JP4972289B2 - レーザマーキング装置 - Google Patents
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Description
前記位置検出機構は、前記支持機構により支持された前記被加工物の一部のエリアに対応する所定の撮像エリアを撮像する撮像機構と、前記撮像機構の前記撮像エリアを前記被加工物に対して走査する検出走査機構とを有し、
前記位置検出機構の前記検出走査機構は、前記レーザ走査機構の構成の少なくとも一部を兼用し、
前記レーザ走査機構は、前記レーザ発振器により発生された前記レーザ光を反射する反射ミラーと、前記反射ミラーによる前記レーザ光の反射角度を制御する角度制御機構とを有するレーザマーキング装置を提供する。
11 レーザ発振器
12,13 反射ミラー
14,18 集光レンズ
15 ビームスプリッタ
16,17 反射ミラー
20 レーザ走査機構
21,22,23 角度制御機構
25 撮像カメラ
26 画像処理装置
27 載置台
28 制御装置
31 半導体ウエハ
31a ノッチ
L レーザ光
C 撮像エリア
M マーキング可能エリア
Claims (5)
- レーザ光を発生するレーザ発振器と、
マーキング対象となる被加工物を支持する支持機構と、
前記レーザ発振器により発生された前記レーザ光の光軸を変化させて、前記支持機構により支持された前記被加工物に対して、当該レーザ光を二次元的に走査するレーザ走査機構と、
前記支持機構により支持された前記被加工物を撮像してその全体の位置情報を検出する位置検出機構と、
前記支持機構により支持された前記被加工物上の特定の箇所に前記レーザ光を照射してマーキングを行うよう、前記位置検出機構により検出された前記被加工物の全体の位置情報に基づいて前記レーザ走査機構を制御する制御装置と、を備え、
前記位置検出機構は、前記支持機構により支持された前記被加工物の一部のエリアに対応する所定の撮像エリアを撮像する撮像機構と、前記撮像機構の前記撮像エリアを前記被加工物に対して走査する検出走査機構とを有し、
前記位置検出機構の前記検出走査機構は、前記レーザ走査機構の構成の少なくとも一部を兼用し、
前記レーザ走査機構は、前記レーザ発振器により発生された前記レーザ光を反射する反射ミラーと、前記反射ミラーによる前記レーザ光の反射角度を制御する角度制御機構とを有することを特徴とするレーザマーキング装置。 - 前記制御装置は、前記レーザ走査機構により前記被加工物の表面内で前記レーザ光が走査される範囲に対応するマーキング可能エリア内の任意の箇所にて前記マーキングが行われるよう、前記位置検出機構により検出された前記被加工物の全体の位置情報に基づいて前記レーザ走査機構を制御することを特徴とする、請求項1に記載のレーザマーキング装置。
- 前記支持機構は、前記被加工物を所定の位置に位置決めする位置決め機構を有し、
前記制御装置は、前記マーキング可能エリア内の任意の箇所にて前記マーキングが行われるよう、前記位置検出機構により検出された前記被加工物の全体の位置情報に基づいて前記レーザ走査機構とともに前記位置決め機構を制御することを特徴とする、請求項2に記載のレーザマーキング装置。 - 前記マーキング可能エリアは、前記被加工物の全面又は全外周であることを特徴とする、請求項2又は3のいずれかに記載のレーザマーキング装置。
- 前記被加工物は半導体ウエハであることを特徴とする、請求項1乃至4のいずれか一項に記載のレーザマーキング装置。
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