル、ヒドロキシシクロヘキシル;C1−C4アルキル(これは、Cl、Br、CN、SH、−N(C1−C4アルキル)2、ピペリジノ、モルホリノ、OH、C1−C4アルコキシ、−OCH2CH2CN、−OCH2CH2COO(C1−C4アルキル)、−O(CO)R19、−COOH、−COO(C1−C8アルキル)、−CON(C1−C4アルキル)2、下記式:
【0032】
【化40】
【0033】
の基、−CO(C1−C4アルキル)又はベンゾイルにより一若しくは多置換されている)であるか;あるいはR8は、2,3−エポキシプロピル、フェニル−C1−C3アルキル、フェニル−C1−C3ヒドロキシアルキル;フェニル(これは、非置換又はハロゲン、SH、C1−C4アルキル、C1−C4アルコキシ若しくは−COO(C1−C4アルキル)により一若しくは多置換されている)であるか;あるいはR8は、2−ベンゾチアジル、2−ベンズイミダゾリル、−CH2CH2−O−CH2CH2−SH又は−CH2CH2−S−CH2CH2−SHであり;
R9及びR10は、互いに独立して、水素、C1−C12アルキル;C2−C4アルキル(これは、OH、SH、C1−C4アルコキシ、CN又は−COO(C1−C4アルキル)で置換されている);あるいはR9及びR10は、互いに独立して、C3−C5アルケニル、シクロヘキシル、フェニル−C1−C3アルキル;フェニル(これは、非置換又はC1−C12アルキル若しくはハロゲンにより一若しくは多置換されている)であるか;あるいは
R 9 とR 10 は、一緒になって、C 2 −C 7 アルキレン(これは−O−、−S−又は−N(R 6 )−により中断されていることができる)であり;
R11及びR12は、互いに独立して、直接結合、−CH2−、−CH2CH2−、−O−、−S−、−CO−又は−N(R6)−であるが;但しR11とR12は、同時に直接結合ではなく;
R13は、水素;C1−C8アルキル又はフェニル(このそれぞれは、非置換又は1〜5個のSHにより置換されている)であり;
R14、R15及びR16は、互いに独立して、水素又は非置換若しくはSH−置換C1−C4アルキルであり;
R17は、水素、非置換若しくはSH−置換C1−C8アルキル又は非置換若しくはSH−置換フェニルであり;
R18は、C2−C16アルキレン(これは、非置換又は1〜5個のSH基により置換されており、そしてそれは、1〜6個の−O−、−S−又は−N(R17)−により中断されていることができる)であり;
R19は、C1−C4アルキル、C2−C4アルケニル又はフェニルであり;
R20及びR21は、互いに独立して、C1−C4アルキル又はフェニルであり;
R22は、C1−C18アルキル、フェニル又はフェニル(これは、C1−C14アルキルにより置換されている)であり;
Ar 3 は、フェニル、ナフチル、フリル、チエニル又はピリジルであって、このそれぞれは、非置換又はハロゲン、SH、OH若しくはC 1 −C 12 アルキル、C 1 −C 4 アルキル(これは、OH、ハロゲン、SH、−N(R 17 ) 2 、C 1 −C 12 アルコキシ、−COO(C 1 −C 18 アルキル)、−CO(OCH 2 CH 2 ) n OCH 3 又は−OCO(C 1 −C 4 アルキル)により置換されている)により置換されているか;又は該基類は、C 1 −C 12 アルコキシ、C 1 −C 4 アルコキシ(これは、−COO(C 1 −C 18 アルキル)又は−CO(OCH 2 CH 2 ) n OCH 3 により置換されている)により置換されているか;又は該基類は、−(OCH 2 CH 2 ) n OH、−(OCH 2 CH 2 ) n OCH 3 、C 1 −C 8 アルキルチオ、フェノキシ、−COO(C 1 −C 18 アルキル)、−CO(OCH 2 CH 2 ) n OCH 3 、フェニル又はベンゾイルにより置換されており;
nは、1〜20であり;
mは、2〜20であるが;
但し、基Ar、Ar1、Ar2、Ar3、R1、R2、R3、R4、R5又はYの少なくとも1つは、1〜5個の基SHで置換されているか、又はYは、少なくとも1つの−SS−基を含む)で示されるそれらである。
【0034】
C1−C20アルキルは、直鎖又は分岐であり、例えばC1−C18−、C1−C14−、C1−C12−、C1−C8−、C1−C6−又はC1−C4アルキルである。例は、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、N−ブチル、sec−ブチル、イソブチル、tert−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、2,4,4−トリメチルペンチル、2−エチルヘキシル、オクチル、ノニル、デシル、ドデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、オクタデシル及びイコシルである。C1−C18アルキル、C1−C14アルキル、C1−C12アルキル、C1−C8アルキル、C1−C6アルキル及びC1−C4アルキルは、C−原子の相当する数までC1−C20アルキルのために上記に与えられたと同じ意味を有する。
【0035】
一−又は多置換C1−C4アルキルは、1〜6回、例えば1〜4回、特に1又は2回置換されている。
【0036】
C2−C4ヒドロキシアルキルは、直鎖若しくは分岐のC2−C4アルキル(これは、OHにより置換されている)である。C2−C4アルキルは、C−原子の相当する数までC1−C20アルキルのために上記に与えられたと同じ意味を有する。例は、ヒドロキシメチル、2−ヒドロキシエチル、1−ヒドロキシエチル、3−ヒドロキシプロピル、2−ヒドロキシプロピル、4−ヒドロキシブチルである。
【0037】
C2−C10アルコキシアルキルは、C2−C10アルキル(それは、1個の−O−原子により中断されている)である。C2−C10アルキルは、C−原子の相当する数までC1−C20アルキルのために上記に与えられたと同じ意味を有する。例は、メトキシメチル、メトキシエチル、メトキシプロピル、エトキシメチル、エトキシエチル、エトキシプロピル、プロポキシメチル、プロポキシエチル、プロポキシプロピルである。
【0038】
1〜9、1〜5、1〜3又は1若しくは2個の、−O−、−N(R6)−、−S−、−S−S−X−C(=O)−、−X−C(=S)−、−C(=O)−X−、−X−C(=O)−X−、−C(=S)−X−により中断されているC2−C20アルキルは、例えば−CH2−O−CH2−、−CH2−S−CH2−、−CH2−N(CH3)−CH2−、−CH2CH2−O−CH2CH2−、−〔CH2CH2O〕y−、−〔CH2CH2O〕y−CH2−(ここで、y=1〜5)、−(CH2CH2O)5CH2CH2−、−CH2−CH(CH3)−O−CH2−CH(CH3)−又は−CH2−CH(CH3)−O−CH2−CH2CH2−である。好適なものは、中断されているC2−C12アルキルであり、この定義は、C−原子の相当する数まで上記に与えられている。
【0039】
C1−C16アルキレンは、直鎖若しくは分岐のアルキレン、例えばC1−C7アルキレン、C1−C6アルキレン、C1−C4アルキレン、すなわちメチレン、エチレン、プロピレン、1−メチルエチレン、1,1−ジメチル−エチレン、2,2−ジメチルプロピレン、ブチレン、1−メチルブチレン、1−メチルプロピレン、2−メチル−プロピレン、ペンチレン、ヘキシレン、ヘプチレン、オクチレン、ノニレン、デシレン、ドデシレン、テトラデシレン又はヘキサデシレンである、C1−C7アルキレン及びC1−C6アルキレンは、C−原子の相当する数までC2−C16アルキレンのために上記に与えられたと同じ意味を有する。
【0040】
もしR1とR2が、一緒になって、C2−C9アルキレンであるならば、例えばプロピル、ペンチル、ヘキシル、オクチル又はデシル環が形成される。もしR1とR2が一緒になって、C3−C9オキサアルキレン又はC3−C9アザアルキレンならば、該環は、O又はN原子により中断されている。したがって、それらは、例えばピペリジン、アゾリジン、オキソラン又はオキサン環である。
【0041】
もしR3とR4が、一緒になって、C3−C7アルキレン(場合により、それらが結合するN−原子と一緒に、−O−、−S−、−CO−又は−N(R6)−により中断されている)ならば、例えばモルホリノ又はピペリジノ基が形成される。もしR9とR10が、一緒になってC2−C7アルキレン(場合により、それらが結合するN−原子と一緒に、−O−、−S−、−CO−又は−N(R18)−により中断されている)ならば、例えばモルホリノ又はピペリジノ基が形成される。
【0042】
C3−C12アルケニル、例えばC3−C6アルケニル又はC3−C5アルケニル基は、一又は多置換されていてもよく、直鎖若しくは分岐であってよく、例えばアリル、メタリル、1,1−ジメチルアリル、1−ブテニル、3−ブテニル、2−ブテニル、1,3−ペンタジエニル、5−ヘキセニル又は7−オクテニル、特にアリルである。C3−C6アルケニル、C3−C5アルケニル及びC2−C4アルケニルは、相当するC−原子の数までC3−C12アルケニルに与えた同じ意味を有する。
【0043】
C2−C8アルカノイルは、例えばC2−C6−、C2−C4−又はC2−C3アルカノイルである。これらの基は、直鎖若しくは分岐であり、例えばエタノイル、プロパノイル、2−メチルプロパノイル、ヘキサノイル又はオクタノイルである。C2−C3アルカノイルは、相当するC−原子の数までC2−C8アルカノイルに与えた同じ意味を有する。
【0044】
C5−C12シクロアルキルは、例えばC5−C8−又はC5−C6シクロアルキル、すなわちシクロペンチル、シクロヘキシル、シクロオクチル、シクロドデシル、特にシクロペンチル及びシクロヘキシル、好適にはシクロヘキシルである。C5−C6シクロアルキルは、シクロペンチル又はシクロヘキシルである。
【0045】
C1−C12アルコキシは、例えばC1−C8アルコキシ、特にC1−C4アルコキシであり、そして直鎖若しくは分岐の基、例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、N−ブチルオキシ、sec−ブチルオキシ、イソブチルオキシ、tert−ブチルオキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ、ヘプチルオキシ、2,4,4−トリメチルペンチルオキシ、2−エチルヘキシルオキシ、オクチルオキシ、ノニルオキシ、デシルオキシ又はドデシルオキシ、特にメトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、N−ブチルオキシ、sec−ブチルオキシ、イソ−ブチルオキシ又はtert−ブチルオキシ、好適にはメトキシである。C1−C8アルコキシ及びC1−C4アルコキシは、相当するC−原子の数までC1−C12アルコキシに与えた同じ意味を有する。
【0046】
C1−C8アルキルチオ、例えばC1−C6−又はC1−C4アルキルチオは、直鎖若しくは分岐であり、そして例えばメチルチオ、エチルチオ、N−プロピルチオ、i−プロピルチオ、N−ブチルチオ、i−ブチルチオ、s−ブチルチオ、t−ブチルチオ、ペンチルチオヘキシルチオ又はオクチルチオ、好適にはメチルチオ又はブチルチオである。
【0047】
C3−C5アルケンオキシ基は、1回又は2回の不飽和であってよく、そして例えばアリルオキシ、メタリルオキシ、1,1−ジメチルアリルオキシ、1−ブテニルオキシ、3−ブテニルオキシ、2−ブテニルオキシ又は1,3−ペンタジエニルオキシ、特にアリルオキシである。
【0048】
フェニル−C1−C3−アルキルは、例えばベンジル、フェニルエチル、α−メチルベンジル又はα,α−ジメチルベンジル、特にベンジルである。置換されたフェニル−C1−C3アルキルは、フェニル環上が1〜4回、例えば1回、2回又は3回置換され、特に2回又は3回置換されている。
【0049】
複素環5〜7−員の脂肪族又は芳香族環は、1〜4個の、N、O及び/又はS−原子を含み、例えばチエニル、ピロリル、ピリジル、ピラジニル、ピラニル、ベンゾキサゾリル、ジオキソラニル、ジオキサニル、チアゾリル、オキサゾリル、1,3,4−チアジアゾリル、アゾリル又はジアゾリルである。
【0050】
8−〜12−員の2環の脂肪族又は芳香族環系は、1〜6個の、N、O及び/又はS−原子を含み、例えばベンゾフラニル、イソベンゾフラニル、インドリル、インダゾリル、プリニル、キノリニル、キナキサリニル、プリニル又はイソキノリニルである。この文脈での「環系」は、単環及び2個以上の縮合環を意味する。
【0051】
置換されたフェニルは、1〜4回、例えば1回、2回又は3回、特に1回又は2回置換されている。置換基は、例えばフェニル環の、2、3、4、5又は6位、特に2、6又は3位である。一又は多置換フェニルは、1〜4回、例えば1、2又は3回、特に1回又は2回置換されている。クロロフェニルは、クロロで置換されたフェニルである。カンホリルは、好適にはカンファー−10−イルである。
【0052】
ハロゲンは、フルオロ、クロロ、ブロモ及びヨード、特にフルオロ、クロロ及びブロロ、好適にはブロモ及びクロロである。
【0053】
Arの例は、式(VI)の基であり、下記式:
【0054】
【化41】
【0055】
(式中、
Lは、Oであり、
Gは、C2−又はC3アルキレンであり、そして
Eは、直接結合である)の基である。
【0056】
そのような光開始剤化合物の製造は知られており、例えば米国特許5077402及び英国特許出願9723965.1に記載されている。
【0057】
式(I)のチオール化合物は、例えば相当するジチオール又はポリチオールの過剰で処理することによりハロフェニル脂肪族ケトンから製造することができる。
【0058】
式(I)、(II)、(III)及び(IV)のチオール化合物は、相当するビニル、ヒドロキシ、ハロゲン又はアミノ前駆体から既知の方法により得ることができる。例えば "The Chemistry of the thiol Group", ed. S. Patai, John Wiley & Sons, p. 163, New York, 1974を参照されたい。ビニル基は、硫化水素添加又はチオ酢酸添加に続いての加水分解によりチオールへ直接に転換することができる。ハロゲン基は、金属硫化水素との反応によりチオールへ直接に転換することができる。チオール基への他のルートは、ブント塩類(Bunte salts)、キサンタート類、イソ−チオウロニウム塩類、ホスホルチオラート類及びチオエステル類の転換を含む。更に、ヒドロキシ基は、上記の方法の一つを用いて、硫化水素若しくは5硫化リンとの反応又はハロゲンを介して、チオール基へ直接に転換することができる。メルカプトカルボン酸、例えばメルカプト酢酸又はメルカプトプロピオン酸とアルコールとのエステル化は、チオールへの別の好都合なルート−である。アミンは、メルカプトハライド、例えば3−クロロ−1−プロパンチオールでのアルキル化、又はメルカプトカルボン酸、例えばメルカプト酢酸又はメルカプトプロピオン酸でのアミド化によりチオールへ転換することができる。
【0059】
本発明の式(I)のジスルフィドは、既知の方法(例えば、"Organic Functional Group Preparations", S.R. Sandler, Academic Press, p. 586, New York, 1983 を参照)により得ることができる。例えば、所望のジスルフィド化合物は、相当するハロゲン化物とナトリウムジスルフィドの反応により調製される。チオールの酸化は、ジスルフィドを調製するための好都合な方法である。例えば、過酸化水素、エタノール中のヨード及ヨードのアルカリ溶液は、酸化剤として用いることができる。非対称ジスルフィドは、ナトリウムチオラートと、アルキルチオスルファート、例えばn−ブチルチオスルファート、又はアリールチオスルファートとの反応により調製することができる。
【0060】
そのような反応の実施及びそのような反応のための反応条件は、一般的に当業者に既知である。この反応は、好適には、極性溶媒、例えばジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリジン又はジメチルスルホキシド中で実施される。この反応は、また混合溶媒系、例えば上述の極性溶媒の一つと不活性非プロトン溶媒、例えばベンゼン、トルエン、クロロホルム又はメチレンクロライドの混合物中でも実施することができる。大過剰のジチオールが、二量体の形成を最小にするために、推奨し得る。この反応のために用いるジチオールの量は、例えば基質に対して1〜10当量、好適には2〜6当量である。この反応は、例えば、室温(約20℃)から、150℃、好適には100℃までで実施することができる。この反応は、攪拌してか又は攪拌なしで進行させることができるが、攪拌しながらの反応が、この反応の進行を促進させるために好ましい。
【0061】
脂肪芳香族のα−ケトン化合物(これは、上述の方法により本発明の、SH−置換又は−SS−含有化合物へ転換することができる)の製造方法は、例えば米国特許4315807の、9欄42行〜11欄23行、及び13欄53行〜16欄54行に記載されている。チオール基の付加のための前駆体の調製(アリル化又はベンジル化により、R1又はR2がアルケニル、特にアリル、又はベンジルであるとき)は、例えば米国特許5077402の、欄16、17行〜欄18、31行に開示されている。脂肪芳香族のα−アミノケトン化合物の調製の別の記載は、米国特許4582862、4992547及び5077402に与えられている。
【0062】
本発明の別の目的は、連鎖移動剤として連鎖移動基を有する、式(I)、(II)、(III)又は(IV)の上に定義した化合物の使用である。
【0063】
本発明のマクロ光開始剤と調製するための適切なモノマーは、式(XIX):
【0064】
【化42】
【0065】
(式中、
X1は、−CN、−OSi(R23)3、−R24、−OR24、−SR24、−NR25R26、−NHR26又は下記式:
【0066】
【化43】
【0067】
のいずれかの基であり;
Y1、Y2及びY3は、互いに独立して、水素、C1−C4アルキル、ハロゲン、−CN又は−COOR24であるか;又はY1とY3は、一緒になって、C3−C7アルキレン(これは、非置換又はOH、C1−C4アルコキシ若しくは−COO(C1−C4アルキル)で置換されており、そしてそれは、−O−、−S−、−CO−又は−N(R6)−により中断されていてもよい)であり;
X2は、−OSi(R23)3、−R24、−OR24、−SR24又は−NR25R26であり;
R23は、互いに独立して、水素又は脂肪族、環式脂肪族、芳香族若しくは混合された脂肪族−芳香族炭化水素基(これは、1〜20個の炭素原子を含む)であるが、但し少なくとも1つのR23は、水素ではなく;
R24は、水素;又は脂肪族、環式脂肪族、芳香族若しくは混合された脂肪族−芳香族炭化水素基(これは、1〜20個の炭素原子を含み、場合によりその脂肪族部分に1個又はそれ以上のエーテル酸素を含み、場合により1個又はそれ以上の官能置換基(これらは、重合条件下で非反応性である)を含み、そして場合により下記式:
【0068】
【化44】
【0069】
の反応性基の1個又はそれ以上を含む)であるか;又はR24は、少なくとも20個の炭素原子含み、場合によりその脂肪族部分に1個又はそれ以上のエーテル酸素を含み、場合により1個又はそれ以上の官能置換基(これらは、重合条件下で非反応性である)を含み、そして場合により下記式:
【0070】
【化45】
【0071】
の反応性基の1個又はそれ以上を含む重合性基であり;
Y4は、水素又はCH3であり;
Z1は、O又はNR25であり;
R25及びR26は、互いに独立して、C1−C4アルキルであり;そして
R6は、水素;C1−C12アルキル(これは非置換又はOH、SH若しくはHS−(CH2)q−(CO)O−により置換されている)であるか;又はR6は、C2−C12アルキル(これは、−O−、−NH−又は−S−により中断されている)であるか;又はR6は、C3−C5アルケニル、フェニル、フェニル−C1−C3−アルキル、CH2CH2CN;C1−C4アルキル−CO−CH2CH2−(これは、非置換又はOH若しくはSHにより置換されている);C2−C8アルカノイル(これは、非置換又はOH若しくはSHにより置換されている)であるか;又はR6は、ベンゾイルであり;そして
qは、1又は2である)で示されるモノマーである。
【0072】
したがって、本発明の目的は、モノマーが式(XIX)のものであるマクロ光開始剤である。
【0073】
好適には、R23は、水素;C1−C20アルキル、C3−C12−アルケニル、C3−C8シクロアルキル、C4−C8シクロアルケニル(そのそれぞれは、非置換又はF、Cl、Br、CN,N(C1−C4アルキル)2、ピペリジノ、モルホリノ、OH、C1−C4アルコキシ、−OCH2CH2CN、−OCH2CH2COO(C1−C4アルキル)、−O(CO)R19、−COOH、−(CO)O(C1−C8アルキル)、−CONH(C1−C4アルキル)、−CON(C1−C4アルキル)2若しくは−CO(C1−C4アルキル)により一又は多置換されているか、又は下記式:
【0074】
【化46】
【0075】
の基により置換されている)であるか;あるいはR23は、フェニル、ピリジニル、ビフェニリル又はベンゾイルフェニル(そのそれぞれは、非置換又はハロゲン、C1−C12アルキル、C1−C12アルコキシ、C3−C8シクロアルキル、−COOH若しくは−(CO)O(C1−C12アルキル)により一又は多置換されている)であるか;あるいはR23は、2,3−エポキシプロピル、−(CH2CH2O)mH若しくは−(CH2CH2O)mR19、フェニル−C1−C3アルキル、OR7、−NR9R10、又は−NHCOR9であり;そしてm、R7、R9、R10及びR19は、上記と同義である。
【0076】
R24は、特に水素;C1−C20アルキル、C3−C12−アルケニル、C3−C8シクロアルキル、C4−C8シクロアルケニル(そのそれぞれは、非置換又はF、Cl、Br、CN,N(C1−C4アルキル)2、フェニル、フェノキシ、ピペリジノ、モルホリノ、OH、C1−C4アルコキシ、−OCH2CH2CN、−OCH2CH2COO(C1−C4アルキル)、−O(CO)R19、−COOH、−(CO)O(C1−C8アルキル)、−CONH(C1−C4アルキル)、−CON(C1−C4アルキル)2若しくは−CO(C1−C4アルキル)により一又は多置換されているか、又は下記式:
【0077】
【化47】
【0078】
の基により置換されている)であるか;あるいはR24は、フェニル、ピリジニル、ビフェニリル又はベンゾイルフェニル(そのそれぞれは、非置換又はハロゲン、C1−C12アルキル、C1−C12アルコキシ、C3−C8シクロアルキル、−COOH、−(CO)O(C1−C12アルキル)、−O(CO)O(C1−C12アルキル)、テトラヒドロピラニルオキシ、テトラヒドロフラニルオキシ若しくはテトラヒドロフルフラニルオキシにより一又は多置換されている)であるか;あるいはR24は、フェニル−C1−C3アルキル、テトラヒドロピラニル、テトラヒドロフラニル、アダマンチル、カンホリル、2,3−エポキシプロピル、−(CH2CH2O)mHであり;そしてm及びR19は、上記と同義である。
【0079】
好適な基R25及びR26は、互いに独立して、水素、C1−C12アルキル(それは、非置換又はOH、C1−C4アルコキシ、CN若しくは−COO(C1−C4アルキル)により置換されている)であるか;又はR25及びR26は、互いに独立して、C3−C5アルケニル、シクロヘキシル、フェニル−C1−C3アルキル、アダマンチル、カンホリル、非置換フェニル;又はフェニル(これは、C1−C12アルキル若しくはハロゲンにより一又は多置換されている)であるか;あるいはR25とR26は、一緒になって、C2−C7アルキレン(これは、−O−、−S−又は−N(R6)−により中断されていることができる)であり;そしてR6は、上記と同義である。
【0080】
本発明のマクロ光開始剤を調製するための好適なモノマーは、式(XIX)(ここで、
X1は、−S−COOR28、−CONHR29、−CONR30R31、−CN;フェニル若しくはベンジル(そのそれぞれは、非置換又はハロゲン、C1−C12アルキル、C1−C12アルコキシ、C3−C8シクロアルキル、−COOH、−(CO)O(C1−C12アルキル)、−O(CO)O(C1−C12アルキル)、テトラヒドロピラニルオキシ、テトラヒドロフラニルオキシ、又はテトラヒドロフルフリルオキシで置換されている)であり;
Y1及びY2は、水素であり;
Y3は、水素又はC1−C4アルキルであり;
R28は、水素;C1−C20アルキル、C3−C12−アルケニル、C3−C8シクロアルキル、C4−C8シクロアルケニル(そのそれぞれは、非置換又はF、Cl、Br、CN,N(C1−C4アルキル)2、フェニル、フェノキシ、ピペリジノ、モルホリノ、OH、C1−C4アルコキシ、−OCH2CH2CN、−OCH2CH2COO(C1−C4アルキル)、−O(CO)R19、−COOH、−COO(C1−C8アルキル)、−CONH(C1−C4アルキル)、−CON(C1−C4アルキル)2、若しくは−CO(C1−C4アルキル)により一又は多置換されているか、又は下記式:
【0081】
【化48】
【0082】
の基により置換されている)であるか;あるいはR28は、2,3−エポキシプロピル、−(CH2CH2O)mH、−(CH2CH2O)mR19であり;
R29、R30及びR31は、互いに独立して、C1−C20アルキルであるか;又はR30とR31は、一緒になって、C3−C7アルキレン(これは、−O−、−S−、−CO−又は−N(R6)−により中断されていてもよく、このC3−C7アルキレンは、非置換又はOH、C1−C4アルコキシ若しくは−(CO)O(C1−C4アルキル)により置換されている)であり;そしてm、R6及びR19は、上記と同義である)で示される。
【0083】
適切なモノマーは、親水性、両親媒性又は疎水性である。
【0084】
親水性モノマーの例は、(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチル(メタ)アクリルアミド、N−イソプロペニル(メタ)アクリルアミド、N−ビニルホルムアミド、(メタ)アクリル酸、クロトン酸、イタコン酸、ケイ皮酸、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリラート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリラート、マレイン酸、マレイン酸無水物、N−(1,1−ジメチル3−オキソブチル)(メタ)アクリラート、4−ヒドロキシスチレン、4−ヒドロキシメチルスチレン、p−1−(2−ヒドロキシブチル)スチレン、p−1−(2−ヒドロキシプロピル)スチレン、p−2−(2−ヒドロキシプロピル)スチレン及びスチレンスルホン酸である。両親媒性のモノマー又はオリゴマーの例は、(メタ)アクリロニトリル、N−(メタ)アクリルモルホリン、N−ビニルピロリドン、N−ビニルアセトアミド、N−ビニル−N−メチルアセトアミド、ビニルメチルエーテる、ポリエチレングリコールモノ−(メタ)アクリラート、メトキシポリ(エチレングリコール)モノ−(メタ)アクリラート、ポリ(プロピレングリコール)モノ−(メタ)アクリラート、N−ビニルカプロラクタム、N−ビニルカルバゾール、4−ビニルベンジルテトラヒドロフルフリルエーテル及びグリシジル(メタ)アクリラートである。疎水性モノマーの例は、メチル(メタ)アクリラート、エチル(メタ)アクリラート、N−ブチル(メタ)アクリラート、tert−ブチル(メタ)アクリラート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリラート、イソボルニル(メタ)アクリラート、ラウリル(メタ)アクリラート、ステアリル(メタ)アクリラート、1−ナフチル(メタ)アクリラート、2−ナフチル(メタ)アクリラート、アダマンチル(メタ)アクリラート、スチレン、2,4,6−トリメチルスチレン、2,5−ジクロロスチレン、α−メトキシスチレン、α−メチルスチレン、3−メチルスチレン、4−メチルスチレン、3−ニトロスチレン、4−クロロメチルスチレン、4−アミノスチレン、4−tert−ブチルスチレン、4−tert−ブトキシカルボニルオキシスチレン、3−ブロモスチレン、4−ブロモスチレン、2−クロロスチレン、3−クロロスチレン、4−クロロスチレン、4−シアノスチレン、4−シクロヘキシルスチレン、ジメチルアミノメチル−スチレン、ペンタクロロスチレン、4−ヨードスチレン、β−メトキシスチレン、2−メトキシスチレン、4−メトキシスチレン、1−ビニルナフタレン、2−ビニルナフタレン、ビニルアセタート、ビニルプロピオナート、イソブチルビニルエーテル、ビニルクロリド、4−ビニルベンジルクロリド、2−フルオロエチル(メタ)アクリラート、ペルフルオロシクロヘキシル(メタ)アクリラート、ペルフルオロオクチル(メタ)アクリラート、2,2,3,3−テトラフルオロプロピル(メタ)アクリラート、2,2,2−トリフルオロエチル(メタ)アクリラート及び3−(トリフルオロメチル)ベンジル(メタ)アクリラートである。このモノマー類は、単独又は所望の混合物で用いることができる。
【0085】
好適なモノマーは、アクリラート類、メタクリラート類及びスチレン誘導体類、特に(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリラート、(メタ)アクリルアミド、(メタ)アクリルニトリル類、スチレン及びスチレン誘導体類からなる群より選択される。
【0086】
本発明のマクロ光開始剤類は、上述のように、モノマーと連鎖移動基を有する光開始剤の熱重合により調製される。当業者は、一般に、どのように熱重合を行うかを知っている。
【0087】
一般に、熱開始剤としては、例えばアゾビスイソブチロニトリル(AIBN)、N−アセチル−N′−α−シアノエチルジイミド、2−シアノ−2−プロピル−アゾ−ホルムアミド、N−アセチル−N′−α−シアノシクロペンチルジイミド、3,6−ジシアノ−3,6−ジメチル−1,2−ジアゾシクロ−1−ペンタン、N−アセチルN′−α−シアノシクロヘプチルジイミド、フェニル−アゾ−トリフェニルメタン、4−ニトロフェニル−アゾ−トリフェニルメタン、4−メトキシフェニル−アゾ−2−(メチルプロパンジニトリル)、ベンゾイルペルオキシド、メチルエチルケトンペルオキシド、t−ブチルペルオキシベンゾアート又はt−ブチルペルオキシ−2−エチルヘキサノアートを用いることができる。これらの化合物は、通常、モノマーに基づいて、0.005モル%〜5モル%の濃度で、好適には0.05モル%〜1モル%の濃度で加えられる。
【0088】
連鎖移動部分を有する光開始剤は、得られたポリマーの分子量を制御するために、いかなる割合においても組み合わせることができる。光開始剤:モノマーのモル比は、例えば1:100,000〜1:1;好適には1:50,000〜1:1である。
【0089】
重合は、通常、バルク又はいかなる濃度の溶液中でも実施することができる。適切な溶媒の例は、炭化水素類、例えばベンゼン、トルエン、キシレン、シクロヘキサン;エステル類、例えばエチルアセタート、ブチルアセタート、アミルアセタート;ケトン類、例えばアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン;エーテル類、例えばテトラヒドロフラン及び1,4−ジオキサン;アルコール類、例えばメタノール、エタノール、イソブチルアルコール、1,2,6−ヘキサントリオール、グリセリン;アミド類、例えばN,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルホルムアミド、N,N−ジエチルホルムアミド、N−メチルアセトアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルプロピオンアミド;ピロリドン類、例えば1−メチル−2−ピロリドン、ピロリドン、ε−カプロラクタム;グリコール類、例えばエチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレングリコール、トリ(メチレングリコール)、トリ(エチレングリコール)、ヘキシレングリコール、ジ(エチレングリコール)、ジエチレングリコール、ジ(プロピレングリコール)、ポリ(エチレングリコール);グリコールエーテル、例えば2−メトキシエタノール、2−エトキシエタノール、2−(2−メトキシ)エトキシエタノール、2−プロポキシエタノール、2−ブトキシエタノール、ジ(エチレングリコール)モノメチルエーテル、ジ(エチレングリコール)モノエチルエーテル、ジ(エチレングリコール)モノブチルエーテル、トリ(エチレングリコール)モノエチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノール、1−エトキシ−2−プロパノール、ジ(プロピレングリコール)モノメチルエーテル、ジ(プロピレングリコール)モノエチルエーテル、トリ(プロピレングリコール)モノメチルエーテル、3−メトキシl−3−メチル−1−ブタノール;ハロゲン化炭化水素、例えばクロロホルム又はメチレンクロライドである。この溶媒は、上述の溶媒の2種以上の混合物の形態であってもよい。
【0090】
重合は、一般に、生成した遊離基の不活性化を避けるために、不活性雰囲気下で実施される。適切な不活性ガス類の例は、窒素、ヘリウム、ネオン、アルゴン及びクセノンである。
【0091】
重合は、通常、モノマーが重合することができる適切な温度で行われる。その温度は、モノマー、開始剤及び溶媒の選択に強く依存する。温度は、一般的に40℃〜180℃、好適には60℃〜130℃の範囲である。
【0092】
得られたマクロ光開始剤の数及び重量平均分子量は、好都合には、通常の方法、例えば(ゲルパーミエーションクロマトルグラフィ(gel Permeation chromatography))GPC測定により測定され、標準のポリスチレン又は/及びポリ(メチルメタクリラート)により計算される。得られたマクロ光開始剤の数及び重量平均分子量は、300〜10,000,000、好適には500〜1,000,000の範囲である。
【0093】
したがって、連鎖移動基を有する光開始剤がモノマーと熱的に重合されることを特徴とするマクロ光開始剤の製造方法は、本発明の別の目的である。本発明は、また、式(I)、(II)、(III)又は(IV)の光開始剤と、式(XIX)のモノマーとの反応により得られるマクロ光開始剤にも関する。
【0094】
好適にはマクロ光開始剤は、式(XI):
【0095】
【化49】
【0096】
(式中、
bは、1、2又は3であり;
PIは、光開始剤部分であり;そして
A1は、重合性基である)で示される。
【0097】
更に好適なものは、PIが、もしbが1ならば、式(XIIa)又は(XIIb)の基であり、もしbが2ならば、式(XIIIa)又は(XIIIb)の基であり、もしbが3ならば、式(XIVa):
【0098】
【化50】
【0099】
(式中、
Arは、フェニル又はビフェニリル(そのそれぞれは、非置換又は1〜3個の、C1−C12アルキル、−OR7、−SR8若しくは−NR9R10により置換されている)であり;
Ar2は、下記式:
【0100】
【化51】
【0101】
の基(そのそれぞれは、非置換又は1〜3個の基:C1−C12アルキル、−OR7、−SR8若しくは−NR9R10により置換されている)のいずれかであり;
Xは、直接結合、−O−、−S−又は−N(R6)−であり;
R1及びR2は、互いに独立して、C1−C8アルキル、C3−C6アルケニル、フェニル又はフェニル−C1−C3−アルキルであり;
M1は、−NR3R4又は−OHであり;
M2は、式(XV):
【0102】
【化52】
【0103】
の基であり;
E1は、C1−C12アルキレン、フェニレン、キシリレン、又はC2−C6アルキレン(これは、1〜2個の、−O−、−S−又は−OC(=O)−により中断されている)であり;
E2は、3個の遊離の結合手を有するC1−C8アルキレン;3個の遊離の結合手を有するC2−C12アルキレン(これは、1〜3個の−O−、−S−又は−OC(=O)−により中断されている)であるか、又はE2は、下記式:
【0104】
【化53】
【0105】
のいずれかの基であり;
E3は、4個の遊離の結合手を有するC1−C12アルキレン;又は4個の遊離の結合手を有するC2−C12アルキレン(これは、1〜3個の−O−、−S−又は−OC(=O)−により中断されている)であり;
R3及びR4は、互いに独立して、水素又はC1−C8アルキルであるか、あるいはR3とR4は、一緒になって、C3−C7アルキレン(これは、−O−又は−N(R6)−により中断されていることができる)であり;
R6は、水素、C1−C8アルキル又はフェニルであり;
R7は、水素、C1−C8アルキル又はフェニルであり;
R8は、C1−C8アルキル又はフェニルであり;
R9及びR10は、互いに独立して、水素又はC1−C8アルキルであるか、あるいはR9とR10は、一緒になって、C3−C7アルキレン(これは、−O−又は−N(R6)−で中断されていることができる)であり;
R27は、C1−C4アルキレンであり;
A1は、式(XIX)のモノマーからの重合性基である)のマクロ光開始剤である。
【0106】
基の定義は、前の定義を意味する。C1−C12アルキレン(これは、3個の遊離の結合手を有する)及びC1−C12アルキレン(これは、4個の遊離の結合手を有する)は、分岐又は直鎖である。C1−C12アルキレン(これは、3個の遊離の結合手を有する)は、分岐又は直鎖のC1−C12アルカンの3価の基、例えばメタントリイル、エタントリイル、プロパントリイル、イソプロパントリイル、N−ブタントリイル、sec−ブタントリイル、イソブタントリイル、tert−ブタントリイル、ペンタントリイル、ヘキサントリイル、ヘプタントリイル、2,4,4−トリメチルペンタントリイル、2−エチルヘキサントリイル、オクタントリイル、ノナントリイル、デカントリイル、又はドデカントリイルである。C1−C12アルキレン(これは、4価の遊離の結合手を有する)は、分岐又は直鎖のC1−C12アルカンの4価の基、例えばメタンテトライル、エタンテトライル、プロパンテトライル、イソプロパンテトライル、N−ブタンテトライル、sec−ブタンテトライル、イソブタンテトライル、tert−ブタンテトライル、ペンタンテトライル、ヘキサンテトライル、ヘプタンテトライル、2,4,4−トリメチルペンタンテトライル、2−エチルヘキサンテトライル、オクタンテトライル、ノナンテトライル、ドデカンテトライル又はドデカンテトライルである。
【0107】
特に好適には、式(II)(式中、aは、1であり;
Ar1は、フェニル(これは、−OR7、−SR8又は−NR9R10により置換されている)であり;
M1は、−OH又は−NR3R4であり;
R1及びR2は、互いに独立して、C1−C8アルキル、C3−C6アルケニル又はベンジルであり;
R3及びR4は、C1−C12アルキルであるか、又はR3とR4は、一緒になって、C3−C7アルキレン(これは、−O−により中断されている)であり;
R7は、C1−C4アルキル(これは、SHにより中断されている)であり;
R8は、C1−C4アルキル(これは、SHにより置換されている)であるか、又はR8は、フェニル(これは、SHにより置換されている)であり:
R9及びR10は、互いに独立して、水素又はC2−C4アルキル(これは、SHにより置換されている)で示される光開始剤を、式(XIX)(式中、X1は、−R24、−OR24又は−C(=O)−X2であり;
Y1、Y2及びY3は、互いに独立して、水素、C1−C4アルキル又はCOOR24であり;
X2は、OR24であり;そして
R24は、水素、又は脂肪族若しくは環式脂肪族炭化水素基(これは、1〜20個の炭素原子を含む)である)で示されるモノマーと反応させることにより得られるマクロ光開始剤である。
【0108】
本発明において、マクロ光開始剤類は、エチレン性不飽和化合物類又はそのような化合物類を含む混合物の光重合のための光開始剤として用いることができる。したがって、本発明は、
(A)エチレン性不飽和の重合性化合物の少なくとも1種、及び
(B)式(I)の光開始剤の少なくとも1種を含む光重合性配合物にも関する。この配合物は、成分(B)に加えて、更なる光開始剤(C)、及び/又は更なる共開始剤類(D)及び/又は他の添加剤を含んでもよい。
【0109】
上記したように新規な配合物の光感受性は、一般に、約150nm〜600nmに広がることができる。
【0110】
エチレン性不飽和の光重合性化合物類:成分(A)は、1個以上のオレフィン性二重結合を含むことができる。それらは、低(モノマー性)又は高(オリゴマー性)分子量であってよい。1個の二重結合を含むモノマーの例は、アルキル若しくはヒドロキシアルキルアクリラート類又はメタクリラート類、例えばメチル、エチル、ブチル、2−エチルヘキシル若しくは2−ヒドロキシエチルアクリラート、イソボルニルアクリラート、メチルメタクリラート又はエチルメタクリラートである。シリコンアクリラート類は、また好都合である。他の例は、アクリロニトリル、アクリルアミド、メタアクリルアミド、N−置換(メタ)アクリルアミド類、ビニルエステル類、例えばビニルアセタート、アセタート、ビニルエーテル類、例えばイソブチルビニルエーテル、スチレン、アルキル−及びハロスチレン類、N−ビニルピロリドン、ビニルクロリド又はビニリデンクロリドである。
【0111】
2個以上の二重結合を含むモノマーの例は、エチレングリコール、プロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、ヘキサメチレングリコール又はビスフェノールAのジアクリラート類、及び4,4′−ビス(2−アクリロイルオキシエトキシ)ジフェニルプロパン、トリメチロールプロパントリアクリラート、ペンタエリスリトールトリアクリラート若しくはテトラアクリラート、ビニルアクリラート、ジビニルベンゼン、ジビニルスクシナート、ジアリルフタラート、トリアリルホスファート、トリアリルイソシアヌラート若しくはトリス(2−アクリロイルエチル)イソシアヌラートである。
【0112】
比較的高分子量(オリゴマー)の多不飽和化合物の例は、アクリル化エポキシ樹脂類、アクリル化ポリエステル類、ビニルエーテル又はエポキシ基を含むポリエステル類、並びにまたポリウレタン類及びポリエーテル類である。不飽和オリゴマーの別の例は、不飽和ポリエステル樹脂類、それらは、通常マレイン酸、フタール酸及び1種以上のジオール類から調製され、約500〜3000の分子量を有する。更に、ビニルエーテルモノマー類及びオリゴマー類、並びにまたポリエステル、ポリウレタン、ポリエーテル、ポリビニルエーテル及びエポキシ主鎖類を有するマレアート末端化オリゴマーを用いることも可能である。特に、ビニルエーテル基類を有するオリゴマー類と、WO 90/01512に記載されたポリマーの組合せが適切である。しかしながら、ビニルエーテル及びマレイン酸−官能化モノマー類も、また適切である。この種類の不飽和オリゴマー類は、プレポリマーとして考えることもできる。
【0113】
特に適切な例は、エチレン性不飽和カルボン酸類とポリオール及びポリエポキシド類とのエステル類、及び鎖中又は側鎖基にエチレン性不飽和基を有するポリマー類、例えば不飽和ポリエステル類、ポリアミド類及びポリウレタン類並びにそのコポリマー類、アルキド樹脂類、ポリブタジエン及びブタジエンコポリマー類、ポリイソプレン及びイソプレンコポリマー類、側鎖に(メタ)アクリル基類を含むポリマー類及びコポリマー類、並びにそのようなポリマー類の1種以上の混合物である。
【0114】
不飽和カルボン酸の例は、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、イタコン酸、ケイ皮酸、及び不飽和脂肪酸、例えばリノール酸又はオレイン酸である。アクリル酸及びメタクリル酸は、好適である。
【0115】
適切なポリオール類は、芳香族並びに特に脂肪族及び環式脂肪族ポリオール類である。芳香族ポリオール類の例は、ヒドロキノン、4,4′−ジヒドロキシジフェニル及び2,2−ジ(4−ヒドロキシフェニル)プロパンである。ポリオキシド類の例は、上述のポリオール類、特に芳香族ポリオール類及びエピクロロヒドリンに基づいたそれらである。他の適切なポリオール類は、ポリマー鎖又は側鎖にヒドロキシル基を含む、ポリマー類又はコポリマー類、例えばポリビニルアルコール及びそのコポリマー、ポリヒドロキシアルキルメタクリラート類又はそのコポリマー類あるいはノボラック樹脂類である。別の適切なポリオール類は、ヒドロキシル末端基類を有するオリゴエステル類である。
【0116】
脂肪族及び環式脂肪族ポリオール類の例は、好適には2〜12C−原子を有するアルキレンジオール類、例えばエチレングリコール、1,2−若しくは1,3−プロパンジオール、1,2−、1,3−若しくは1,4−ブタンジオール、ペンタンジオール、ヘキサンジオール、オクタンジオール、ドデカンジオール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール類(好適には200〜1500の分子量を有する)、1,3−シクロペンタンジオール、1,2−、1,3−若しくは1,4−シクロヘキサンジオール、1,4−ジヒドロキシメチルシクロヘキサン、グリセロール、トリス((−ヒドロキシエチル)アミン、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール及びソルビトールである。
【0117】
ポリオール類は、部分的又は完全にカルボン酸又は異なる不飽和カルボン酸でエステル化されており、そして部分エステルにおいて、遊離のヒドロキシル基は、改質されており、例えばエーテル化又は他のカルボン酸でエステル化されている。
【0118】
エステル類の例は:
トリメチロールプロパントリアクリラート、トリメチロールエタントリアクリラート、トリメチロールプロパントリメタクリラート、トリメチロールエタントリメタクリラート、テトラメチレングリコールジメタクリラート、トリエチレングリコールジメタクリラート、テトラエチレングリコールジアクリラート、ペンタエリスリトールジアクリラート、ペンタエリスリトールトリアクリラート、ペンタエリスリトールテトラアクリラート、ジペンタエリスリトールジアクリラート、ジペンタエリスリトールトリアクリラート、ジペンタエリスリトールテトラアクリラート、ジペンタエリスリトールペンタアクリラート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリラート、トリペンタエリスリトールオクタアクリラート、ペンタエリスリトールジメタクリラート、ペンタエリスリトールトリメタクリラート、ジペンタエリスリトールジメタクリラート、ジペンタエリスリトールテトラメタクリラート、トリペンタエリスリトールオクタメタクリラート、ペンタエリスリトールジイタコナート、ジペンタエリスリトールトリス−イタコナート、ジペンタエリスリトールペンタイタコナート、ジペンタエリスリトールヘキサイタコナート、エチレングリコールジアクリラート、1,3−ブタンジオールジアクリラート、1,3−ブタンジオールジメタクリラート、1,4−ブタンジオールジイタコナート、ソルビトールトリアクリラート、ソルビトールテトラアクリラート、ペンタエリスリトール−改質トリアクリラート、ソルビトールテトラメタクリラート、ソルビトールペンタアクリラート、ソルビトールヘキサアクリラート、オリゴエステルアクリラート類及びメタクリラート類、グリセロールジアクリラート及びトリアクリラート、1,4−シクロヘキサンジアクリラート、200〜1500の分子量を有するポリエチレングリコールのビスアクリラート類及びビスメタクリラート類、又はそれらの混合物である。
【0119】
同一又は異なる、不飽和カルボン酸と、好適には2〜6、特に2〜4個のアミノ基を有する、芳香族、環式脂肪族及び脂肪族ポリアミンのアミドもまた好適である。そのようなポリアミン類の例は、エチレンジアミン、1,2−若しくは1,3−プロピレンジアミン、1,2−、1,3−若しくは1,4−ブチレンジアミン、1,5−ペンチレンジアミン、1,6−ヘキシレンジアミン、オクチレンジアミン、ドデシレンジアミン、1,4−ジアミノシクロヘキサン、イソホロンジアミン、フェニレンジアミン、ビスフェニレンジアミン、ジ−β−アミノエチルエーテル、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、ジ(β−アミノエトキシ)−若しくはジ(β−アミノプロポキシ)エタンである。他の適切なポリアミン類は、好適には側鎖に付加的なアミノを有する、ポリマー類及びコポリマー類、並びにアミノ末端基を有するオリゴアミド類である。そのような不飽和アミドの例は、メチレンビスアクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビスアクリルアミド、ジエチレントリアミントリスメタアクリルアミド、ビス(メタクリルアミドプロポキシ)エタン、β−メタクリルアミドエチルメタクリラート及びN〔(β−ヒドロキシエトキシ)エチル〕アクリルアミドである。
【0120】
適切な不飽和ポリエステル類及びポリアミド類は、例えばマレイン酸及びジオール類又はジアミン類から誘導される。マレイン酸のいくつかは、他のジカルボン酸により置き代えることができる。それらは、エチレン性不飽和コモノマー類、例えばスチレンと一緒に用いることができる。ポリエステル類及びポリアミド類は、ジカルボン酸類とエチレン性不飽和ジオール類又はジアミン類から、特に比較的長鎖、例えば6〜20個のC原子のそれらから誘導されることができる。ポリウレタンの例は、それぞれ、飽和又は不飽和ジイソシアナート類から及び不飽和又は不飽和若しくは飽和のジオール類からなるそれらである。
【0121】
ポリブタジエン及びポリイソプレン並びにそそれらのコポリマー類は、知られている。適切なコモノマー類の例は、オレフィン類、例えばエチレン、プロピレン、ブテン及びヘキセン、(メタ)アクリラート類、アクリロニトリル、スチレン又はビニルクロリドである。側鎖に(メタ)アクリラート基を有するポリマー類も同様に知られている。それらは、例えば、ノボラック類に基づくエポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸との反応生成物であってよいか、又はビニルアルコール若しくは(メタ)アクリル酸でエステル化されているそれらのヒドロキシアルキル誘導体類のホモ−若しくはコポリマー類であってよいか、又はヒドロキシアルキル(メタ)アクリラート類でエステル化されている(メタ)アクリラート類のホモ−若しくはコポリマー類であってよい。
【0122】
光重合性化合物は、単独又はいかなる所望の混合物で用いることができる。好適には、ポリオール(メタ)アクリラート類の混合物が用いられる。
【0123】
バインダー類は、同様にこの新規な配合物に加えることができ、それは、光重合性化合物が液体又は粘稠物質であるとき、特に好都合である。バインダーの量は、全固形分に基づいて、5〜95%、好適には10〜90%、特に40〜90重量%である。バインダーの選択は、適用の分野及びその分野の必要な特性、例えば水性及び有機溶媒系中の展開のための容量、基質への付着及び酸素への感受性に依存して行われる。
【0124】
適切なバインダーの例は、分子量約5,000〜2,000,000、好適には10,000〜1,000,000を有するポリマー類である。例は、アクリラート類及びメタクリラート類のホモ−若しくはコポリマー類、例えばメチルメタクリラート/エチルアクリラート/メタクリル酸のコポリマー、ポリ(アルキルメタクリラート類)、ポリ(アルキルアクリラート類);セルロースエステル類及びセルロースエーテル類、例えばセルロースアセタート、セルロースアセトブチラート、メチルセルロース、エチルセルロース;ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、環化ゴム、ポリエーテル類、例えばポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド及びポリテトラヒドロフラン;ポリスチレン、ポリカーボナート、ポリウレタン、塩素化ポリオレフィン類、ポリビニルクロリド、ビニルクロリド/ビニリデンコポリマー類、ビニリデンクロリドとアクリルニトリル、メチルメタクリラート及びビニルアセタートのコポリマー類、ポリビニルアセタート、コポリ(エチレン/ビニルアセタート),ポリマー類、例えばポリカプロラクタム及びポリ(ヘキサメチレンアジパミド)、並びにポリエステル類、例えばポリ(エチレングリコールテレフタラート)及びポリ(ヘキサメチレングリコールスクシナート)及びポリイミド類である。
【0125】
不飽和化合物類は、また非−光重合性の、フィルム形成性成分との混合物で用いることができる。これらは、例えば、物理的な乾燥ポリマー類又は有機溶媒、例えばニトロセルロース又はセルロースアセトブチラート中のその溶液であってよい。それらは、しかしながら、また化学的/又は熱的硬化性(熱−硬化)樹脂類であってよく、例は、ポリイソシアナート類、ポリオキシド類及びメラミン樹脂類、並びにポリイミド前駆体である。同時に熱−硬化性樹脂の使用は、混成システムとして知られるシステムで用いるために重要である、そこでは、第一工程で、光重合され、第二工程で熱後処理により架橋される。
【0126】
本発明のマクロ光開始剤類は、更に、酸化的乾燥システムでの硬化のための開始剤として適切であり、例えば"Lehrbuch der Lacke und Beschichtungen", Vol. III, 296-328, Verlag W.A. Colomb in Heenemann GmbH, Berlin-Ober-schwandorf (1976)に記載されている。
【0127】
光開始剤に加えて、重合性配合物は、種々な添加剤類(D)を含んでもよい。それらの例は、熱開始剤(それは、早期重合を阻止することを意図している)であり、例は、ヒドロキノン、ヒドロキノン誘導体類、p−メトキシフェノール、β−ナフトール又は立体障害フェノール類、例えば2,6−ジ−tert−ブチル−p−クレゾールである。暗所での貯蔵安定性を増大させるために、例えば、銅化合物、例えば銅ナフテナート、ステアラート又はオクトアート、リン化合物類、例えばトリフェニルホスフィン、トリブチルホスフィン、トリエチルホスファイト、トリフェニルホスファイト又はトリベンジルホスファイト、四級アンモニウム化合物類、例えばテトラメチルアンモニウムクロリド又はトリメチルベンジルアンモニウムクロリド、又はヒドロキシルアミン誘導体類、例えばN−ジエチルヒドロキシルアミンを用いることができる。重合中に雰囲気酸素を除くために、パラフィン又は同様なワックス様物資(それは、ポリマー中に溶解せず、重合の初期に表面に移行し、空気の進入を阻止する透明な表面層を形成する)を加えることができる。酸素−不透過層を適用することもできる。少量で加えることができる光安定剤は、UV吸収剤類、例えばヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール、ヒドロキシフェニル−ベンゾフェノン、オキザルアミド又はヒドロキシフェニル−s−トリアジンタイプのそれらである。これらの化合物類は、個々に、又は混合物で、立体障害アミン(HALS)と一緒に又はなしで用いることができる。
【0128】
そのようなUV吸収剤及び光安定剤類の例は、
1.2−(2′−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール類、例えば2−(2′−ヒドロキシ−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3′,5′−ジ−tert−ブチル−2′−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(5′−tert−ブチル−2′−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−5′−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)フェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3′,5′−ジ−tert−ブチル−2′−ヒドロキシフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(3′−tert−ブチル−2′−ヒドロキシ−5′−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(3′−sec−ブチル−5′−tert−ブチル−2′−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−4′−オクチルオキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3′,5′−ジ−tert−アミル−2′−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3′,5′−ビス−(α,α−ジメチルベンジル)−2′−ヒドロキシフェニル)−ベンゾトリアゾール、2−(3′−tert−ブチル−2′−ヒドロキシ−5′−(2−オクチルオキシカルボニルエチル)フェニル)−5−クロロベンゾトリアゾールの混合物、2−(3′−tert−ブチル−5′−〔2−(2−エチル−ヘキシル−オキシ)カルボニルエチル〕−2′−ヒドロキシフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(3′−tert−ブチル−2′−ヒドロキシ−5′−(2−メトキシカルボニルエチル)フェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(3′−tert−ブチル−2′−ヒドロキシ−5′−(2−メトキシカルボニルエチル)フェニル)−ベンゾトリアゾール、2−(3′−tert−ブチル−2′−ヒドロキシ−5′−(2−オクチルオキシカルボニルエチル)フェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3′−tert−ブチル−5′−〔2−(2−エチルヘキシルオキシ)カルボニルエチル〕−2′−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3′−ドデシル−2′−ヒドロキシ−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、及び2−(3′−tert−ブチル−2′−ヒドロキシ−5′−(2−イソオクチルオキシカルボニルエチル)フェニルベンゾトリアゾール、2,2′−メチレンビス〔4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−6−ベンゾトリアゾール−2−イル−フェノール〕;2−〔3′−tert−ブチル−5′−(2−メトキシカルボニルエチル)−2′−ヒドロキシ−フェニル〕−ベンゾトリアゾールのポリエチレングリコール300とのエステル交換生成物;〔R−CH2CH2−COO(CH2)3〕2−(ここで、R=3′−tert−ブチル−4′−ヒドロキシ−5′−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル−フェニル。
【0129】
2.2−ヒドロキシベンゾフェノン類、例えば4−ヒドロキシ−、4−メトキシ−、4−オクトキシ−、4−デシルオキシ−、4−ドデシルオキシ−、4−ベンジルオキシ−、4,2′,4′−トリヒドロキシ−及び2′−ヒドロキシ−4,4′−ジメトキシ誘導体。
【0130】
3.置換又は非置換安息香酸類、例えば4−tert−ブチルフェニルサリシラート、フェニルサリシラート、オクチルフェニルサリシラート、ジベンゾイルレゾルシノール、ビス(4−tert−ブチルベンゾイル)レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、2,4−ジ−tert−ブチルフェニル3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンゾアート、ヘキサデシル3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンゾアート、オクタデシル3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンゾアート、及び2−メチル−4,6−ジ−tert−ブチルフェニル3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンゾアート。
【0131】
4.アクリラート類、例えばイソオクチル又はエチルα−シアノ−β,β−ジフェニルアクリラート、メチルα−カルボメトキシシンナマート、ブチル又はメチルα−シアノ−β−メチル−p−メトキシシンアンマート、メチルα−カルボキシメトキシ−p−メトキシシンアンート及びN−(β−カルボメトキシ−β−シアノビニル)−2−メチルインドリン。
【0132】
5.立体障害アミン類、例えばビス−(2,2,6,6−テトラメチルピペリジル)セバカート、ビス−(2,2,6,6−テトラメチルピペリジル)スクシナート、ビス−(1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジル)セバカート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジル)n−ブチル−3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジルマロナート、1−ヒドロキシエチル−2,2,6,6−テトラメチル−4−ヒドロキシピペリジンとコハク酸との縮合生成物、N,N′−ビス−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)ヘキサ−メチレンジアミンと4−tert−オクチルアミノ−2,6−ジクロロ−1,3,5−S−トリアジンとの縮合生成物、トリス−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)ニトリロトリアセタート、テトラキス−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−1,2,3,4−ブタンテトラオアート、1,1′−(1,2−エタンジイル)ビス(3,3,5,5−テトラメチル−ピペラジノン)、4−ベンゾイル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−ステアリルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、ビス−(1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジル)2−n−ブチル−2−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−tert−ブチルベンジル)マロナート、3−n−オクチル−7,7,9,9−テトラメチル−1,3,8−トリアザスピロ−〔4.5〕デカン−2,4−ジオン、ビス−(1−オクチルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジル)セバカート、ビス−(1−オクチルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジル)スクシナート、N,N′−ビス−(2,2,6,6−テトラ−メチル−4−ピペリジル)ヘキサメチレンジアミンと4−モルホリノ−2,6−ジクロロ−1,3,5−トリアジンの縮合生成物、2−クロロ−4,6−ジ−(4−n−ブチルアミノ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジル)−1,3,5−トリアジンと1,2−ビス−(3−アミノプロピル−アミノ)エタンとの縮合生成物、2−クロロ−4,6−ジ−(4−n−ブチルアミノ−1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジル)−1,3,5−トリアジンと1,2−ビス−(3−アミノプロピルアミノ)エタンとの縮合生成物、8−アセチル−3−ドデシル−7,7,9,9−テトラメチル−1,3,8−トリアザスピロ〔4.5〕デカン−2,4−ジオン、3−ドデシル−1−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)ピロリジン−2,5−ジオン及び3−ドデシル−1−(1,2,2,6,6−ペンタ−メチル−4−ピペリジル)−ピロリジン−2,5−ジオン。
【0133】
6.オキザルアミド類、例えば4,4′−ジオクチルオキシオキサニリド、2,2′−ジエトキシオキサニリド、2,2′−ジオクチルオキシ−5,5′−ジ−tert−ブチルオキサニリド、2,2′−ドデシルオキシ−5,5′−tert−ブチルオキサニリド、2−エトキシ−2′−エチル−オキサニリド、N,N′−ビス−(3−ジメチルアミノプロピル)オキサニリド、2−エトキシ−5−tert−ブチル−2′−エチルオキサニリド及び2−エトキシ−2′−エチル−5,4′−ジ−tert−ブチルオキサニリドとのその混合物、o−及びp−メトキシ−とo−及びp−エトキシ−ジ置換オキサニリドの混合物。
【0134】
7.2−(2−ヒドロキシフェニル)−1,3,5−トリアジン類、例えば2,4,6−トリス(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)−4,6−ビス−(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−(2,4−ジヒドロキシフェニル)−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ビス(2−ヒドロキシ−4−プロピルオキシ−フェニル)−6−(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)−4,6−ビス(4−メチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ−4−ドデシルオキシフェニル)−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−〔2−ヒドロキシ−4−(2−ヒドロキシ−3−ブチルオキシ−プロピルオキシ)フェニル〕−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−〔2−ヒドロキシ−4−(2−ヒドロキシ−3−オクチルオキシ−プロピルオキシ)フェニル〕−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−〔4−ドデシル/トリデシル−オキシ−(2−ヒドロキシプロピル)オキシ−2−ヒドロキシ−フェニル〕−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン。
【0135】
8.ホスファイト類及びホスホナイト類、例えばトリフェニルホスファイト、ジフェニルアルキルホスファイト類、フェニルジアルキルホスファイト類、トリス(ノニルフェニル)ホスファイト、トリラウリルホスファイト、トリオクタデシルホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、トリス−(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)ホスファイト、ジイソデシルペンタエリスリトールビホスファイト、ビス−(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス−(2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス−イソデシルオキシペンタエリスリトールジホスファイト、ビス−(2,4−ジ−tert−ブチル−6−メチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス−(2,4,6−トリ−tert−ブチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、トリステアリルソルビトールトリホスファイト、テトラキス−(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)−4,4′−ビフェニレンジホスファイト、6−イソオクチルオキシ−2,4,8,10−テトラ−tert−ブチル−12H−ジベンゾ〔d,g〕−1,3,2−ジオキサホスホシン、6−フロロ−2,4,8,10−テトラ−tert−ブチル−12−メチル−ジベンゾ〔d,g〕−1,3,2−ジオキサホスホシン、ビス−(2,4−ジ−tert−ブチル−6−メチルフェニル)メチルホスファイト及びビス(2,4−ジ−tert−ブチル−6−メチルフェニル)エチルホスファイト。
【0136】
当技術で知られている更なる添加剤が、例えば流れ改善剤及び接着促進剤として加えられてよい。
【0137】
光重合を促進するために、アミン類、例えばトリエタノールアミン、N−メチルジエタノールアミン、p−ジチルアミノベンゾアート又はミヘラーズケトンを加えることができる。アミン類の作用は、ベンゾフェノンタイプの芳香族ケトン類の添加により強められることができる。酸素捕獲剤として用いることができるアミン類の例は、EP 339841に記載されている置換N,N−ジアルキルアニリン類である。他の促進剤、共開始剤及び自動酸化剤は、例えば、EP 438123、 GB 2180358及び 日本公開平6−68309に記載されているように、チオール類、チオエーテル類、ジスルフィド類、ホスホニウム塩類、ホスフィンオキシド類又はホスフィン類である。
【0138】
更に、当技術で慣用である連鎖移動剤を本発明の配合物へ加えることもできる。例は、メルカプタン類、アミン類及びベンゾチアゾールである。
【0139】
光重合は、スペクトルの感受性をシフト又は広げる更なる光増感剤を加えることにより促進することもできる。これらは、特に芳香族カルボニル化合物類、例えばベンゾフェノン、チオキサントン、アントラキノン及び3−アシルクマリン誘導体類、及びまた3−(アロイルメチレン)チアゾリン類、カンファーキノンであり、またエオシン、ローダミン及びエリスリシン染料である。
【0140】
硬化工程は、特に着色されている(例えば二酸化チタンで)配合物により助けられ、そしてまた、EP 245639に記載されているように、熱条件下で遊離基を形成する成分、例えばアゾ化合物、例えば2,2′−アゾビス(4−メトキシ−2,4−ジメチルバレロニトリル)、トリアゼン、ジアゾスルフィド、ペンタアザジエン又はペルオキシ化合物、例えばヒドロペルオキシド又はペルオキシカーボナート例えばt−ブチルヒドロペルオキシドを加えることにより助けることができる
【0141】
本発明の配合物類は、更なる添加剤(D)として、光還元性染料、例えばザンテン−、ベンゾザンテン−、ベンゾチオザンテン−、チアジン−、ピロニン−、ポルフィリン−又はアクリジン染料類、及び/又はトリハロゲンメチル化合物(これは照射により切断されることができる)を含むことができる。同様の配合物は、例えば EP 445624に記載されている。
【0142】
意図された用途に従う更なる慣用の添加剤は、光増白剤、充填剤、顔料、染料、湿潤剤又は均一助剤である。厚くかつ着色された被覆を硬化させるため、例えば US 5013768に記載されているように、ガラス微小球又は粉末化されたガラス繊維を加えることが適切である。
【0143】
添加剤の選択は、適用の分野及びその分野で要求される特性により行われる。上述の添加剤は、この技術で慣用であり、したがって、それぞれの適用で通常である量で加えられる。
【0144】
本発明は、また成分(A)として、エチレン性不飽和の光重合性化合物(これは、水中でエマルション化又は溶解する)の少なくとも1種を含む成分を提供する。そのような照射−硬化性の水性プレポリマー分散物の多くの変法が、商業的に入手し得る。プレポリマー分散物は、水及びその中に分散された少なくとも1種のプレポリマーの分散物であると理解されるべきである。それらの系の水の濃度は、例えば5〜80重量%、特に30〜60重量%である。照射−硬化性プレポリマー又はプレポリマー混合物の濃度は、例えば95〜20重量%、特に70〜40重量%である。これらの配合物において、水及びプレポリマーに与えられたパーセントの合計は、それぞれの場合に100であり、助剤及び添加剤は、意図された用途により量を変えて加えられる。照射−硬化性の、フィルム−形成性プレポリマー類(これは、水中に分散され、そしてしばしば溶解されている)は、モノ−若しくはポリ官能性の、エチレン性不飽和プレポリマー類(これらはそれ自体既知である)の水性プレポリマー分散物であり、遊離基により開始されることができ、例えばプレポリマー100g当たり0.01〜1.0モルの重合性二重結合の含量を有し、例えば少なくとも400、特に500〜1000の平均分子量を有している。しかしながら、高分子量を有するプレポリマーは、意図する適用に従い、考慮されてもよい。使用は、EP 12339に記載されているように、例えば重合性C−C二重結合を有し、かつ10を超えない酸数を有するポリエステル類から、重合性C−C二重結合を含むポリエーテル類から、又は分子当たり少なくとも2個のエポキシド基を含むポリエポキシドのヒドロキシル−含有反応生成物と、少なくとも1個のα,β−エチレン性不飽和カルボン酸から、ポリウレタン(メタ)アクリラート類から、及びα,β−エチレン性不飽和アクリル基を含むアクリルコポリマーから行われる。これらのプレポリマーの混合物も同様に用いられる。また、EP 33896に記載されている重合性プレポリマーも適切であり、それは少なくとも600の平均分子量、0.2〜15%のカルボキシル含量及びプレポリマー100g当たり0.01〜0.8モルの重合性C−C二重結合を有する重合性プレポリマーのチオエーテル付加物である。他の適切な水性分散物は、特定のアルキル(メタ)アクリラートポリマーに基づいており、 EP 41125に記載され、そしてウレタンアクリラート類の適切な水分散性の照射−硬化性プレポリマー類は、DE 2936039に見出される。それらの照射−硬化性の水性プレポリマー分散物に含まれることができる更なる添加剤は、分散助剤、乳化剤、抗酸化剤、光安定剤、染料、顔料、充填剤、例えばタルク、ジプサム、ケイ酸、ルチル、カーボンブラック、酸化亜鉛、酸化鉄、反応促進剤、均一化剤、滑剤、湿潤剤、増粘剤、つや消し剤、消泡剤及びペイント技術での慣用の他の助剤である。適切な分散助剤は、高分子量であり、極性基を含む水−溶解性の有機化合物であり、例は、ポリビニルアルコール類、ポリビニルピロリドン又はセルロースエーテル類である。用いることができる乳化剤は、非イオン性乳化剤、及び所望ならば同様にイオン性乳化剤である。
【0145】
ある場合には、2種以上の新規なマクロ光開始剤の混合物を用いるのが好都合であってよい。もちろん、既知の光開始剤類(C)との混合物、例えばベンゾフェノン、ベンゾフェノン誘導体類、アセトフェノン、アセトフェノン誘導体類、例えばα−ヒドロキシシクロアルキルフェニルケトン類又は2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン、ジアルコキシアセトフェノン類、(−ヒドロキシ−又はα−アミノアセトフェノン類、例えば(4−メチルチオベンゾイル)−1−メチル−1−モルホリノエタン、(4−モルホリノベンゾイル)−1−ベンジル−1−ジメチルアミノプロパン、4−アロイル−1,3−ジオキソラン類、ベンゾインアルキルエーテル類及びベンジルケタール類、例えばジメチルベンジルケタール、フェニルグリオキザルエステル類及びその誘導体類、二量体のジメチルフェニルグリオキサルエステル類、モノアシルホスフィンオキシド類、例えば(2,4,6−トリメチルベンゾイル)ジフェニルホスフィンオキシド、ビスアシルホスフィンオキシド類、ビス(2,6−ジメトキシ−ベンゾイル)−(2,4,4−トリメチル−ペンチル)ホスフィンオキシド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルホスフィンオキシド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−2,4−ジペントキシフェニルホスフィンオキシド、トリスアシルホスフィンオキシド類、フェロセニウム化合物類、又はチタノセン類、例えばビス(シクロペンタジエニル)−ビス(2,6−ジフルオロ−3−ピリル−フェニル)チタンニウムとの混合物を用いることもできる。新規なマクロ光開始剤類が混成系で用いられる場合、使用は、新規な遊離基硬化剤に加えて、カチオン性光開始剤類、例えばペルオキシド化合物類、例えばベンゾイルペルオキシド(他の適切なペルオキシド類は、米国特許4950581、19欄、17〜25行に記載されている)、芳香族スルホニウム−、ホスホニウム−又はヨウドニウム塩(米国特許4950581、18欄、60行〜19欄、10行に記載されている)又はシクロペンタジエニル−アレン−アイアン(II)錯体塩類、例えば(η6−イソ−プロピルベンゼン)(η5−シクロペンタジエニル)アイアン(II)ヘキサフルオロホスファートで行われる。
【0146】
光重合性配合物類は、配合物に基づいて、一般に光開始剤0.05〜15重量%、好適には0.1〜5重量%を含む。もし開始剤の混合物が用いられるならば、この量は、加えられた光開始剤類の合計に適用される。したがって、この量は、光開始剤(B)又は光開始剤類(B)+(C)のいずれかに適用される。
【0147】
先行技術において、ブロックコポリマーを調製するための最も周知の方法は、アニオン重合である。この方法は、しかしながら、不純物又は低い重合温度に敏感であり、限られた種類のモノマーにのみ適切である。遊離基重合によりブロックコポリマーを調製するいくつかの試みが、報告されている。 J. Macromol. Sci. Chem., A28(1), pp. 129-141(1991)に、 Yagci 及び共同研究者らは、例えば光開始基を有するアゾ化合物を用いて、ブロックコポリマーの製造を開示している。これらの開始剤は、しかしながら、熱安定性に乏しく、アゾ基のために爆発性である。更に、記載された方法により得たマクロ光開始剤類は、広い分子量分布を有している。Popielarzは、熱連鎖部分を有する化合物を用い、ブロックコポリマーを調製した。マクロ光開始剤は、連鎖移動剤として働く化合物の存在下にモノマーを熱重合することにより調製される。再度、不安定で爆発性のアゾ化合物が用いらている。更に、アゾ基のいくつかは、マクロ光開始剤類の調製中にさえ分解し、第二のモノマーの重合させる特性を失う。ブロックコポリマー類は、熱的に安定で、狭い分子量分布を有するマクロ光開始剤類から製造されない。
【0148】
したがって、本発明の別の目的は、遊離基重合モノマーを有する上述の新規なマクロ光開始剤類の光重合により得られるブロックコポリマー類である。
【0149】
調製中での連鎖移動反応の結果により狭い分子量分布を有する、本発明のブッロク−コポリマー類は、新規なマクロ光開始剤類を用いることにより光化学的に得られる。本発明のコポリマー類は、優れた熱安定性を有する。
【0150】
本発明の目的は、したがって、上記した新規マクロ光開始剤を有する式(XIX)のモノマーを光重合することに得られるブロック−コポリマー類である。
【0151】
ブロック−コポリマーを調製するためのモノマー類は、上述のように、式(XIX)のものである。これらのモノマー類は、親水性、両親媒性又は疎水性であることができる。親水性モノマー類の例は、(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチル(メタ)アクリルアミド、N−イソプロペニル(メタ)アクリルアミド、N−ビニルホルムアミド、(メタ)アクリル酸、クロトン酸、イタコン酸、ケイ皮酸、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリラート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリラート、マレイン酸、マレイン酸無水物、n−(1,1−ジメチル−3−オキソブチル)(メタ)アクリラート、4−ヒドロキシスチレン、4−ヒドロキシメチルスチレン、p−1−(2−ヒドロキシブチル)スチレン、p−1−(2−ヒドロキシプロピル)スチレン、p−2−(2−ヒドロキシプロピル)スチレン及びスチレンスルホン酸である。両親媒性のモノマー類又はオリゴマー類の例は、(メタ)アクリロニトリル、N−(メタ)アクリロモルホリン、N−ビニルピロリドン、N−ビニルアセトアミド、N−ビニル−N−メチルアセトアミド、ビニルメチルエーテル、ポリエチレングリコールモノ−(メタ)アクリラート、メトキシポリ(エチレングリコール)モノ−(メタ)アクリラート、ポリ(プロピレングリコール)モノ−(メタ)アクリラート、N−ビニルカプロラクタム、N−ビニルカルバゾール、4−ビニルベンジルテトラヒドロフルフリルエーテル及びグリシジル(メタ)アクリラートである。疎水性モノマー類の例はメチル(メタ)アクリラート、エチル(メタ)アクリラート、n−ブチル(メタ)アクリラート、tert−ブチル(メタ)アクリラート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリラート、イソブルニル(メタ)アクリラート、ラウリル(メタ)アクリラート、ステアリル(メタ)アクリラート、1−ナフチル(メタ)アクリラート、2−ナフチル(メタ)アクリラート、アダマンチル(メタ)アクリラート、スチレン、2,4,6−トリメチルスチレン、2,5−ジクロロスチレン、α−メトキシスチレン、α−メチルスチレン、3−メチルスチレン、4−メチルスチレン、3−ニトロスチレン、4−クロロメチルスチレン、4−アミノスチレン、4−tert−ブチルスチレン、4−tert−ブトキシカルボニルオキシスチレン、3−ブロモスチレン、4−ブロモスチレン、2−クロロスチレン、3−クロロスチレン、4−クロロスチレン、4−シアノスチレン、4−シクロヘキシルスチレン、ジメチルアミノメチル−スチレン、ペンタクロロスチレン、4−ヨードスチレン、β−メトキシスチレン、2−メトキシスチレン、4−メトキシスチレン、1−ビニルナフタレン、2−ビニルナフタレン、ビニルアセタート、ビニルプロピオナート、イソブチルビニルエーテル、ビニルクロリド、4−ビニルベンジルクロリド、2−フルオロエチル(メタ)アクリラート、ペルフルオロシクロヘキシル(メタ)アクリラート、ペルフルオロオクチル(メタ)アクリラート、2,2,3,3−テトラフルオロプロピル(メタ)アクリラート、2,2,2−トリフルオロエチル(メタ)アクリラート及び3−(トリフルオロメチル)ベンジル(メタ)アクリラートである。モノマー類は、単独又はいかなる所望の混合物で用いることができる。
【0152】
本発明の好適なブロックポリマー類は、式(XVI)、(XVII)又は(XVIII):
【0153】
【化54】
【0154】
(式中、
Ar2は、下記式:
【0155】
【化55】
【0156】
の基(そのそれぞれは、非置換又は1〜3個の、C1−C12アルキル、−OR7、−SR8若しくは−NR9R10により置換されている)であり;
Xは、直接結合、−O−、−S−又は−N(R6)−であり;
E1は、C1−C12アルキレン、フェニレン、キシリレン、又はC2−C6アルキレン(これは、1〜2個の、−O−、−S−、−OC(=O)−により置換されている)であり;
E2は、3個の遊離の結合を有するC1−C8アルキレン、3個の遊離の結合を有するC2−C12アルキレン(これは、1〜3個の、−O−、−S−、−OC(=O)−により中断されている)であるか、又はE2は、下記式:
【0157】
【化56】
【0158】
の基のいずれかであり;
E3は、4個の遊離の結合を有するC1−C12アルキレン、又は4個の遊離の結合を有するC2−C12アルキレン(これは、1〜3個の、−O−、−S−、−OC(=O)−により中断されている)であり;
R6は、水素、C1−C8アルキル又はフェニルであり;
R7は、水素、C1−C8アルキル又はフェニルであり;
R8は、C1−C8アルキル又はフェニルであり;
R9及びR10は、互いに独立して、水素又はC1−C8アルキルであるか、又はR9とR10は、一緒になって、C3−C7アルキレン(これは、−O−又は−N(R6)−により中断されていることができる)であり;
A1及びA2は、上記の式(XIX)のモノマーからの重合性基であるが、但しA1及びA2は、異なる)で示される。
【0159】
したがって、例えば以下のブロック−コポリマー類が得られる:
ポリスチレン−ブロック−ポリブタジエン、ポリスチレン−ブロック−ポリイソブテン、ポリブタジエン−ブロック−ポリ(tert−ブチルメタクリラート)又はポリイソプレンブロック−ポリ(tert−ブチルメタクリラート)、これらは、例えば滑剤又は油状物として用いることができる;ポリ(エチルヘキシルメタクリラート)−ブロック−ポリ(メタクリル酸)、これらは、例えば顔料分散剤又は乳化安定剤として用いることができる;ポリスチレン−ブロック−ポリブタジエン、ポリスチレン−ブロック−ポリ(メチルアクリラート)、(ポリアクリロニトリル−ランダム−ポリスチレン)−ブロック−(ポリスチレン−ランダム−ポリブタジエン)、ポリブタジエン−ブロック−ポリ(ジメチルイタコナート)、これらは、例えば熱可塑性エラストマーとして用いることができる;ポリスチレン−ブロック−ポリ(ビニルアセタート)、ポリ(メチルメタクリラート)−ブロック−ポリ(ビニルアセタート)、これらは、例えばポリエステル樹脂FRP成形のためのポリマー性添加剤として用いることができる;[ポリ(ブチルメタクリラート)−ランダム−ポリ(メチルメタクリラート)]−ブロック−ポリ(ペルフルオロエチルアクリラート)、ポリスチレン−ブロック−ポリ(ヒドロキシルエチルメタクリラート)、これらは、例えば表面処理試薬として用いることができる;ポリスチレン−ブロック−ポリ(tert−ブチルメタクリラート)、ポリスチレン−ブロック−ポリ(メチルメタクリラート)、ポリスチレン−ブロック−ポリ(tert−ブチルアクリラート)、ポリスチレン−ブロック−ポリ(4−ビニルピリジン)、ポリスチレン−ブロック−ポリ(2−ビニルピリジン)、ポリスチレン−ブロック−ポリ(tert−ブチルスチレン)、ポリブタジエン−ブロック−ポリ(メチルメタクリラート)、ポリイソプレン−ブロック−ポリ(メチルメタクリラート)、ポリブタジエン−ブロック−ポリ(tert−ブチルアクリラート)、ポリイソプレン−ブロック−ポリ(tert−ブチルアクリラート)、ポリ(メチルメタクリラート)−ブロック−ポリ(tert−ブチルメタクリラート)、ポリ(メチルメタクリラート)−ブロック−ポリ(tert−ブチルアクリラート)、ポリ(メチルメタクリラート)−ブロック−ポリ(2−ビニルピリジン)、ポリ(メチルメタクリラート)−ブロック−ポリ(4−ビニルピリジン)、ポリ(tert−ブチルメタクリラート)−ブロック−ポリ(tert−ブチルメタクリラート)−ブロック−ポリ(tert−ブチルアクリラート)、ポリ(tert−ブチルアクリラート)−ブロック−ポリ(2−ビニルピリジン)、ポリ(tert−ブチルアクリラート)−ブロック−ポリ(4−ビニルピリジン)、ポリ(2−ビニルピリジン)−ブロック−ポリ(4−ビニルピリジン)など。両親媒性ブロックコポリマー類の例は、ポリスチレン−ブロック−ポリ(ナトリウムメタクリラート)、ポリスチレン−ブロック−ポリ(ナトリウムアクリラート)、ポリスチレン−ブロック−ポリ(メタクリル酸)、ポリスチレン−ブロック−ポリ(アクリル酸)、ポリスチレン−ブロック−ポリ(N−メチル−4−ビニルピリジニウムヨージド)、ポリスチレン−ブロック−ポリ(N−メチル−2−ビニルピリジニウムヨージド)、ポリスチレン−ブロック−ポリ(2−ヒドロキシエチルアクリラート)、ポリスチレン−ブロック−ポリ(2−ヒドロキシエチルメタクリラート)、ポリスチレン−ブロック−ポリ(2−ヒドロキシエチルアクリラート)、ポリスチレン−ブロック−ポリ(2−ヒドロキシエチルメタクリラート)、ポリイソプレン−ブロック−ポリ(ナトリウムメタクリラート)、ポリイソプレン−ブロック−ポリ(ナトリウムアクリラート)、ポリイソプレン−ブロック−ポリ(メタクリル酸)、ポリイソプレン−ブロック−ポリ(アクリル酸)、ポリイソプレン−ブロック−ポリ(N−メチル−4−ビニルピリジニウムヨージド)、ポリイソプレン−ブロック−ポリ(N−メチル−2−ビニルピリジニウムヨージド)、ポリイソプレン−ブロック−ポリ(2−ヒドロキシエチルアクリラート)、ポリイソプレン−ブロック−ポリ(2−ヒドロキシエチルメタクリラート)、ポリイソプレン−ブロック−ポリ(2−ヒドロキシエチルアクリラート)、ポリブタジエン−ブロック−ポリ(2−ヒドロキシエチルメタクリラート)、ポリブタジエン−ブロック−ポリ(ナトリウムメタクリラート)、ポリブタジエン−ブロック−ポリ(ナトリウムアクリラート)、ポリブタジエン−ブロック−ポリ(メタクリル酸)、ポリブタジエン−ブロック−ポリ(アクリル酸)、ポリブタジエン−ブロック−ポリ(N−メチル−4−ビニルピリジニウムヨージド)、ポリブタジエン−ブロック−ポリ(N−メチル−2−ビニルピリジニウムヨージド)、ポリブタジエン−ブロック−ポリ(2−ヒドロキシエチルアクリラート)、ポリブタジエン−ブロック−ポリ(2−ヒドロキシエチルメタクリラート)、ポリブタジエン−ブロック−ポリ(2−ヒドロキシエチルアクリラート)、ポリブタジエン−ブロック−ポリ(2−ヒドロキシエチルメタクリラート)、ポリ(メチルメタクリラート)−ブロック−ポリ(2−ヒドロキシエチルメタクリラート)、ポリ(メチルメタクリラート)−ブロック−ポリ(ナトリウムメタクリラート)、ポリ(メチルメタクリラート)−ブロック−ポリ(ナトリウムアクリラート)、ポリ(メチルメタクリラート)−ブロック−ポリ(メタクリル酸)、ポリ(メチルメタクリラート)−ブロック−ポリ(アクリル酸)、ポリ(メチルメタクリラート)−ブロック−ポリ(N−メチル−4−ビニルピリジニウムヨージド)、ポリ(メチルメタクリラート)−ブロック−ポリ(N−メチル−2−ビニルピリジニウムヨージド)、ポリ(メチルメタクリラート)−ブロック−ポリ(2−ヒドロキシエチルアクリラート)、ポリ(メチルメタクリラート)−ブロック−ポリ(2−ヒドロキシエチルメタクリラート)、ポリ(メチルメタクリラート)−ブロック−ポリ(2−ヒドロキシエチルアクリラート)、ポリ(メチルメタクリラート)−ブロック−ポリ(2−ヒドロキシエチルメタクリラート)、ポリ(tert−ブチルメタクリラート)−ブロック−ポリ(2−ヒドロキシエチルメタクリラート)、ポリ(tert−ブチルメタクリラート)−ブロック−ポリ(ナトリウムメタクリラート)、ポリ(tert−ブチルメタクリラート)−ブロック−ポリ(ナトリウムアクリラート)、ポリ(tert−ブチルメタクリラート)−ブロック−ポリ(メタクリル酸)、ポリ(tert−ブチルメタクリラート)−ブロック−ポリ(アクリル酸)、ポリ(tert−ブチルメタクリラート)−ブロック−ポリ(N−メチル−4−ビニルピリジニウムヨージド)、ポリ(tert−ブチルメタクリラート)−ブロック−ポリ(N−メチル−2−ビニルピリジニウムヨージド)、ポリ(tert−ブチルメタクリラート)−ブロック−ポリ(2−ヒドロキシエチルアクリラート)、ポリ(tert−ブチルメタクリラート)−ブロック−ポリ(2−ヒドロキシエチルメタクリラート)、ポリ(tert−ブチルメタクリラート)−ブロック−ポリ(2−ヒドロキシエチルアクリラート)、ポリ(tert−ブチルメタクリラート)−ブロック−ポリ(2−ヒドロキシエチルメタクリラート)、ポリ(エチルヘキシルメタクリラート)−ブロック−ポリ(アクリル酸)、ポリ(エチルヘキシルアクリラート)−ブロック−ポリ(メタクリル酸)、ポリ(エチルヘキシルアクリラート)−ブロック−ポリ(アクリル酸)。
【0160】
本発明の目的は、また、上述の式(XVI)、(XVII)又は(XVIII)のブロックコポリマー類を製造する方法であって、本発明のマクロ光開始剤及び上述の式(XIX)の遊離基重合性モノマーの少なくとも1種を混合し、光を照射することを特徴とする方法である。
【0161】
重合は、バルク又はいかなる濃度のいかなる溶液中でも行うことができる。適切な溶媒の例は、炭化水素類、例えばベンゼン、トルエン、キシレン、シクロヘキサン;エステル類、例えばエチルアセタート、ブチルアセタート、アミルアセタート;ケトン類、例えばアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン;エーテル類、例えばテトラヒドロフラン及び1,4−ジオキサン;アルコール類、例えばメタノール、エタノール、イソブチルアルコール、1,2,6−ヘキサントリオール、グリセン;アミド類、例えばN,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルホルムアミド、N,N−ジエチルホルムアミド、N−メチルアセトアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルプロピオンアミドプロピオンアミド;ピロリドン類、例えば1−メチル−2−ピロリドン、ピロリドン、ε−カプロラクタム;グリコール類、例えばエチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレングリコール、トリ(メチレングリコール)、トリ(エチレングリコール)、ヘキシレングリコール、ジ(エチレングリコール)、ジエチレングリコール、ジ(プロピレングリコール)、ポリ(エチレングリコール);グリコールエーテル類、例えば2−メトキシエタノール、2−エトキシエタノール、2−(2−メトキシ)エトキシエタノール、2−プロポキシエタノール、2−ブトキシエタンオール、ジ(エチレングリコール)モノメチルエーテル、ジ(エチレングリコール)モノエチルエーテル、ジ(エチレングリコール)モノブチルエーテル、トリ(エチレングリコール)モノエチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノール、1−エトキシ−2−プロパノール、ジ(プロピレングリコール)モノメチルエーテル、ジ(プロピレングリコール)モノエチルエーテル、トリ(プロピレングリコール)モノメチルエーテル、3−メトキシl−3−メチル−1−ブタノール;ハロゲン化炭化水素、例えばクロロホルム又はメチレンクロリドである。溶媒は、2種以上の上記の溶媒の混合物で用いるもこともできる。
【0162】
生成した遊離基の不活性化を避けるために不活性雰囲気中で重合を実施することが適切である。適切な不活性ガスの例は、窒素、ヘリウム、ネオン、アルゴン及びクセノンである。
【0163】
重合は、通常、モノマーが重合することができる適切な温度で実施される。温度は、モノマー及び温度の選択に強く依存する。それは、用いるモノマー類と溶媒の融点より高く、それらの沸点より低くあるべきである。温度は、一般に、−40℃〜180℃、好適には0℃〜100℃の範囲である。光重合は、特定の分子量を有するオリゴマーを調製するために、WO 98/37105に記載された方法により実施することもできる。
【0164】
得られたブロックコポリマー類の数及び重量平均分子量は、通常の方法、例えば標準スチレン又は/及びメタクリラートによるGPC測定(当業者には既知方法)により測定することができ、300〜10,000,000、好適には500〜1,000,000の範囲である。
【0165】
ブロックコポリマー類は、一般に、種々の適用に有用であり、本発明のブロック−コポリマー類は、種々の目的に用いることができる。ポリスチレン−ブロック−ポリブタジエン又はポリスチレン−ブロック−ポリイソブテンは、例えば、米国特許4126464に記載されているように、「写真材料の低温接着」のための鍵の成分であることができる。ポリ(tert−ブチルメタクリラート)−ブロック−ポリブタジエン又はポリ(tert−ブチルメタクリラート)−ブロック−ポリイソプレンは、米国特許5002676に記載されているように、滑剤として用いることができる。両親媒性ブロックコポリマー類,特にポリ(ヒドロキシヘキシルメタクリラート)−ブロック−[ポリ(メチルメタクリラート)−ランダム−ポリ(アクリル酸)]又はポリ(ヒドロキシヘキシルメタクリラート)−ブロック−ポリ(メチルメタクリラート)は、JP 3-223377 Aに記載されているように、例えば医学材料のための生物適合性ポリマーとして用いることができる。ポリスチレン−ブロック−ポリジエン、特にポリスチレン−ブロック−ポリブタジエン及びポリスチレン−ブロック−ポリイソプレンは、例えば米国特許5318877に開示されている実施例のように、画像性レジスト配合物のための材料として用いることができる。
【0166】
ポリ(エチルヘキシルメタクリラート)−ブロック−ポリ(メタクリル酸)は、Progress in Organic Coating 27 (1996), 255-260の一つの論文に記載されているように、非常に良好な顔料分散性及び乳化安定性を示す。Ueda, Kagaku To Kogyo 〔Chemical Industry Japan〕, 70(5), 184-190により、以下のブロックコポリマー類は、多くの方法、例えば熱可塑性エラストマーとして適切である:ポリスチレン−ブロック−ポリブタジエン、ポリ(メチルアクリラート)−ブロック−ポリスチレン、(ポリアクリルニトリル−ランダム−ポリスチレン)−ブロック−(ポリスチレン−ランダム−ポリブタジエン)、ポリ(ジメチルイタコナート)−ブロック−ポリブタジエン;ポリエステル樹脂FPR成形のためのポリマー性添加剤として:ポリスチレン−ブロック−ポリ(ビニルアセタート)、ポリ(メチルメタクリラート)−ブロック−ポリ(ビニルアセタート);表面処理試薬として:[ポリ(ブチルメタクリラート)−ランダム−ポリ(メチルメタクリラート)]−ブロック−ポリ(ペルフルオロエチルアクリラート)、ポリ(ヒドロキシルエチルメタクリラート)−ブロック−ポリスチレン。
【0167】
光重合を行うために、新規な配合物類(マクロ光開始剤と遊離基重合性モノマーを含む)のいずれか、又は本発明のブロック−コポリマー類の調製のための光重合を行うために、適切な照射は、例えば太陽光中又は人工光源中に存在している。したがって、多くの異なるタイプの光源が用いられる。点光源及び列(「面光源」)の両方が適切である。例は、カーボンアークランプ、ゼノンアークランプ、中−、高−及び低−圧水銀ランプ、あるいは金属ドープハライドランプ(金属−ハロゲンランプ類)、マイクロ波−励起金属蒸気ランプ類、エキシマランプ類、超化学線蛍光管類、蛍光ランプ類、アルゴン白熱ランプ類、電子フラッシュ光類、写真フラッドランプ類、発光ダイオード類(LED)、電子ビーム及びX−線類である。ランプと本発明の暴露すべき基質の距離は、意図する適用、ランプのタイプ及び出力により変えることができ、例えば2cm〜150cmであってよい。レーザー光源類は、例えばエキシマレーザー類、248nmでの暴露のために、例えばクリプトンFレーザーも適切である。可視領域のレーザーも用いることができる。この方法により、電子工業での印刷された回路、リソグラフィオフッセト印刷版、及び写真画像記録材料を製造することができる。適切な波長範囲は、例えば150〜1500nmである。
【0168】
本発明の、光重合性配合物類及びブロックコポリマー類は、種々の目的、例えば印刷インキ、透明上塗りとして、白色上塗りとして、例えば木材又は金属のために、粉体被覆として、被覆材料として、とりわけ紙、木材、金属又はプラスチックのために、建物及び道路標識のための太陽光−硬化性被覆として、写真複製技術のために、ホログラフ記録材料のために、画像記録技術のために、又は有機溶媒若しくは水性アルカリで現像することができる印刷版を製造するために、スクリーン印刷のためのマスクを製造するために、歯科用充填配合物のために、接着剤として、圧力−感受性接着剤として、薄膜化樹脂として、エッチングレジスト又はパーマネントレジストとして、及び電気回路のためのはんだマスクとして、例えば米国特許4575330に記載されているように、マス硬化(透明成形用型中でのUV硬化)により、若しくは立体リソグラフィ技術による3次元物品の製造のために、複合材料(例えば、スチレン性ポリエステル類、それは所望ならば、ガラス繊維及び/又は他の繊維及び他の添加剤を含むことをできる)及び厚層配合物を製造するために、電子構成要素及びチップの被覆又は封止のために、又は光学繊維のための被覆として用いることができる。本発明の配合物は、医学用具(例えば、コンタクトレンズ)、補助物又は移植物の製造のために更に適切である。更に、本発明の配合物は、例えばDE 19700064及び EP 678534に記載されているように、屈熱特性を有するゲルの調製のために適切である。
【0169】
本発明は、したがって、またエチレン性不飽和二重結合の少なくとも1個を含む、モノマー性、オリゴマー性又はポリマー性化合物の、光重合のための方法であって、上述の化合物へ、上述のようにマクロ光開始剤の少なくとも1種を加え、得られた配合物を電磁照射で、波長150〜1500、好適には150〜600nm、又は200〜600nmで、照射することを含む方法を提供する。
【0170】
したがって、本発明の別の目的は、本発明のマクロ光開始剤並びに着色及び非−着色ペイント及びワニス、透明及び着色水性分散物、粉体被覆物、印刷インキ、印刷版、接着剤、歯科用配合物、導波路、光スイッチ、色保証システム、ガラス繊維ケーブル被覆、スクリーン印刷型板、レジスト材料、複合材配合物の製造のために、写真複製のために、スクリーン印刷のマスクの製造のために、プリント電子回路用フォトレジスのために、電気及び電子回路をカプセル化するために、磁気記録材料の製造のために、立体リソグラフィ又はバルク硬化による三次元製品の製造のために、並びに記録材料、ホログラフ記録材料のために使用すること;並びに上述のようにブロックコポリマーを、着色分散物、乳化安定剤、プラスチックエラストマー、抗収縮剤、被覆、医学材料又は画像材料の調製のために使用することである。
【0171】
新規なマクロ光開始剤類は、乳化重合、パール重合又は懸濁重合の開始剤として、液晶モノマー及びオリゴマーの配列状態を固定するするための重合開始剤として、又は有機材料上に染料を固定するための開始剤として用いることができる。
【0172】
被覆材料において、使用は、しばしば、プレポリマーと多不飽和モノマー類の混合物で行われ、それは、一不飽和モノマーを更にまた含んでいてもよい。被覆フィルムの特性を主に支配するのはここでプレポリマーであり、それを変えることにより、当業者は、硬化されたフィルムの特性に影響させることができる。多不飽和モノマーは、フィルムを不溶化せしめる架橋剤として働く。一不飽和モノマーは、反応性希釈剤として働き、それは溶媒を用いる必要がなく粘性を減少するために用いられる。不飽和ポリエステル樹脂は、通常一不飽和モノマー、好適にはスチレンと一緒に二−成分系で用いられる、フォトレジストのために、特定の一−成分系がしばしば用いられ、DE 2308830に記載されているように、例えばポリマレイミド類、ポリカルコン類である。
【0173】
新規なマクロ光開始剤は、照射−硬化性粉体被覆の重合のために用いることができる。粉体被覆は、固体樹脂及び反応性二重結合を含むモノマー類、例えばマレアート類、ビニルエーテル類、アクリラート類、アクリルアミド類及びそれらの混合物に基づくことができる。遊離基的なUV−硬化性粉体被覆は、不飽和ポリエステル樹脂及び固体アクリルアミド類(例えば、メチル メチルアクリルアミドグリコラート)並びに本発明の光開始剤を混合することにより、配合物とすることができ、同様な配合物は、例えば、"Radiation Curing of Powder Coating", Conference Proceedings, Radtech Europe 1993 by M. Wittig and Th. Gohmannの報告に記載されている。粉体被覆は、また、例えば DE 4228514及び EP 636669に記載されているように、バインダー類を含むことができる。遊離基的なUV−硬化性粉体被覆は、また不飽和ポリエステル樹脂類と固体アクリラート類、メタクリラート類又はビニルエーテル類並びに新規な光開始剤(又は光開始剤混合物)を混合することにより配合物とすることができる。粉体被覆は、また、例えば DE 4228514及び EP 636669に記載されているように、バインダー類を含むことができる。UV−硬化性粉体被覆は、また白色又は着色顔料類を含むことができる。例えば、好適にはルチル二酸化チタンは、良好な遮蔽力の硬化された粉体被覆を与えるために50重量%までの濃度で用いることができる。方法は、通常、基質上、例えば金属又は木材上へ粉の静電又は摩擦電気噴霧、加熱による粉の熔融を含み、次いで平滑なフィルムが形成された後、例えば中圧水銀ランプ類、金属ハライドランプ類又はゼノンランプ類を用いる紫外及び/又は可視光での被覆の照射−硬化を含む。それらの熱−硬化性の対に対する照射−硬化性粉体被覆はの特別の利点は、粉粒子を熔融した後の流れ時間が、平滑な、高い光沢の被覆を保証するために遅くすることができることである。熱−硬化システムに比べて、照射−硬化性粉体被覆は、それらの寿命を短くするような望ましくない影響なしに、低温で熔融するように配合物化することができる。この理由のために、それらは、熱感受性の基質、例えば木材又はプラスチックスの被覆にまた適切である。新規な光開始剤に加えて、この粉体配合物は、UV吸収剤も含むことができる。適切な例は、上記の1〜8項に列記されている。
【0174】
新規な光硬化性配合物は、保護層に塗布する意図で、又は画像を生成させるために画像様の暴露の手段により、例えば、すべての種類の基質、例えば木材、織物、紙、セラミックス、ガラス、プラスチックス、例えばポリエステル類、ポリエチレンテレフタラート、ポリオレフィン類又はセルロースアセタート、特にフィルムの形態、及びまた金属類、例えばAl、Cu、Ni、Fe、Zn、Mg又はCo及びGaAs、Si又はSiO2の被覆材料として適切である。
【0175】
基質の被覆は、基質に液体配合物、溶液又は懸濁物を塗布することにより実施することができる。溶媒類及び濃度の選択は、主として、配合物のタイプ及び被覆技術に依存する。溶媒は、不活性であるべきであり、すなわち、それは、成分と化学反応すべきではなく、塗布の後に、乾燥の過程で除かれるべきである。適切な溶媒類の例は、ケトン類、エーテル類及びエステル類、例えばメチルエチルケトン、イソブチルメチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、N−メチルピロリドン、ジオキサン、テトラヒドロフラン、2−メトキシエタノール、2−エトキシエタノール、1−メトキシ−2−プロパノール、1,2−ジメトキシエタン、エチルアセタート、n−ブチルアセタート及びエチル3−エトキシプロピオナートである。溶液は、既知の被覆技術により、例えばスピン塗布、ディップ塗布、ナイフ塗布、カーテン塗布、ブラシ、噴霧、特に静電噴霧、及び逆ロール塗布により、並びにまた電気泳動堆積により、基質に均一に塗布される。仮の柔軟な支持材に光感受性層を塗布し、次いで目的支持材、例えば銅−メッキ回路板を、薄層としてその層を移すことにより被覆することもできる。
【0176】
塗布された量(被覆厚さ)及び基質の性質(支持層)は、所望の適用分野に依存している。被覆厚さの範囲は、一般的に、約0.1μmから100μm以上、例えば20mm〜10cm、好適には0.02〜2cmである。
【0177】
本発明は、したがってまた、上記のように光重合性配合物で被覆された基質にも関する。
【0178】
新規な照射−感受性配合物は、光に対する非常に高い感度を有する陰画レジストとしての適用が見出されており、それは膨潤なしに水性アルカリ媒体中で現像することができる。それらは、エレクトロニクスのためのレジスト類(電気メッキ板レジスト、エッチングレジスト、はんだレジスト)、印刷版類、例えばオフセット印刷版類又はスクリーン印刷版類の製造のために、レリーフ印刷、平板印刷又は輪転グラビア印刷の印刷物の製造のために、レリーフコピーの製造のために、例えば点字でのテキスト類の製造のために、スタンプ類の製造のために、化学粉砕での使用のために、又は集積回路の製造のためのミクロレジストとして適切である。可能な層支持、及び被覆基質の工程条件は、適切に変えられる。
【0179】
本発明の配合物は、画像記録又は画像複製(コピー、複写)(それは、単−又は多色であってよい)のための1層以上の材料の製造のための適用を見出している。更にまた、この材料は、色試験システムに適切である。この技術において、マイクロカプセルを含む配合物を、塗布することができ、そして画像生成のために、照射硬化に引き続く熱処理を行うことができる。そのようなシステム及び技術並びにそれらの適用は、例えば米国特許5376459に記載されている。
【0180】
写真情報記録のために用いられる基質は、例えば、ポリエステル、セルロースアセタート又はポリマー−被覆ペーパーのフィルム類を含み;オフセット印刷物のための基質は、特別に処理されたアルミニウムであり、印刷回路を製造するための基質は、銅−メッキ薄層であり、そして集積回路を製造するための基質は、シリコンウエハである。写真材料及びオフセット印刷物のための層厚さは、一般に、0.5μm〜10μmであり、一方印刷回路のものは、1.0μm〜約100μmである。
【0181】
基質の被覆に続いて、溶媒が、一般に乾燥により除去され、基質上にホトレジストを生成させる。
【0182】
用語「画像様」暴露は、予め決められたパターンを含むホトマスク、例えばスライドを通す暴露、及びレーザー又は光ビームの手段による暴露の両方を含み、このレーザー又は光ビームは、被覆された基質の表面上をコンピューター制御下に移動し、この方法で、画像及びコンピューター制御された電子ビームでの照射をもたらす。例えば、A. Bertsch, J.Y. Jezequel, J.C. Andre in Journal of Photochemistry and Photobiology A: Chemistry 1997, 107, p.275-281 and K.−P. Nicolay in Offset Printing 1997, 6, p.34-37 に記載されているように、デジタル画像を生成するためにピクセル毎にアドレスすることができる液晶から製造されたマスクを使用することもできる。材料の画像様曝露に続き、現像の前に、短時間熱処理を実施することが好都合である。この場合、曝露区域は、熱的に硬化する。用いられる温度は、一般に50〜150℃、好適には80〜130℃;熱処理の期間は、一般に0.25〜10分である。
【0183】
光硬化性配合物は、例えばDE 4013358に記載されているように、印刷板又はホトレジストの製造のための方法に用いられてもよい。そのような方法において、配合物は、画像様照射の前、同時又はそれに続いて、少なくとも400nmの波長の光にマスクなしで短時間曝露される。
【0184】
曝露、及びもし行なわれるならば、熱処理の後に、光感受性の非曝露領域は、それ自体既知の方法で、現像液で除去される。
【0185】
既述のように、新規な配合物は、水性アルカリ類で現像することができる。特に適切な水性−アルカリ現像溶液は、テトラアルキルアンモニウムヒドロキシド類又はアルカリ金属シリカート類、ホスファート類、水酸化物類及び炭酸塩類の水性溶液である。湿潤剤の少量及び/又は有機溶媒類は、所望ならばこれらの溶液に加えてもよい。典型的な有機溶媒の例(少量で現像液に加えてもよい)は、シクロヘキサノン、2−エトキシエタノール、トルエン、アセトン及びそのような溶媒の混合物である。
【0186】
光硬化は、インキの乾燥時間が印刷生成物の製造速度のための重要な要因でるので、印刷のために非常に重要であり、秒の割合の大きさであるべきである。UV−硬化性インキは、スクリーン印刷及びオフセットインキのために特に重要である。
【0187】
既に上述のように、新規な配合物類は、印刷版類の製造のために適切である。この適用は、例えば、可溶性の線状ポリアミド類又はスチレン/ブタジエン及び/又はスチレン/イソプレンゴム、カルボキシル基を含むポリアクリラート類又はポリメチルメタクリラート類、光重合性モノマーを有する、ポリビニルアルコール類又はウレタンアクリラート類、例えばアクリルアミド類及び/又はメタアクリルアミド類、あるいはアクリラート類及び/又はメタクリラート類、と光開始剤の混合物を用いる。これらの系のフィルム類及びプレ−ト類(湿潤又は乾燥)は、最初の印刷物の陰画(又は陽画)上で曝露され、そして非硬化部分は、引き続いて適切な溶媒又は水性溶液を用いて洗い出される。光硬化が行われる別の分野は、金属の被覆、この場合、例えば、金属板類及び管類、缶又はビンのふたであり、そしてポリマー被覆の光硬化は、例えばPVCに基づく床又は壁の被覆である。紙被覆の光硬化の例は、ラベル、レコード袋及び本のカバーの透明ワニスである。
【0188】
複合配合物から製造された成形品を硬化させるための、新規な化合物及び光開始剤システムの使用も、また興味がある。複合化合物は、自己支持マトッリクス材料、例えばガラス繊維織物、又は別のものとして、例えば、植物繊維類〔cf. K.−P. Mieck, T. Reussmann in Kunststoffe 85 (1995), 366-370〕(これは、光硬化配合物で充満されている)からなる。複合化合物を含む成形部分は、新規な化合物を用いて製造されたとき、高いレベルの機械的安定性及び抵抗性を達成する。新規な化合物は、例えばEP 7086 に記載されているように、成形品、充満品及び被覆配合物での光硬化剤として用いることができる。そのような配合物の例は、ゲル被覆樹脂(それは、硬化活性及び耐黄色化に関して過酷な要求が提示されている)、及び繊維強化成形品、例えば光散乱パネル類(これは、平面であるか、又は縦若しくは横の波を有している)である。そのような成形品を製造する技術、例えば手によるレイ−アップ、噴霧レイ−アップ、遠心注型又はフィラメント巻きつけは、 P.H. Selden in "Glasfaserverstearkte Kunststoffe", page 610, Springer Verlag Berlin−Heidelberg−New York 1967に記載されている。それらの技術により製造することができる製品の例は、ボート類、ファイバーボード類又は類ガラス繊維強化の、プラスチックの両側被覆を有するチップボードパネル類、パイプ類、容器類などである。成形品、充満品及び被覆配合物の別の例は、ガラス繊維を含む成形品(GRP)のためのUP樹脂ゲル被覆であり、例えば波板類及び紙の薄層である。紙の薄層は、ウレア樹脂又はメラミン樹脂に基づいていてもよい。薄層の製造の前に、ゲル被覆は、支持材(例えばフィルム)上で製造される。新規な光硬化性配合物は、注型樹脂類のため、又は埋め込み製品類、例えば電子構成要素類などのために用いることができる。硬化は、通常、UV硬化で慣用の中圧水銀ランプを用いて実施される。しかしながら、低強度ランプ、TL 40W/03又は TL40W/05タイプのもにも興味がある。これらのランプの強度は、ほぼ太陽光のそれに相当する。硬化のために、直接の太陽光を用いることもできる。別の利点は、複合配合物は、部分硬化された可塑状態で光源から移動し、続いて完全硬化を開始させて成形することができることである。
【0189】
本発明の配合物類及び化合物類は、ホログラフ類、導波管、光スイッチの製造に用いることができ、そこでの利点は、照射及び非照射の間反射率での差の増大にある。
【0190】
情報伝達の画像技術及び光学製品のための光硬化性配合物の使用は、また重要である。そのような適用において、上に既述したように、支持体に塗布された層(湿潤又は乾燥)は、画像様、例えばホトマスクを通して、UV又は可視光で照射され、次いでその層の非暴露領域は、現像剤での処理により除去される。光硬化層の金属への適用は、また電着により実施することもできる。暴露された層は、架橋によるポリマーであり、したがって、不溶性であり、支持材上に止まる。適切な着色化は、可視的画像を生成させる。支持材が金属化層であるとき、その金属は、暴露及び現像に続いて、非暴露領域でエッチングで除くことができるか、又は電気メッキにより強化することができる。この方法で、電子回路及びホトレジストを製造することができる。
【0191】
以下の実施例は、本発明を更に詳細に説明している。部及びパーセントは、詳細な説明及び請求項に述べたように、特に断らない限り、重量部である。3個以上の炭素原子を有するアルキル基が、特定の異性体についていかなる言及なしに参照されるとき、それぞれの場合に、n−異性体を意味する。
【0192】
以下の実施例において、連鎖移動基を有する以下の光開始剤類は、本発明のマクロ光開始剤類の製造のために用いられる:
【0193】
【化57】
【0194】
【化58】
【0195】
以下の実施例において、
MMA=メチルメタクリラート(Tokyo Kasei Kogyo Co., Ltd. Tokyo Japan)及び
スチレン(Wako Pure Chemical industries, Osaka Japan)は、重合直前に、精製し、真空下に蒸留する。
トルエン(Wako Pure Chemical industries, Osaka Japan)は、精製のために蒸留される。
AIBN=2,2′−アゾビスイソブチロニトリル(Nacalai Tesques, Kyoto Japan)は、供給者から受け入れて用いる。
BA=N−ブチルアクリラート(Tokyo Kasei Kogyo Co., Ltd. Tokyo Japan)、
HPMA=ヒドロキシプロピルメタクリラート(Tokyo Kasei Kogyo Co., Ltd. Tokyo Japan)、
EHMA=エチルヘキシルメタクリラート(Nacalai Tesque, Kyoto Japan)、及び
MAA=メタクリル酸(Tokyo Kasei Kogyo Co., Ltd. Tokyo Japan)は、カラムで濾過し、重合直前に開始剤を除く。
【0196】
連鎖定数の決定は、以下のように行った:
モノマー中の2,2′−アゾビスイソブチロニトリル(AIBN)3mM溶液を調製した。2mlガラスアンプル中にAIBNの2.00ml及び光開始剤の0.1850、0.0925、0.0370、0.0185又は0mmolをを含むサンプルは、AIBN溶液中の光開始剤を溶解することにより調製した。このアンプルを、アルゴン下に封止し、重合を60℃で1時間実施した。反応混合物を、次いでヘキサン100mlへ注ぎ、未反応モノマーを除き、生成したポリマーを濾過により集め、真空下で一夜乾燥した。光開始剤の連鎖移動定数を、GPC(Gel Permeation Chromatography)測定により決定した数平均分子量(Mn)(標準ポリスチレン類で計算された)のデータにより計算した。この方法は、例えばJ. Chromatogr., 83, 111(1973)に記載されている。種々の光開始剤類の標準は、表1に要約した。分子量(Mw)も、上記のGPC測定により決定した。Mw/Mnは、通常、得られたポリマー類及びコポリマー類の分子量分布の指標として、用いられる。
【0197】
【表1】
【0198】
A:マクロ光開始剤の調製
実施例1:マクロ光開始剤1(MPI−1)
1.3mlのMAA、
0.4mlの0.925MPI−1(トルエン中)、
0.5mlの50mMAIBN(トルエン中)及び
2.4mlのトルエンを、5mlアンプル中で混合した。
アンプルをアルゴン流下で封止し、水浴中、60℃で21時間加熱した。反応混合物をメタノール中に注ぎ、未反応モノマーを除いた。沈殿したポリマーを濾過により集め、真空下30℃で一夜乾燥した。649mgのポリマーを得た。数平均分子量(Mn)は、8700(GPCで測定した);Mw/Mnは、1.32であった。光開始基の存在は、8.49及び8.51ppmでのシグナルを用いての1H−NMRで確認した。
【0199】
実施例2:マクロ光開始剤2(MPI−2)の調製
1.3mlのMMA、
0.4mlの0.925MPI−2(トルエン中)、
0.5mlの50mMAIBN(トルエン中)及び
2.8mlのトルエンを5mlアンプル中で混合した。
重合を実施例1に記載したように実施した。1.624mgのポリマーを得た。数平均分子量(Mn)は、10000;Mw/Mnは、1.46であった。
【0200】
実施例3:マクロ光開始剤3(MPI−3)の調製
1.3mlのMMA、
0.4mlの0.925MPI−3(トルエン中)、
0.5mlの50mMAIBN(トルエン中)、及び
2.2mlのトルエンを、5mlアンプル中で混合した。
重合を実施例1に記載したように実施した。1.690mgのポリマーを得た。数平均分子量(Mn)は、10100;Mw/Mnは、1.34であった。
【0201】
実施例4:マクロ光開始剤4(MPI−4)の調製
2.0mlのMMA、
1.0mlの0.925MPI−4(トルエン中)、
0.5mlの50mMAIBN(トルエン中)、及び
2.4mlのトルエンを、5mlアンプル中で混合した。
重合を実施例1に記載したように実施した。1.1124mgのポリマーを得た。数平均分子量(Mn)は、7700;Mw/Mnは、1.21であった。
【0202】
実施例5:マクロ光開始剤5(MPI−5)の調製
1.3mlのMMA、
0.2mlの0.925MPI−4(トルエン中)、
0.5mlの50mMAIBN(トルエン中)、及び
3.0mlのトルエンを、5mlアンプル中で混合した。
重合を実施例1に記載したように実施した。1.807mgのポリマーを得た。数平均分子量(Mn)は、13500;Mw/Mnは、1.44であった。
【0203】
実施例6:マクロ光開始剤6(MPI−6)の調製
2.0mlのBA、
1.5mlの0.925MPI−1(トルエン中)、
0.5mlの50mMAIBN(トルエン中)、及び
2.4mlのトルエンを、5mlアンプル中で混合した。
アンプルをアルゴン流下で封止し、水浴中、60℃で21時間加熱した。反応混合物をメタノール中に注ぎ、未反応モノマーを除いた。ポリマーを凍結乾燥によりベンゼンから回収した。2016mgのポリマーを得た。数平均分子量(Mn)は、1600;Mw/Mnは、1.98であった。
【0204】
実施例7:マクロ光開始剤7(MPI−7)の調製
MPI−7を調製するために、0.8mlに代えてPI−1の溶液0.1mlを、そして2.4mlに代えてトルエン3.1mlを用いた以外は、実施例1の方法を繰り返した。912mgのポリマーを得た。数平均分子量(Mn)は、19300;Mw/Mnは、1.52であった。
【0205】
実施例8:マクロ光開始剤5(MPI−5)の調製
1.3mlのHPMA、
3.2mlの0.925MPI−1(ジメチルホルムアミド(DFM)中)、及び0.5mlの50mMAIBN(DMF中)を、5mlアンプル中で混合した。
アンプルをアルゴン流下で封止し、水浴中、60℃で21時間加熱した。反応混合物を純水中に注いだ。沈殿したポリマーを集め、ベンゼン/エタノール溶液から凍結乾燥後に回収した。1415mgのポリマーを得た。数平均分子量(Mn)は、4600(GPCにより測定);Mw/Mnは、1.27であった。
【0206】
実施例9:マクロ光開始剤9(MPI−9)の調製
0.925MPI−1に代えて、28.9mMのPI−1を用いた以外は、実施例8の方法を、繰り返した。1031mgのポリマーを得た。数平均分子量(Mn)は、56300(GPCにより測定);Mw/Mnは、2.28であった。
【0207】
実施例10:マクロ光開始剤10(MPI−10)の調製
2.7mlのEHMA、
1.6mlの0.925MPI−1(トルエン中)、
0.5mlの50mMAIBN(トルエン中)、及び
0.2mlのトルエンを、5mlアンプル中で混合した。
アンプルをアルゴン流下で封止し、水浴中、60℃で21時間加熱した。反応混合物を20mlのベンゼンで希釈した。反応したポリマーを反応混合物から凍結乾燥後に回収した。2793mgのポリマーを得た。数平均分子量(Mn)は、2100(GPCにより測定);Mw/Mnは、1.44であった。
【0208】
実施例11:マクロ光開始剤11(MPI−11)の調製
1.6mlに代えて、0.05mlの光開始剤溶液、及び0.2mlに代えて1.75mlのトルエンを用いた以外は、実施例10の方法を、繰り返した。66mgのポリマーを得た。数平均分子量(Mn)は、48100(GPCにより測定);Mw/Mnは、1.59であった。
【0209】
実施例12:マクロ光開始剤12(MPI−12)の調製
1.0mlのMMA、
3.2mlの0.925MPI−1(メタノール中)、
0.5mlの50mMAIBN(メタノール中)、及び
0.3mlのメタノールを、5mlアンプル中で混合した。
アンプルをアルゴン流下で封止し、水浴中、60℃で21時間加熱した。反応混合物を20mlの純水で希釈した。反応したポリマーを集め、反応混合物から凍結乾燥後に回収した。1056mgのポリマーを得た。数平均分子量(Mn)は、25800(GPCにより測定);Mw/Mnは、4.02であった。
【0210】
実施例13:マクロ光開始剤13(MPI−13)の調製
3.2mlに代えて、0.1mlの光開始剤溶液、及び0.3mlに代えて3.4mlのメタノールを用いた以外は、実施例12の方法を、繰り返した。955mgのポリマーを得た。数平均分子量(Mn)は、882700(GPCにより測定);Mw/Mnは、1.28であった。
【0211】
B:ブロック−コポリマー類の調製
実施例14:ブロック−コポリマー1(BC−1)の調製
実施例1で調製した50mgのMPI−1(Mn8700)を、光学セル中でスチレン1.0ml中に溶解した。セルをアルゴン流れ下に封止し、12個の蛍光ランプ(Chemical lamp FL15BL 東芝製;360nm、5.8mW/cm2)で1時間照射した。反応混合物をメタノール中へ注ぎ、沈殿したブロック−コポリマーを濾過により集め、真空下に乾燥した。124mgのポリマーを得た。数平均分子量(Mn)は、22400(GPCにより測定);Mw/Mnは、1.84であった。
【0212】
実施例15:ブロック−コポリマー2(BC−2)の調製
照射を2時間実施したこと以外は、実施例14の方法を繰り返した。91mgのポリマーを得た。数平均分子量(Mn)は、42000(GPCにより測定);Mw/Mnは、2.23であった。
【0213】
実施例16:ブロック−コポリマー3(BC−3)の調製
実施例1で調製した50mgのMPI−1(Mn8700)を、光学セル中でMMAの1.0ml中に溶解した。セルをアルゴン流下に封止し、12個の蛍光ランプ(Chemical lamp FL15BL 東芝製;360nm、5.8mW/cm2)で1時間照射した。反応混合物をヘキサン中へ注ぎ、沈殿したブロック−コポリマーを濾過により集め、真空下に乾燥した。316mgのポリマーを得た。数平均分子量(Mn)は、38600(GPCにより測定);Mw/Mnは、4.68であった。
【0214】
実施例17:ブロック−コポリマー4(BC−4)の調製
実施例2で調製した50mgのMPI−2(Mn10000)を、光学セル中でスチレン1.0ml中に溶解した。セルをアルゴン流下に封止し、12個の蛍光ランプ(Chemical lamp FL15BL 東芝製;360nm、5.8mW/cm2)で2時間照射した。反応混合物をメタノール中へ注ぎ、沈殿したブロック−コポリマーを濾過により集め、真空下に乾燥した。105mgのポリマーを得た。数平均分子量(Mn)は、39700(GPCにより測定);Mw/Mnは、4.87であった。
【0215】
実施例18:ブロック−コポリマー5(BC−5)の調製
照射を4時間実施したこと以外は、実施例17の方法を繰り返した。381mgのポリマーを得た。数平均分子量(Mn)は、275000(GPCにより測定);Mw/Mnは、3.00であった。
【0216】
実施例19:ブロック−コポリマー6(BC−6)の調製
実施例2で調製した50mgのMPI−2(Mn10000)を、光学セル中でスチレン1.0ml中に溶解した。セルをアルゴン流下に封止し、12個の蛍光ランプ(Chemical lamp FL15BL 東芝製;360nm、5.8mW/cm2)で65分照射した。反応混合物をメタノール中へ注ぎ、沈殿したブロック−コポリマーを濾過により集め、真空下に乾燥した。298mgのポリマーを得た。数平均分子量(Mn)は、63300(GPCにより測定);Mw/Mnは、2.85であった。
【0217】
実施例20:ブロック−コポリマー7(BC−7)の調製
実施例3で調製した50mgのMPI−3(Mn10100)を、光学セル中でスチレン1.0ml中に溶解した。セルをアルゴン流下に封止し、12個の蛍光ランプ(Chemical lamp FL15BL 東芝製;360nm、5.8mW/cm2)で1時間照射した。反応混合物をメタノール中へ注ぎ、沈殿したブロック−コポリマーを濾過により集め、真空下に乾燥した。39mgのポリマーを得た。数平均分子量(Mn)は、20900(GPCにより測定);Mw/Mnは、1.93であった。
【0218】
実施例21:ブロック−コポリマー8(BC−8)の調製
実施例4で調製した50mgのMPI−4(Mn7700)を、光学セル中でスチレン1.0ml中に溶解した。セルをアルゴン流下に封止し、12個の蛍光ランプ(Chemical lamp FL15BL 東芝製;360nm、5.8mW/cm2)で1時間照射した。反応混合物をメタノール中へ注ぎ、沈殿したブロック−コポリマーを濾過により集め、真空下に乾燥した。65mgのポリマーを得た。数平均分子量(Mn)は、15700(GPCにより測定);Mw/Mnは、2.52であった。
【0219】
実施例22:ブロック−コポリマー9(BC−9)の調製
実施例5で調製した50mgのMPI−5(Mn13500)を、光学セル中でスチレン1.0ml中に溶解した。セルをアルゴン流下に封止し、12個の蛍光ランプ(Chemical lamp FL15BL 東芝製;360nm、5.8mW/cm2)で1時間照射した。反応混合物をメタノール中へ注ぎ、沈殿したブロック−コポリマーを濾過により集め、真空下に乾燥した。56mgのポリマーを得た。数平均分子量(Mn)は、23400(GPCにより測定);Mw/Mnは、2.18であった。
【0220】
実施例23:ブロック−コポリマー10(BC−10)の調製
実施例6で調製した50mgのMPI−6(Mn1600)を、光学セル中でスチレン1.0ml中に溶解した。セルをアルゴン流下に封止し、12個の蛍光ランプ(Chemical lamp FL15BL 東芝製;360nm、5.8mW/cm2)で1時間照射した。反応混合物をメタノール中へ注ぎ、沈殿したブロック−コポリマーを濾過により集め、真空下に乾燥した。116mgのポリマーを得た。数平均分子量(Mn)は、10100(GPCにより測定);Mw/Mnは、1.54であった。
Claims (8)
- 熱開始剤の存在下、モノマー及び連鎖移動基を含む光開始剤化合物を熱重合することにより得られるマクロ光開始剤であって、
連鎖移動基を含む光開始剤が、式(II):
〔式中、
aは、1であり;
Ar 1 は、フェニル(これは、−OR7、−SR8 又は−NR9R10により置換されている)であり;
M1は、−OH又は−NR3R4であり;
R1及びR2は、互いに独立して、C1−C8アルキル、C3−C6アルケニル又はベンジルであり;
R 3 及びR 4 は、C 1 −C 12 アルキルであるか、又はR 3 とR 4 は、一緒になって、C 3 −C 7 アルキレン(これは、−O−により中断されている)であり;
R7は、C1−C 4 アルキル(これは、SHにより置換されている)であり;
R8は、C1−C 4 アルキル(これは、SHにより置換されている)であるか、あるいはR 8 は、フェニル(これは、SHにより置換されている)であり;
R9及びR10は、互いに独立して、水素又はC2−C4アルキル(これは、SHにより置換されている)である〕で示され、
モノマーが、式(XIX):
〔式中、
X1は、−R24、−OR24 又は下記式:
の基であり;
Y1、Y2及びY3は、互いに独立して、水素、C1−C4アルキル又は−COOR 24 であり;
X2は、−OR24であり;そして
R24は、水素、又は脂肪族、環式脂肪族若しくは芳香族炭化水素基(これは、1〜20個の炭素原子を含む)である〕で示される、マクロ光開始剤。 - 式(XI):
{式中、
bは、1であり;
PIは、式(XIIa)の基であり:
〔式中、
Ar2は、下記式:
の基であり;
Xは、−O−、−S−又は−N(R6)−であり;
R1及びR2は、互いに独立して、C1−C8アルキル、C3−C6アルケニル又はベンジルであり;
M1は、−NR3R4又は−OHであり;
E1は、C1−C 4 アルキレン又はフェニレンであり;
R3及びR4 は、C1−C 12 アルキルであるか、あるいはR3とR4は、一緒になって、C3−C7アルキレン(これは、−O−により中断されていることができる)であり;
R6は、水素である〕であり;
A1は、式(XIX)
〔式中、
X1は、−R24、−OR24 又は下記式:
の基であり;
Y1、Y2及びY3は、互いに独立して、水素、C1−C4アルキル又は−COOR24であり;
X2は、−OR24であり;そして
R24は、水素、又は脂肪族、環式脂肪族若しくは芳香族炭化水素基(これは、1〜20個の炭素原子を含む)である〕
で示されるモノマーからの重合性基である}
である、請求項1記載のマクロ光開始剤。 - 重合性部分A1が、アクリラート類、メタクリラート類及びスチレン誘導体類からなる群から選択されるモノマーからのものである、請求項2記載のマクロ光開始剤。
- 連鎖移動剤として、式(II)
〔式中、
aは、1であり;
Ar 1 は、フェニル(−OR 7 、−SR 8 又は−NR 9 R 10 により置換されている);
M 1 は、−OH又は−NR3R4であり;
R1及びR2は、互いに独立して、C1−C8アルキル、C 3 −C6アルケニル又はベンジルであり;
R3 及びR 4 は、C1−C12アルキルであるか、あるいは;
R3とR4は、一緒になって、C3−C7アルキレン(これは、−O−により中断されている)であり;
R7は、C 1 −C 4 アルキル(これは、SHにより置換されている)であり;
R8は、C1−C 4 アルキル(これは、SHにより置換されている)であるか;あるいはR8は、フェニル(これは、SHにより置換されている)であり;
R9及びR10は、互いに独立して、水素又はC2−C4アルキル(これは、SHにより置換されている)である〕で示される光開始剤の使用。 - 少なくとも1つのエチレン性不飽和の二重結合を含む、モノマー性、オリゴマー性又はポリマー性化合物を光重合させるための方法であって、この化合物に請求項1記載のマクロ光開始剤の少なくとも1種を加え、次いでこの配合物に電磁放射線を照射することを特徴とする方法。
- (A)エチレン性不飽和の光重合性化合物の少なくとも1種、及び
(B)請求項1記載のマクロ光開始剤の少なくとも1種を含む光重合性配合物。 - 成分(B)に加えて、更なる光開始剤(C)の少なくとも1種及び/又は更なる共開始剤(D)及び/又は他の添加剤を含む、請求項6記載の光重合性配合物。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| EP98810501 | 1998-05-29 | ||
| EP98810501.1 | 1998-05-29 | ||
| PCT/EP1999/003458 WO1999062961A1 (en) | 1998-05-29 | 1999-05-20 | Novel photoinitiators and their applications |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002517522A JP2002517522A (ja) | 2002-06-18 |
| JP2002517522A5 JP2002517522A5 (ja) | 2006-07-13 |
| JP4975211B2 true JP4975211B2 (ja) | 2012-07-11 |
Family
ID=8236118
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000552170A Expired - Fee Related JP4975211B2 (ja) | 1998-05-29 | 1999-05-20 | 新規な光開始剤及びその応用 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6458864B1 (ja) |
| EP (1) | EP1086145B1 (ja) |
| JP (1) | JP4975211B2 (ja) |
| AU (1) | AU4363999A (ja) |
| DE (1) | DE69917261T2 (ja) |
| WO (1) | WO1999062961A1 (ja) |
Families Citing this family (18)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100642674B1 (ko) | 1998-12-31 | 2006-11-10 | 시바 스폐셜티 케미칼스 홀딩 인코포레이티드 | Atrp중합체를 함유하는 안료 조성물 |
| JP2002544205A (ja) * | 1999-05-10 | 2002-12-24 | チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド | 新規な光開始剤及びその応用 |
| DE10039212A1 (de) * | 2000-08-11 | 2002-02-21 | Tesa Ag | Verfahren zur Herstellung haftklebriger Polyacrylate unter Verwendung mercaptofunktionalisierter Photoinitiatoren |
| DE10149084A1 (de) * | 2001-10-05 | 2003-06-18 | Tesa Ag | UV-vernetzbare Acrylathaftschmelzhaftkleber mit enger Molekulargewichtsverteilung |
| US6908952B2 (en) * | 2003-03-21 | 2005-06-21 | 3M Innovative Properties Company | Ring-opened azlactone photoiniferters for radical polymerization |
| JP5159097B2 (ja) * | 2006-09-22 | 2013-03-06 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、インクジェット記録方法及び印刷物 |
| WO2008070737A1 (en) * | 2006-12-05 | 2008-06-12 | University Of Southern Mississippi | Benzophenone/thioxanthone derivatives and their use in photopolymerizable compositions |
| JP5136035B2 (ja) * | 2007-12-11 | 2013-02-06 | コニカミノルタホールディングス株式会社 | インクジェットインク及びインクジェット記録方法 |
| JP5441574B2 (ja) * | 2009-09-08 | 2014-03-12 | 富士フイルム株式会社 | 水性インク組成物、インクセット、およびインクジェット画像形成方法 |
| JP5955832B2 (ja) * | 2010-03-22 | 2016-07-20 | ヘンケル アイピー アンド ホールディング ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | マクロ光開始剤およびそれらの硬化性組成物 |
| JP5455818B2 (ja) * | 2010-06-29 | 2014-03-26 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、インクセット及び画像形成方法 |
| AT514594B1 (de) | 2013-09-06 | 2015-02-15 | Durst Phototech Digital Tech | Photoinitiator |
| WO2016017537A1 (ja) * | 2014-08-01 | 2016-02-04 | 株式会社Adeka | 新規重合開始剤及び該重合開始剤を含有するラジカル重合性組成物 |
| TWI677492B (zh) * | 2018-07-17 | 2019-11-21 | 奇鈦科技股份有限公司 | 液態光引發化合物及其應用 |
| CN110003365B (zh) * | 2019-04-03 | 2020-06-09 | 北京化工大学 | 一种大分子光引发剂及其制备方法 |
| CN109970727B (zh) * | 2019-04-03 | 2021-04-06 | 北京化工大学 | 一种长波长可聚合光引发剂及其制备方法 |
| CN109988262B (zh) * | 2019-04-03 | 2020-07-14 | 北京化工大学 | 一种聚合大分子光引发剂及其制备方法 |
| CN109988268B (zh) * | 2019-04-03 | 2020-08-04 | 北京化工大学 | 一种共聚合大分子光引发剂及其制备方法 |
Family Cites Families (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0088050B1 (de) * | 1982-02-26 | 1986-09-03 | Ciba-Geigy Ag | Photohärtbare gefärbte Massen |
| DE3738567A1 (de) * | 1987-03-12 | 1988-09-22 | Merck Patent Gmbh | Coreaktive fotoinitiatoren |
| US5314962A (en) * | 1987-04-07 | 1994-05-24 | Mitsubishi Petrochemical Company Limited | ABA type block copolymers |
| US5190989A (en) * | 1987-06-23 | 1993-03-02 | Mitsubishi Petrochemical Company Limited | Hydrophilic group-containing AB-type block copolymer |
| DE3816304A1 (de) * | 1988-05-13 | 1989-11-23 | Merck Patent Gmbh | Fotoinitiator-copolymere |
| US5057619A (en) * | 1989-08-14 | 1991-10-15 | Minnesota Mining And Manufacturing Co. | Siloxane iniferter compounds, block copolymers made therewith and a method of making the block copolymers |
| JP2845973B2 (ja) * | 1989-09-04 | 1999-01-13 | 三菱化学株式会社 | ジチオカーバメート基含有ポリエステル |
| JP3112702B2 (ja) * | 1991-06-13 | 2000-11-27 | 積水化学工業株式会社 | ポリマー型光重合開始剤、その製法および使用法 |
| JP3346486B2 (ja) * | 1993-03-29 | 2002-11-18 | 大日本インキ化学工業株式会社 | 含フッ素ブロック共重合体の製造方法 |
| US5942555A (en) * | 1996-03-21 | 1999-08-24 | Surmodics, Inc. | Photoactivatable chain transfer agents and semi-telechelic photoactivatable polymers prepared therefrom |
| JP3730719B2 (ja) * | 1996-08-12 | 2006-01-05 | 積水化学工業株式会社 | ブロック共重合体の製造方法 |
| TW452575B (en) * | 1996-12-06 | 2001-09-01 | Ciba Sc Holding Ag | New Α-aminoacetophenone photoinitiators and photopolymerizable compositions comprising these photoinitiators |
-
1999
- 1999-05-20 US US09/701,457 patent/US6458864B1/en not_active Expired - Fee Related
- 1999-05-20 EP EP99926340A patent/EP1086145B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1999-05-20 JP JP2000552170A patent/JP4975211B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1999-05-20 WO PCT/EP1999/003458 patent/WO1999062961A1/en not_active Ceased
- 1999-05-20 AU AU43639/99A patent/AU4363999A/en not_active Abandoned
- 1999-05-20 DE DE69917261T patent/DE69917261T2/de not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US6458864B1 (en) | 2002-10-01 |
| DE69917261D1 (de) | 2004-06-17 |
| AU4363999A (en) | 1999-12-20 |
| EP1086145B1 (en) | 2004-05-12 |
| JP2002517522A (ja) | 2002-06-18 |
| WO1999062961A1 (en) | 1999-12-09 |
| EP1086145A1 (en) | 2001-03-28 |
| DE69917261T2 (de) | 2004-09-09 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR100698799B1 (ko) | 신규한 광개시제 및 블록 공중합체 | |
| EP0956280B1 (en) | Non-volatile phenylglyoxalic esters | |
| JP4975211B2 (ja) | 新規な光開始剤及びその応用 | |
| KR100591030B1 (ko) | 옥심 유도체를 포함하는 광중합성 조성물 | |
| AU741581B2 (en) | New alpha-aminoacetophenone photoinitiators | |
| US6486228B2 (en) | Mono-and Bis-acylphosphine oxide photoinitiator combinations | |
| JP2001270894A (ja) | 有機金属モノアシルアリールホスフィン類 | |
| NO309145B1 (no) | Molekylkompleksforbindelser, fotopolymeriserbare sammensetninger, anvendelse herav samt belagte substrater | |
| MXPA05004015A (es) | Mejora en la estabilidad al almacenamiento de fotoiniciadores. | |
| US6361925B1 (en) | Photoinitiator mixtures and compositions with alkylphenylbisacylphosphine oxides | |
| CN113518805B (zh) | 光引发剂 | |
| EP0896587A1 (en) | Polymerisable composition | |
| EP1108723B1 (en) | Organosilyl radical generators and their applications | |
| JP2001220396A (ja) | 新規なオルガノシリル遊離基生成剤及びそれらの適用 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A524 | Written submission of copy of amendment under article 19 pct |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A524 Effective date: 20060519 |
|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060519 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20081216 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20091110 |
|
| A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20100127 |
|
| A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20100203 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100507 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110329 |
|
| RD13 | Notification of appointment of power of sub attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7433 Effective date: 20110624 |
|
| A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20110627 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110701 |
|
| A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20110704 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20110624 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120410 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120411 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150420 Year of fee payment: 3 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |
