JP4934677B2 - 表面処理剤およびそれを用いた金属材料ならびに新規化合物およびその製造方法 - Google Patents
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- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 title claims description 146
- 239000012756 surface treatment agent Substances 0.000 title claims description 49
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 22
- 239000007769 metal material Substances 0.000 title claims description 13
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 95
- -1 amine compound Chemical class 0.000 claims description 76
- FUGYGGDSWSUORM-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxystyrene Chemical compound OC1=CC=C(C=C)C=C1 FUGYGGDSWSUORM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 58
- FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N silanamine Chemical compound [SiH3]N FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 58
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 51
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 51
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 claims description 45
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 33
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 33
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 32
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 28
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 26
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 23
- 125000005370 alkoxysilyl group Chemical group 0.000 claims description 20
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 20
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 claims description 20
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims description 19
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 16
- 125000002768 hydroxyalkyl group Chemical group 0.000 claims description 13
- VVJKKWFAADXIJK-UHFFFAOYSA-N Allylamine Chemical compound NCC=C VVJKKWFAADXIJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N Ethylamine Chemical compound CCN QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N Morpholine Chemical compound C1COCCN1 YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- OPKOKAMJFNKNAS-UHFFFAOYSA-N N-methylethanolamine Chemical compound CNCCO OPKOKAMJFNKNAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 125000004448 alkyl carbonyl group Chemical group 0.000 claims description 11
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 claims description 11
- 125000004103 aminoalkyl group Chemical group 0.000 claims description 11
- 125000004985 dialkyl amino alkyl group Chemical group 0.000 claims description 11
- 125000004990 dihydroxyalkyl group Chemical group 0.000 claims description 11
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 11
- AFBPFSWMIHJQDM-UHFFFAOYSA-N N-methylaniline Chemical compound CNC1=CC=CC=C1 AFBPFSWMIHJQDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 claims description 10
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 10
- WGQKYBSKWIADBV-UHFFFAOYSA-N benzylamine Chemical compound NCC1=CC=CC=C1 WGQKYBSKWIADBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 10
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoethan-1-ol Chemical compound NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 125000000278 alkyl amino alkyl group Chemical group 0.000 claims description 9
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 claims description 9
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims description 8
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 claims description 7
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 claims description 7
- 125000000467 secondary amino group Chemical group [H]N([*:1])[*:2] 0.000 claims description 7
- 125000001302 tertiary amino group Chemical group 0.000 claims description 7
- PZJJKWKADRNWSW-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilicon Chemical group CO[Si](OC)OC PZJJKWKADRNWSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical compound OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N diethylamine Chemical compound CCNCC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 125000004573 morpholin-4-yl group Chemical group N1(CCOCC1)* 0.000 claims description 6
- KGNDVXPHQJMHLX-UHFFFAOYSA-N n-(3-trimethoxysilylpropyl)cyclohexanamine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNC1CCCCC1 KGNDVXPHQJMHLX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- UBVMBXTYMSRUDX-UHFFFAOYSA-N n-prop-2-enyl-3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNCC=C UBVMBXTYMSRUDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 claims description 6
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 claims description 6
- XCPMJJPLYOTMBF-UHFFFAOYSA-N 1-(methylamino)propane-1,2-diol Chemical compound CNC(O)C(C)O XCPMJJPLYOTMBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- ZYAASQNKCWTPKI-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]propan-1-amine Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCN ZYAASQNKCWTPKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N n'-(3-trimethoxysilylpropyl)ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNCCN PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- QHJABUZHRJTCAR-UHFFFAOYSA-N n'-methylpropane-1,3-diamine Chemical compound CNCCCN QHJABUZHRJTCAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- KBJFYLLAMSZSOG-UHFFFAOYSA-N n-(3-trimethoxysilylpropyl)aniline Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNC1=CC=CC=C1 KBJFYLLAMSZSOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- KJCVRFUGPWSIIH-UHFFFAOYSA-N 1-naphthol Chemical compound C1=CC=C2C(O)=CC=CC2=C1 KJCVRFUGPWSIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- DVYVMJLSUSGYMH-UHFFFAOYSA-N n-methyl-3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CNCCC[Si](OC)(OC)OC DVYVMJLSUSGYMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000001453 quaternary ammonium group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000003282 alkyl amino group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000005369 trialkoxysilyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 48
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 33
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 33
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 26
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 25
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 24
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 18
- 241001163841 Albugo ipomoeae-panduratae Species 0.000 description 14
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 14
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 13
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N iron(III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 13
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 13
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 12
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 12
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 11
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 9
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 9
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 8
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 8
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 7
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002585 base Substances 0.000 description 6
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 6
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 6
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 6
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 6
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 5
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 5
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 5
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 5
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 5
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 5
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N sulfuric acid Substances OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 5
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 4
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 4
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 4
- ZCDOYSPFYFSLEW-UHFFFAOYSA-N chromate(2-) Chemical compound [O-][Cr]([O-])(=O)=O ZCDOYSPFYFSLEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 4
- 239000013527 degreasing agent Substances 0.000 description 4
- 238000005237 degreasing agent Methods 0.000 description 4
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 4
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000000655 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 4
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 4
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 4
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 4
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MIJDSYMOBYNHOT-UHFFFAOYSA-N 2-(ethylamino)ethanol Chemical compound CCNCCO MIJDSYMOBYNHOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910001335 Galvanized steel Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000006683 Mannich reaction Methods 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- RWRDLPDLKQPQOW-UHFFFAOYSA-N Pyrrolidine Chemical compound C1CCNC1 RWRDLPDLKQPQOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 235000011054 acetic acid Nutrition 0.000 description 3
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 3
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 3
- 239000012459 cleaning agent Substances 0.000 description 3
- UAOMVDZJSHZZME-UHFFFAOYSA-N diisopropylamine Chemical compound CC(C)NC(C)C UAOMVDZJSHZZME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 239000008397 galvanized steel Substances 0.000 description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N methanone Chemical compound O=[14CH2] WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 3
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 3
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 3
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 3
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 3
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 3
- 125000000008 (C1-C10) alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- JESXATFQYMPTNL-UHFFFAOYSA-N 2-ethenylphenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1C=C JESXATFQYMPTNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N Dimethylamine Chemical compound CNC ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SIKJAQJRHWYJAI-UHFFFAOYSA-N Indole Chemical compound C1=CC=C2NC=CC2=C1 SIKJAQJRHWYJAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N Methylamine Chemical compound NC BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N Pyrrole Chemical compound C=1C=CNC=1 KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- FJMNNXLGOUYVHO-UHFFFAOYSA-N aluminum zinc Chemical compound [Al].[Zn] FJMNNXLGOUYVHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GZUXJHMPEANEGY-UHFFFAOYSA-N bromomethane Chemical compound BrC GZUXJHMPEANEGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- VAYGXNSJCAHWJZ-UHFFFAOYSA-N dimethyl sulfate Chemical compound COS(=O)(=O)OC VAYGXNSJCAHWJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N dimethylselenoniopropionate Natural products CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 2
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- 239000008098 formaldehyde solution Substances 0.000 description 2
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 2
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 2
- 125000001841 imino group Chemical group [H]N=* 0.000 description 2
- 239000005453 ketone based solvent Substances 0.000 description 2
- 239000011968 lewis acid catalyst Substances 0.000 description 2
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- ZCSHNCUQKCANBX-UHFFFAOYSA-N lithium diisopropylamide Chemical compound [Li+].CC(C)[N-]C(C)C ZCSHNCUQKCANBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RLSSMJSEOOYNOY-UHFFFAOYSA-N m-cresol Chemical compound CC1=CC=CC(O)=C1 RLSSMJSEOOYNOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 2
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 2
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- MQWFLKHKWJMCEN-UHFFFAOYSA-N n'-[3-[dimethoxy(methyl)silyl]propyl]ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCNCCN MQWFLKHKWJMCEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 2
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 2
- QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N o-cresol Chemical compound CC1=CC=CC=C1O QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 2
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 2
- IWDCLRJOBJJRNH-UHFFFAOYSA-N p-cresol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1 IWDCLRJOBJJRNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RZXMPPFPUUCRFN-UHFFFAOYSA-N p-toluidine Chemical compound CC1=CC=C(N)C=C1 RZXMPPFPUUCRFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 2
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 2
- HZXJVDYQRYYYOR-UHFFFAOYSA-K scandium(iii) trifluoromethanesulfonate Chemical compound [Sc+3].[O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F.[O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F.[O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F HZXJVDYQRYYYOR-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L sodium sulfite Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])=O GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 2
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002562 thickening agent Substances 0.000 description 2
- RGFDUEXNZLUZGH-YIYPIFLZSA-N (2r,3s,4r,5r)-2,3,4,5,6-pentahydroxy-n-(3-triethoxysilylpropyl)hexanamide Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCNC(=O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O)CO RGFDUEXNZLUZGH-YIYPIFLZSA-N 0.000 description 1
- NAWXUBYGYWOOIX-SFHVURJKSA-N (2s)-2-[[4-[2-(2,4-diaminoquinazolin-6-yl)ethyl]benzoyl]amino]-4-methylidenepentanedioic acid Chemical compound C1=CC2=NC(N)=NC(N)=C2C=C1CCC1=CC=C(C(=O)N[C@@H](CC(=C)C(O)=O)C(O)=O)C=C1 NAWXUBYGYWOOIX-SFHVURJKSA-N 0.000 description 1
- 125000000027 (C1-C10) alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- HOBIHBQJHORMMP-UHFFFAOYSA-N 1,3-bis(3-triethoxysilylpropyl)urea Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCNC(=O)NCCC[Si](OCC)(OCC)OCC HOBIHBQJHORMMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PKFHRDQMVBGXGO-UHFFFAOYSA-N 2,4-dinitro-n-(3-triethoxysilylpropyl)aniline Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCNC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1[N+]([O-])=O PKFHRDQMVBGXGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HMKRTGRSAPUQSG-UHFFFAOYSA-N 2-[bis(trimethoxysilyl)methoxy-dimethoxysilyl]ethenamine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C(O[Si](OC)(OC)C=CN)[Si](OC)(OC)OC HMKRTGRSAPUQSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000022 2-aminoethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])N([H])[H] 0.000 description 1
- CDAWCLOXVUBKRW-UHFFFAOYSA-N 2-aminophenol Chemical compound NC1=CC=CC=C1O CDAWCLOXVUBKRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 1
- LMWMTSCFTPQVCJ-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1.CC1=CC=CC=C1O LMWMTSCFTPQVCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- ZDZYGYFHTPFREM-UHFFFAOYSA-N 3-[3-aminopropyl(dimethoxy)silyl]oxypropan-1-amine Chemical compound NCCC[Si](OC)(OC)OCCCN ZDZYGYFHTPFREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SUKDLHIPTSZFPO-UHFFFAOYSA-N 3-[diethoxy(methyl)silyl]-n-[3-[diethoxy(methyl)silyl]propyl]propan-1-amine Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCNCCC[Si](C)(OCC)OCC SUKDLHIPTSZFPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GGZBCIDSFGUWRA-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]-n-methylpropan-1-amine Chemical compound CNCCC[Si](C)(OC)OC GGZBCIDSFGUWRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QZAIBYYLWJZCGH-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropyl carbamate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOC(N)=O QZAIBYYLWJZCGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTTNDYQVJLFCHW-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropyl n-tert-butylcarbamate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOC(=O)NC(C)(C)C CTTNDYQVJLFCHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVNLBBGBASVLLI-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropylurea Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCNC(N)=O LVNLBBGBASVLLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVACOMKKELLCHJ-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropylurea Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNC(N)=O LVACOMKKELLCHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001342 Bakelite® Polymers 0.000 description 1
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 1
- 125000006725 C1-C10 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N Epichlorohydrin Chemical compound ClCC1CO1 BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002873 Polyethylenimine Polymers 0.000 description 1
- KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N Sodium Chemical compound [Na] KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 1
- AKCXOKXVIWTINO-UHFFFAOYSA-N [2-hydroxy-3-(3-triethoxysilylpropylamino)propyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCNCC(O)COC(=O)C(C)=C AKCXOKXVIWTINO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PVLBXNICXUCXTA-UHFFFAOYSA-N [2-hydroxy-3-(3-triethoxysilylpropylamino)propyl] prop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCNCC(O)COC(=O)C=C PVLBXNICXUCXTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WYUIWUCVZCRTRH-UHFFFAOYSA-N [[[ethenyl(dimethyl)silyl]amino]-dimethylsilyl]ethene Chemical compound C=C[Si](C)(C)N[Si](C)(C)C=C WYUIWUCVZCRTRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 150000003973 alkyl amines Chemical class 0.000 description 1
- 150000001350 alkyl halides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 125000005577 anthracene group Chemical group 0.000 description 1
- 150000004982 aromatic amines Chemical class 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- AGEZXYOZHKGVCM-UHFFFAOYSA-N benzyl bromide Chemical compound BrCC1=CC=CC=C1 AGEZXYOZHKGVCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 239000004841 bisphenol A epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000010538 cationic polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N chlorotrimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)Cl IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 1
- 238000004581 coalescence Methods 0.000 description 1
- 239000010960 cold rolled steel Substances 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 150000008050 dialkyl sulfates Chemical class 0.000 description 1
- DENRZWYUOJLTMF-UHFFFAOYSA-N diethyl sulfate Chemical compound CCOS(=O)(=O)OCC DENRZWYUOJLTMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940008406 diethyl sulfate Drugs 0.000 description 1
- 229940043279 diisopropylamine Drugs 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000010292 electrical insulation Methods 0.000 description 1
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- UYMKPFRHYYNDTL-UHFFFAOYSA-N ethenamine Chemical compound NC=C UYMKPFRHYYNDTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- CWAFVXWRGIEBPL-UHFFFAOYSA-N ethoxysilane Chemical compound CCO[SiH3] CWAFVXWRGIEBPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005187 foaming Methods 0.000 description 1
- 238000007602 hot air drying Methods 0.000 description 1
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- PZOUSPYUWWUPPK-UHFFFAOYSA-N indole Natural products CC1=CC=CC2=C1C=CN2 PZOUSPYUWWUPPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RKJUIXBNRJVNHR-UHFFFAOYSA-N indolenine Natural products C1=CC=C2CC=NC2=C1 RKJUIXBNRJVNHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- INQOMBQAUSQDDS-UHFFFAOYSA-N iodomethane Chemical compound IC INQOMBQAUSQDDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- JJWLVOIRVHMVIS-UHFFFAOYSA-N isopropylamine Chemical compound CC(C)N JJWLVOIRVHMVIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005001 laminate film Substances 0.000 description 1
- WGJJZRVGLPOKQT-UHFFFAOYSA-K lanthanum(3+);trifluoromethanesulfonate Chemical compound [La+3].[O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F.[O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F.[O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F WGJJZRVGLPOKQT-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 229940102396 methyl bromide Drugs 0.000 description 1
- 125000000250 methylamino group Chemical group [H]N(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- INJVFBCDVXYHGQ-UHFFFAOYSA-N n'-(3-triethoxysilylpropyl)ethane-1,2-diamine Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCNCCN INJVFBCDVXYHGQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLBPOJLDZXHVRR-UHFFFAOYSA-N n'-[3-[diethoxy(methyl)silyl]propyl]ethane-1,2-diamine Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCNCCN YLBPOJLDZXHVRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HBELKEREKFGFNM-UHFFFAOYSA-N n'-[[4-(2-trimethoxysilylethyl)phenyl]methyl]ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCC1=CC=C(CNCCN)C=C1 HBELKEREKFGFNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NINOYJQVULROET-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethylethenamine Chemical group CN(C)C=C NINOYJQVULROET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIBWSLLLJZULCP-UHFFFAOYSA-N n-(3-triethoxysilylpropyl)aniline Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCNC1=CC=CC=C1 LIBWSLLLJZULCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XCOASYLMDUQBHW-UHFFFAOYSA-N n-(3-trimethoxysilylpropyl)butan-1-amine Chemical compound CCCCNCCC[Si](OC)(OC)OC XCOASYLMDUQBHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KOVKEDGZABFDPF-UHFFFAOYSA-N n-(triethoxysilylmethyl)aniline Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CNC1=CC=CC=C1 KOVKEDGZABFDPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NQKOSCFDFJKWOX-UHFFFAOYSA-N n-[3-[diethoxy(methyl)silyl]propyl]aniline Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCNC1=CC=CC=C1 NQKOSCFDFJKWOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YZPARGTXKUIJLJ-UHFFFAOYSA-N n-[3-[dimethoxy(methyl)silyl]propyl]aniline Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCNC1=CC=CC=C1 YZPARGTXKUIJLJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FRDNYWXDODPUJV-UHFFFAOYSA-N n-ethyl-2-methyl-3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CCNCC(C)C[Si](OC)(OC)OC FRDNYWXDODPUJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HGUZQMQXAHVIQC-UHFFFAOYSA-N n-methylethenamine Chemical group CNC=C HGUZQMQXAHVIQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- 238000012643 polycondensation polymerization Methods 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 230000003449 preventive effect Effects 0.000 description 1
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 1
- 235000019260 propionic acid Nutrition 0.000 description 1
- 125000002568 propynyl group Chemical group [*]C#CC([H])([H])[H] 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N quinbolone Chemical compound O([C@H]1CC[C@H]2[C@H]3[C@@H]([C@]4(C=CC(=O)C=C4CC3)C)CC[C@@]21C)C1=CCCC1 IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N 0.000 description 1
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 150000003335 secondary amines Chemical class 0.000 description 1
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 1
- 239000012312 sodium hydride Substances 0.000 description 1
- 229910000104 sodium hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000010265 sodium sulphite Nutrition 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- HIFJUMGIHIZEPX-UHFFFAOYSA-N sulfuric acid;sulfur trioxide Chemical compound O=S(=O)=O.OS(O)(=O)=O HIFJUMGIHIZEPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrachloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000013519 translation Methods 0.000 description 1
- ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N triflic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C(F)(F)F ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AHZJKOKFZJYCLG-UHFFFAOYSA-K trifluoromethanesulfonate;ytterbium(3+) Chemical compound [Yb+3].[O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F.[O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F.[O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F AHZJKOKFZJYCLG-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- JPJIEXKLJOWQQK-UHFFFAOYSA-K trifluoromethanesulfonate;yttrium(3+) Chemical compound [Y+3].[O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F.[O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F.[O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F JPJIEXKLJOWQQK-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- HQYALQRYBUJWDH-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(propyl)silane Chemical compound CCC[Si](OC)(OC)OC HQYALQRYBUJWDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003258 trimethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 125000005023 xylyl group Chemical group 0.000 description 1
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
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- C23C22/00—Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals
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- C08F12/14—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical containing one ring substituted by hetero atoms or groups containing heteroatoms
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- C08F12/02—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical
- C08F12/04—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical containing one ring
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- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
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- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
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Description
しかしながら、近年、更に用途を拡大するために加工性、接着性、耐薬品性等を一層向上させることが求められている。
例えば、フェノール性ヒドロキシ基を有する芳香族化合物と、ホルムアルデヒドと、第一級アミンまたは第二級アミンとのマンニッヒ反応により上記芳香族化合物の芳香環のヒドロキシ基のオルト位またはパラ位に置換基を導入して第二級または第三級アミノ基とフェノール性ヒドロキシ基とを有する芳香族化合物を合成する方法が知られている(例えば、特許文献1参照。)。
(1)アルコキシシリル基と、芳香環と、前記芳香環に直接結合しているヒドロキシ基とを有する水溶性の化合物(A)を含有する表面処理剤。
前記化合物(A)が、前記芳香環に直接結合していないヒドロキシ基を有する上記(1)〜(4)のいずれかに記載の表面処理剤。
前記化合物(A)が、重合体であり、前記芳香環に直接結合していないヒドロキシ基を前記化合物(A)の繰り返し単位当たり0.01〜4個有する上記(5)に記載の表面処理剤。
(2)前記化合物(A)が、第一級アミノ基、第二級アミノ基、第三級アミノ基および第四級アンモニウム基からなる群から選択される少なくとも1つのアミノ基を有する上記(1)に記載の表面処理剤。
(3)前記アルコキシシリル基が前記アミノ基の窒素原子に直接またはアルキレン基を介して結合している上記(2)に記載の表面処理剤。
(4)前記化合物(A)が、前記アルコキシシリル基を前記化合物(A)の繰り返し単位当たり0.01〜4個有する上記(1)〜(3)のいずれかに記載の表面処理剤。
(5)前記化合物(A)が、少なくとも1つのヒドロキシ基が芳香環に直接結合している芳香族化合物(a1)と、アミノシラン(a2)と、ホルムアルデヒドとの反応により得られる化合物である上記(1)〜(4)のいずれかに記載の表面処理剤。
(6)前記化合物(A)が、少なくとも1つのヒドロキシ基が芳香環に直接結合している芳香族化合物(a1)と、アミノシラン(a2)と、アミン化合物(a3)と、ホルムアルデヒドとの反応により得られる化合物である上記(1)〜(4)のいずれかに記載の表面処理剤。
(7)前記アミン化合物(a3)が下記式(1)で表される化合物である上記(6)に記載の表面処理剤。
(8)前記芳香族化合物(a1)が、フェノール、ビスフェノールA、p−ビニルフェノール、ナフトール、ノボラック樹脂、ポリビスフェノールA、ポリp−ビニルフェノールおよびフェノール−ナフタレン重縮合物からなる群から選択される少なくとも1種である上記(5)〜(7)のいずれかに記載の表面処理剤。
(9)前記アミノシラン(a2)が下記式(2)で表される化合物である上記(5)〜(8)のいずれかに記載の表面処理剤。
(11)前記化合物(A)の重量平均分子量が1,000〜500,000である上記(1)〜(10)のいずれかに記載の表面処理剤。
(12)更に、水を含有する上記(1)〜(11)のいずれかに記載の表面処理剤。
(14)下記式(4)で表される繰り返し単位を含む重合体からなる表面処理剤用化合物。
(16)ポリp−ビニルフェノールと、
γ−フェニルアミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−メチルアミノプロピルトリメトキシシラン、N−シクロヘキシルアミノプロピルトリメトキシシラン、ビス(トリメトキシシリル)アミンおよび3−(N−アリルアミノ)プロピルトリメトキシシランからなる群から選択される少なくとも1種のアミノシランと、
2−メチルアミノエタノール、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、メチルアミノ−1,2−プロパンジオール、N−メチル−1,3−プロパンジアミン、N−メチルアニリン、エチルアミン、ジエチルアミン、アリルアミン、ベンジルアミン、2−エチルアミノエタノールおよびモルホリンからなる群から選択される少なくとも1種のアミン化合物と、
ホルムアルデヒドとを有機溶媒中で反応させて得られる表面処理剤用化合物。
(17)前記ポリp−ビニルフェノール100質量部と、
前記アミノシラン1〜1200質量部と、
前記アミン化合物0.2〜360質量部と、
前記ホルムアルデヒド1.6〜140質量部とを有機溶媒中で反応させて得られる上記(16)に記載の表面処理剤用化合物。
(18)上記(16)または(17)に記載の表面処理剤用化合物を得る、表面処理剤用化合物の製造方法であって、
前記ポリp−ビニルフェノールと、前記アミノシランと、前記アミン化合物と、前記ホルムアルデヒドとを有機溶媒中で反応させて前記表面処理剤用化合物を得る、表面処理用化合物の製造方法。
また、本発明の金属材料は、金属基材と塗膜との密着性に優れ、耐食性および耐薬品性に優れる。
また、本発明の化合物は、本発明の表面処理剤に使用することができる。
また、本発明の化合物の製造方法は、本発明の化合物を製造することができる。
初めに、本発明の表面処理剤について説明する。
本発明の表面処理剤は、アルコキシシリル基と、芳香環と、上記芳香環に直接結合しているヒドロキシ基とを有する水溶性の化合物(A)を含有する表面処理剤である。
芳香環とフェノール性ヒドロキシ基とを有する化合物にアルコキシシリル基を導入することにより架橋点が増加し、その結果として本発明の表面処理剤の密着性、耐食性および耐薬品性が大きく向上すると考えられる。
上記アルコキシ基としては、炭素数1〜10のアルコキシ基が好ましく、メトキシ基またはエトキシ基がより好ましい。
上記アルコキシ基以外の上記アルコキシシリル基が有する基は、特に限定されないが、例えば、水素原子、炭素数1〜10のアルキル基等が好適に挙げられる。
上記アルコキシシリル基としては、具体的には、例えば、ジメチルメトキシシリル基、メチルジメトキシシリル基、トリメトキシシリル基、ジエチルエトキシシリル基、エチルジエトキシシリル基、トリエトキシシリル基等が挙げられる。
上記フェノール性ヒドロキシ基は、化合物(A)が有する芳香環に直接結合しているヒドロキシ基である。
化合物(A)は、芳香環が置換基を有する位置は特に限定されないが、芳香環のヒドロキシ基のオルト位および/またはパラ位が置換されたものであることが好ましい。
これらの他に、上記芳香族化合物(a1)として、フェノール−クレゾールノボラック共重合体、ビニルフェノール−スチレン共重合体等を用いることもできる。
また、上述した芳香族化合物(a1)を、エピクロルヒドリン等のハロエポキシド、酢酸等のカルボン酸類、エステル類、アミド類、トリメチルシリルクロリド等の有機シラン類、アルコール類、硫酸ジメチル等のアルキル化物等により変性したものを用いることもできる。
これらの芳香族化合物(a1)は、単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
上記ポリp−ビニルフェノールとして、ビニルフェノールを公知の重合方法により重合したものを用いてもよく、市販品を用いてもよい。市販品としては、丸善石油化学社製のマルカリンカーが挙げられる。
上記アルキル基としては、炭素数1〜10のアルキル基が好適に挙げられ、より好ましくはメチル基、エチル基、i−プロピル基、t−ブチル基が挙げられる。
上記アルケニル基としては、炭素数1〜10のアルケニル基が好適に挙げられ、より好ましくはアリル基が挙げられる。
上記アルキニル基としては、炭素数1〜10のアルキニル基が好適に挙げられ、より好ましくはプロピニル基が挙げられる。
上記アリール基としては、炭素数1〜10のアリール基が好適に挙げられ、より好ましくは、フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基が好適に挙げられ、より好ましくはフェニル基が挙げられる。
上記ヒドロキシアルキル基としては、炭素数1〜10のヒドロキシアルキル基が好適に挙げられ、より好ましくは2−ヒドロキシエチル基が挙げられる。
上記ジヒドロキシアルキル基としては、炭素数1〜10のジヒドロキシアルキル基が好適に挙げられ、より好ましくはビス(ヒドロキシエチル)基が挙げられる。
上記トリヒドロキシアルキル基としては、炭素数1〜10のトリヒドロキシアルキル基が好適に挙げられ、より好ましくはトリス(ヒドロキシエチル)基が挙げられる。
上記アミノアルキル基としては、炭素数1〜10のアミノアルキル基が好適に挙げられ、より好ましくはアミノエチル基が挙げられる。
上記アルキルアミノアルキル基としては、炭素数1〜10のアルキルアミノアルキル基が好適に挙げられ、より好ましくは2−メチルアミノエチレンが挙げられる。
上記ジアルキルアミノアルキル基としては、炭素数1〜10のジアルキルアミノアルキル基が好適に挙げられ、より好ましくはジメチルアミノエチレンが挙げられる。
上記アルキルカルボニル基としては、炭素数1〜10のアルキルカルボニル基が好適に挙げられ、より好ましくはアセチル基が挙げられる。
上記式(2)中、nは、1〜3の整数であり、2〜3の整数であるのが好ましく、3であるのがより好ましい。
上記式(2)中、mは、1〜3の整数であるのが好ましく、2または3であるのがより好ましく、3であるのが更に好ましい。
これらの中でも、γ−フェニルアミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−メチルアミノプロピルトリメトキシシラン、N−シクロヘキシルアミノプロピルトリメトキシシラン、ビス(トリメトキシシリル)アミンおよび3−(N−アリルアミノ)プロピルトリメトキシシランからなる群から選択される少なくとも1種のアミノシランが好ましい。
なお、上記アミン化合物(a3)は、上記アミノシラン(a2)と同一であってもよい。
これらの中でも、2−メチルアミノエタノール、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、メチルアミノ−1,2−プロパンジオール、N−メチル−1,3−プロパンジアミン、N−メチルアニリン、エチルアミン、ジエチルアミン、アリルアミン、ベンジルアミン、2−エチルアミノエタノールおよびモルホリンからなる群から選択される少なくとも1種のアミン化合物が好ましい。
上記溶媒としては、反応に関与しないものであれば特に限定されないが、例えば、水;メタノール、エタノール等のアルコール;テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン等のエーテル;ジクロロメタン、クロロホルム等のハロゲン溶媒;アセトン等のケトン系溶媒等が挙げられる。
R7は単結合またはアルキレン基であり、炭素数1〜10のアルキレン基であるのが好ましく、トリメチレン基(−(CH2)3−)であるのがより好ましい。R7が単結合である場合は、R7が存在せず窒素原子とケイ素原子が直接結合していることになる。
R8およびR9は、それぞれ、アルキル基であり、炭素数1〜10のアルキル基であるのが好ましく、メチル基、エチル基であるのがより好ましい。複数のR8およびR9はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。
R10およびR11は、それぞれ、上記式(2)のR3と同様であるが、R10およびR11は互いに結合してモルホリノ基を形成していてもよい。
pは1〜3の整数であり、2または3であるのが好ましく、3であるのがより好ましい。
上記重合体は、上記式(3)〜(9)のいずれかで表される繰り返し単位以外の繰り返し単位を更に含んでいてもよい。
本発明の第1態様の化合物は、上記式(4)および(10)〜(14)のいずれかで表される繰り返し単位以外の繰り返し単位を更に含んでいてもよい。
本発明の第2態様の化合物は、いわゆるマンニッヒ反応により、ポリp−ビニルフェノールが有する芳香環のヒドロキシ基のオルト位に、ホルムアルデヒド由来のメチレン基を介してアミノ基が結合した構造であると考えられる。
本発明の第2態様の化合物は、芳香環が置換基を有する位置は特に限定されないが、フェノール性ヒドロキシ基のオルト位が置換されたものであることが好ましい。
上記反応における上記アミン化合物の使用量は、ポリp−ビニルフェノール100質量部に対して、0.2〜360質量部が好ましく、0.4〜270質量部がより好ましく、0.6〜180質量部が更に好ましい。
上記反応におけるホルムアルデヒドの使用量は、ポリp−ビニルフェノール100質量部に対して、0.3〜300質量部が好ましく、0.6〜200質量部がより好ましく、0.9〜150質量部が更に好ましい。
上記酸触媒としては、具体的には、例えば、塩酸、塩化水素ガス、硫酸、発煙硫酸、硝酸、濃硝酸、リン酸等の無機酸;p−トルエンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、ギ酸、酢酸等の有機酸等が挙げられる。
上記塩基触媒としては、具体的には、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水素化ナトリウム、ピリジン、トリエチルアミン、リチウムジイソプロピルアミド等が挙げられる。
上記ルイス酸触媒としては、具体的には、例えば、塩化アルミニウム、塩化チタン、トリフルオロメタンスルホン酸ランタニウム、トリフルオロメタンスルホン酸スカンジウム、トリフルオロメタンスルホン酸イットリビウム等が挙げられる。
本発明の第2態様の化合物の製造方法においては上述したように触媒が反応効率に影響を与えるが、反応温度も反応効率に影響を与える。具体的には、低い反応温度であると比較的長い反応時間を要し、高い反応温度であると比較的短時間にて製造が可能である。ただし、反応温度が高すぎる場合、目的生成物に悪影響を与えたり、目的の反応以外の反応を促進させる場合がある。
まず、ポリp−ビニルフェノールと上記有機溶媒とを混合して十分に溶解させる。
次に、この混合液に、上記アミン化合物、上記アミノシラン、ホルムアルデヒドおよび必要に応じて上記触媒を室温にて順次撹拌しながら滴下して加える。この混合液を80℃に加温して24時間撹拌後、本発明の化合物を得ることができる。
ここで、上記アミノシラン、上記アミン化合物、ホルムアルデヒドおよび上記触媒を加える順序は、特に限定されないが、上記アミノシランおよび上記アミン化合物を加えた後にホルムアルデヒドを加えるのが好ましい。上記触媒はホルムアルデヒド添加後に加えるのが好ましい。
水の含有量は特に限定されないが、本発明の処理剤においては、上記化合物(A)の含有量が1〜70質量%であるのが好ましく、2〜60質量%であるのがより好ましく、3〜50質量%であるのが更に好ましい。この範囲であると、取扱い性に優れる。
上記四級化剤としては、例えば、リン酸、塩酸、硫酸等の無機酸;ギ酸、酢酸、プロピオン酸等の有機酸;酸性度の小さいアルコール類;硫酸ジメチル、硫酸ジエチル等の硫酸ジアルキル;メチルクロリド、メチルブロミド、ヨウ化メチル、ベンジルブロミド等のハロゲン化アルキル等が挙げられる。これらは、単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
上記金属化合物および上記有機化合物は、防錆性を付与することができる。
上記シランカップリング剤、上記有機架橋剤および上記無機架橋剤は、接着性を向上できる。
上記水溶性樹脂および上記水分散性樹脂は、柔軟性を付与またはバリアー性を向上できる。
上記水分散性シリカ、上記気相シリカおよび上記金属酸化物は、バインダーとして用いることができる。
上記導電性化合物は、溶接性を向上できる。
上記着色顔料は、意匠性を向上することができる。
上記増粘剤は、液の粘度を変えて皮膜量の調整を行うことができる。
したがって、本発明の表面処理剤は、金属の表面処理剤として有用である。
本発明の金属材料は、金属基材と、上記金属基材の表面に本発明の表面処理剤を用いて表面処理して形成された表面処理被膜層とを有する金属材料である。
上記金属基材は、洗浄後、必要に応じて、酸、アルカリ等による表面調整されていてもよい。
金属基材表面の洗浄においては洗浄剤が金属基材表面になるべく残留しないように洗浄剤を用いて洗浄した後に水洗いすることが好ましい。
塗布方法は、特に限定されず、例えば、ロールコート、カーテンフローコート、エアースプレー、エアーレススプレー、浸漬、バーコート、刷毛塗り等の通常の塗布方法を採用することができる。
表面処理剤の温度は、特に限定されないが、0〜60℃であるのが好ましく、5〜40℃であるのがより好ましい。
本発明の表面処理剤と上記金属基材との接触時間は、特に限定されないが、0.2〜10秒であることが好ましく、0.5〜5秒であることがより好ましい。接触時間がこの範囲であれば、表面処理剤が金属基材の表面と十分に反応でき、耐食性に優れた表面処理被膜層を得ることができ、更にラインにおける生産性も良好である。
ここで、本発明の表面処理剤と上記金属基材との接触時間とは、浸漬法では上記金属基材が本発明の表面処理剤に浸漬されている時間を意味し、スプレー法では本発明の表面処理剤を上記金属基材にスプレーで吹き付けている時間を意味する。
スプレー法により表面処理を行う場合、本発明の表面処理剤に消泡剤を添加することが好ましい。消泡剤としては、塗装密着性を損なうようなものでなければ特に制限されず公知のものを用いることができる。
上記塗膜の形成方法としては、プレコート鋼板に対して一般的に用いる塗装方法が挙げられる。例えば、上記表面処理被膜層の表面にノンクロメートプライマーを塗布して乾燥した後、プライマー塗布面にトップコートを塗布して塗膜を形成する方法;上記表面処理被膜層の表面にプライマーを使用せずに直接トップコートを塗布して塗膜を形成する方法;上記表面処理被膜層の表面にラミネートフィルムを貼付する方法等が挙げられる。
撹拌機のついた反応装置(1Lセパラブルフラスコ)に、下記第1表に示す芳香族化合物100質量部と、下記第1表に示す量(質量部)の有機溶媒とを入れ、十分に溶解させた。この混合液に下記第1表に示すアミン化合物、アミノシラン、36質量%ホルムアルデヒド液、触媒を下記第1表に示す量(質量部)室温にて順次滴下して加えた後、80℃にて24時間撹拌を行った。24時間撹拌後、亜硫酸ナトリウムを加えて系内に存在する未反応ホルムアルデヒドを滴定して反応率を求め、ほぼ定量的に反応が進行していることを確認した。
図1は合成例1の化合物の1H−核磁気共鳴スペクトルを示し、図2は合成例1の化合物の赤外吸収スペクトルを示す。
1H−核磁気共鳴スペクトル[D2O、δ(ppm)]:0.2−0.6(br,0.3H),0.7−1.9(br,2.2H),2.2−2.8(br,4.6H),2.8−3.45(br,3.4H),3.6−3.95(br,3.1H),4.1−4.4(br,0.7H),6.2−7.2(br,2.7H),7.2−7.5(br,1.0H)
赤外吸収スペクトル[ν(cm-1)]:3419,3049,2956,2881,2841,1601,1498,1468,1367,1254,1115,1076,1028,879,823,750,694,663,606,453
GPC[使用カラム Shodex GPC KF−802+802.5(昭和電工社製)、温度 40℃、移動相 THF、流量 1.0ml/min、試料注入量 50μl]:重量平均分子量(Mw)3262、数平均分子量(Mn)832、分子量分布(Mw/Mn)3.9184
撹拌機のついた反応装置(1Lセパラブルフラスコ)に、下記第1表に示す芳香族化合物100質量部と、下記第1表に示す量(質量部)の有機溶媒とを入れ、十分に溶解させた。この混合液に下記第1表に示すアミン化合物、36質量%ホルムアルデヒド液を下記第1表に示す量(質量部)室温にて順次滴下して加えた後、50℃で3時間撹拌し、更に80℃で2時間撹拌を行った。
その後、水を加えてポリマー成分のみを沈降ろ過して精製を行い、参考例1〜3の各化合物を得た。
・芳香族化合物(a1−1):ポリp−ビニルフェノール、マルカーリンカー、丸善石油化学社製
・芳香族化合物(a1−2):ノボラック樹脂、スミライトレジンPR、住友ベークライト社製
・芳香族化合物(a1−3):ポリビスフェノールA、ビスフェノールFM、三井化学社製
・芳香族化合物(a1−4):フェノール−ナフタレン縮重合物、エスキッドA011SV、新日鐵化学社製
・アミノシラン(a2−1):γ−フェニルアミノプロピルトリメトキシシラン
・アミノシラン(a2−2):γ−アミノプロピルトリエトキシシラン
・アミノシラン(a2−3):2−アミノエチル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン
・アミノシラン(a2−4):γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン
・アミノシラン(a2−5):N−メチルアミノプロピルトリメトキシシラン、アズマックス社製
・アミノシラン(a2−6):N−シクロヘキシルアミノプロピルトリメトキシシラン、アズマックス社製
・アミノシラン(a2−7):ビス(トリメトキシシリル)アミン、アズマックス社製
・アミノシラン(a2−8):3−(N−アリルアミノ)プロピルトリメトキシシラン、アズマックス社製
・アミン化合物(a3−2):モノエタノールアミン、BASF社製
・アミン化合物(a3−3):ジエタノールアミン、BASF社製
・アミン化合物(a3−4):メチルアミノ−1,2−プロパンジオール、関東化学社製
・アミン化合物(a3−5):N−メチル−1,3−プロパンジアミン、和光純薬社製
・アミン化合物(a3−6):N−メチルアニリン、純正化学社製
・アミン化合物(a3−7):エチルアミン、純正化学社製
・アミン化合物(a3−8):ジエチルアミン、関東化学社製
・アミン化合物(a3−9):アリルアミン、東京化成社製
・アミン化合物(a3−10):ベンジルアミン、純正化学社製
・アミン化合物(a3−11):2−エチルアミノエタノール、関東化学社製
・アミン化合物(a3−12):モルホリン、純正化学社製
・触媒2:トリフルオロメタンスルホン酸イッテリビウム
・有機溶媒1:1,4−ジオキサン
・有機溶媒2:エタノール
・有機溶媒3:2−ブトキシエタノール
上記第1表に示す合成例1〜102の化合物または参考例1〜3の化合物100質量部に、水900質量部および75質量%リン酸水溶液40質量部を加えて、十分に混合して、実施例1〜102および比較例1〜3の各表面処理剤を得た。なお、合成例1〜102の化合物および参考例1〜3の化合物は、いずれも水に溶解することができた。
また、オルトアミノフェノール100質量部に、水900質量部および75質量%リン酸水溶液40質量部を加えて、十分に混合して、比較例4の表面処理剤を得た。
3−1.基材の種類
下記の3種類の鋼板を用いた。
・電気亜鉛めっき鋼板(以下「EG材」または「EG」という。):板厚0.6mm、めっき付着量片面当たり20g/m2(両面めっき)
・溶融亜鉛めっき鋼板(以下「GI材」または「GI」という。):板厚0.6mm、亜鉛付着量片面当たり50g/m2(両面めっき)
・アルミ−亜鉛合金めっき鋼板(以下「GL材」または「GL」という。):板厚0.6mm、めっき付着量片面当たり50g/m2(両面めっき)
アルカリ脱脂剤(CL−N364S、日本パ−カライジング社製)を濃度20g/L、温度60℃の水溶液とし、この水溶液に上記各鋼板を10秒間浸漬して脱脂を行い、純水で水洗した後乾燥した。
前処理後の各鋼板の表面(片面)に、各表面処理剤を、プレコート鋼板(PCM)用としてはロールコーターを用いて乾燥皮膜量が100mg/m2となるように塗布し、一時防錆用としてはロールコーターを用いて乾燥皮膜重量が500mg/m2となるように塗布した後、熱風乾燥炉内で80℃で30秒乾燥を行った。
上記で得られた各表面処理鋼板の処理表面上に、下記第2表に示すプライマーおよびトップコート(F1またはF2)を施して、試験体とした。
F1:上記で得られた各表面処理板の処理表面上に、プライマー(Vニット#200、大日本塗料社製)を塗布(膜厚5.5μm)して200℃で焼き付けした後、更にトップコート(Vニット#500、大日本塗料社製)を塗布(膜厚17μm)して220℃で焼き付けを行った。
F2:上記で得られた各表面処理板の処理表面上に、プライマー(フレキコート 600、日本ペイント社製)を塗布(膜厚5.5μm)して200℃で焼き付けした後、更にトップコート(フレキコート5030、日本ペイント社製)を塗布(膜厚7μm)して220℃で焼き付けを行った。
得られた試験体について下記の方法により耐食性、密着性および耐薬品性を評価した。
結果を下記第2表に示す。
得られた各試験体(PCM)の塗膜に金属素地に達するようにカッターでクロスカットを入れ、JIS Z2371−2000に規定された塩水噴霧試験を480時間実施し、試験後のカット部からの塗膜膨れ幅(片側最大値)および端面からの塗膜膨れ幅(最大値)を測定した。
評価基準は下記のとおりである。
<評価基準−クロスカット部>
◎:2mm未満
○:2mm以上5mm未満
△:5mm以上10mm未満
×:10mm以上
<評価基準−端部>
◎:4mm未満
○:4mm以上8mm未満
△:8mm以上12mm未満
×:12mm以上
4−2−1.1次折り曲げ密着性
JIS G3312−2005の試験法に準じて、各試験体(PCM)に対し20℃における折り曲げ内側間隔板2枚の2T折り曲げ試験を行い、テープ剥離後の剥離状態を観察した。
4−2−2.2次折り曲げ密着性
各試験体(PCM)を沸水中に2時間浸漬した後、1日放置したものを試験体とした以外は、上記1次折り曲げ密着性と同様の方法で試験を行った。
評価基準は下記のとおりである。
<評価基準−1次および2次折り曲げ密着性>
◎:剥離なし
○:剥離面積10%未満
□:剥離面積10%以上50%未満
△:剥離面積50%以上80%未満
×:剥離面積80%以上
4−3−1.平面部耐食性
得られた各試験体(一時防錆用)の塗膜に金属素地に達するようにカッターでクロスカットを入れたものをJIS Z2371−2000に規定された塩水噴霧試験を72時間実施し、白錆発生面積を求めた。
評価基準は下記のとおりである。
<評価基準>
◎:白錆発生面積5%未満
○:白錆発生面積5%以上10%未満
△:白錆発生面積10%以上30%未満
×:白錆発生面積30%以上50%未満
××:白錆発生面積50%以上
得られた各試験体(一時防錆用)をエリクセン7mm押し出し加工したものについて、JIS Z2371−2000に規定された塩水噴霧試験を72時間実施し、白錆発生状況を目視で観察した。
評価基準は下記のとおりである。
<評価基準>
◎:ほとんど錆なし
○:加工部に白錆が発生していない部分が多い
△:加工部の全てが白錆になっているが、流れ錆なし
×:加工部から流れ錆が発生
4−4−1.耐アルカリ性
アルカリ脱脂剤(パルクリーン364S、日本パーカライジング社製)を濃度20g/L、温度65℃にした水溶液を、得られた試験体(一時防錆用)に5分間スプレーした後、水洗し、80℃で乾燥した。この試験体について上記(4−3−1.平面部耐食性)と同様の方法により耐食性を評価した。
4−4−2.耐酸性
硫酸を1.0g/L、温度25℃にした水溶液に、得られた試験体(一時防錆用)を10秒浸漬した後、水洗し、80℃で乾燥した。この試験体について上記(4−3−1.平面部耐食性)と同様の方法により耐食性を評価した。
<評価基準−耐アルカリ性および耐酸性>
◎:白錆発生面積5%未満
○:白錆発生面積5%以上10%未満
△:白錆発生面積10%以上30%未満
×:白錆発生面積30%以上50%未満
××:白錆発生面積50%以上
一方、実験例1〜116は、基材の種類に関わらず、耐食性(端部)および耐食性(クロスカット部)、1次折り曲げ密着性および2次折り曲げ密着性、平面部耐食性、耐アルカリ性および耐酸性ならびに加工部耐食性が優れていた。
Claims (18)
- アルコキシシリル基と、芳香環と、前記芳香環に直接結合しているヒドロキシ基と、前記芳香環に直接結合していないヒドロキシ基とを有する重合体であり、前記芳香環に直接結合していないヒドロキシ基を繰返し単位当たり0.01〜4個有する水溶性の化合物(A)を含有する表面処理剤。
- 前記化合物(A)が、第一級アミノ基、第二級アミノ基、第三級アミノ基および第四級アンモニウム基からなる群から選択される少なくとも1つのアミノ基を有する請求項1に記載の表面処理剤。
- 前記アルコキシシリル基が前記アミノ基の窒素原子に直接またはアルキレン基を介して結合している請求項2に記載の表面処理剤。
- 前記化合物(A)が、前記アルコキシシリル基を前記化合物(A)の繰り返し単位当たり0.01〜4個有する請求項1〜3のいずれかに記載の表面処理剤。
- 前記化合物(A)が、少なくとも1つのヒドロキシ基が芳香環に直接結合している芳香族化合物(a1)と、アミノシラン(a2)と、ホルムアルデヒドとの反応により得られる化合物である請求項1〜4のいずれかに記載の表面処理剤。
- 前記化合物(A)が、少なくとも1つのヒドロキシ基が芳香環に直接結合している芳香族化合物(a1)と、アミノシラン(a2)と、アミン化合物(a3)と、ホルムアルデヒドとの反応により得られる化合物である請求項1〜4のいずれかに記載の表面処理剤。
- 前記アミン化合物(a3)が下記式(1)で表される化合物である請求項6に記載の表面処理剤。
- 前記芳香族化合物(a1)が、フェノール、ビスフェノールA、p−ビニルフェノール、ナフトール、ノボラック樹脂、ポリビスフェノールA、ポリp−ビニルフェノールおよびフェノール−ナフタレン重縮合物からなる群から選択される少なくとも1種である請求項5〜7のいずれかに記載の表面処理剤。
- 前記アミノシラン(a2)が下記式(2)で表される化合物である請求項5〜8のいずれかに記載の表面処理剤。
- 前記化合物(A)が下記式(3)で表される繰り返し単位を含む重合体である請求項3に記載の表面処理剤。
- 前記化合物(A)の重量平均分子量が1,000〜500,000である請求項1〜10のいずれかに記載の表面処理剤。
- 更に、水を含有する請求項1〜11のいずれかに記載の表面処理剤。
- 金属基材と、前記金属基材の表面に請求項1〜12のいずれかに記載の表面処理剤を用いて表面処理して形成された表面処理被膜層とを有する金属材料。
- 下記式(4)で表される繰り返し単位を含む重合体からなる表面処理剤用化合物。
- 重量平均分子量が1,000〜500,000である請求項14に記載の表面処理剤用化合物。
- ポリp−ビニルフェノールと、
γ−フェニルアミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−メチルアミノプロピルトリメトキシシラン、N−シクロヘキシルアミノプロピルトリメトキシシラン、ビス(トリメトキシシリル)アミンおよび3−(N−アリルアミノ)プロピルトリメトキシシランからなる群から選択される少なくとも1種のアミノシランと、
2−メチルアミノエタノール、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、メチルアミノ−1,2−プロパンジオール、N−メチル−1,3−プロパンジアミン、N−メチルアニリン、エチルアミン、ジエチルアミン、アリルアミン、ベンジルアミン、2−エチルアミノエタノールおよびモルホリンからなる群から選択される少なくとも1種のアミン化合物と、
ホルムアルデヒドとを有機溶媒中で反応させて得られる表面処理剤用化合物。 - 前記ポリp−ビニルフェノール100質量部と、
前記アミノシラン1〜1200質量部と、
前記アミン化合物0.2〜360質量部と、
前記ホルムアルデヒド1.6〜140質量部とを有機溶媒中で反応させて得られる請求項16に記載の表面処理剤用化合物。 - 請求項16または17に記載の表面処理剤用化合物を得る、表面処理剤用化合物の製造方法であって、
前記ポリp−ビニルフェノールと、前記アミノシランと、前記アミン化合物と、前記ホルムアルデヒドとを有機溶媒中で反応させて前記表面処理剤用化合物を得る、表面処理剤用化合物の製造方法。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
PCT/JP2006/323545 WO2008065696A1 (fr) | 2006-11-27 | 2006-11-27 | Agent de traitement de surface, matériau métallique traité par lui, et ses nouveaux composés et procédés d'obtention |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2008065696A1 JPWO2008065696A1 (ja) | 2010-03-04 |
JP4934677B2 true JP4934677B2 (ja) | 2012-05-16 |
Family
ID=39467500
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008546838A Active JP4934677B2 (ja) | 2006-11-27 | 2006-11-27 | 表面処理剤およびそれを用いた金属材料ならびに新規化合物およびその製造方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4934677B2 (ja) |
KR (1) | KR101152564B1 (ja) |
CN (1) | CN101622377B (ja) |
WO (1) | WO2008065696A1 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009280887A (ja) * | 2008-05-26 | 2009-12-03 | Nippon Parkerizing Co Ltd | 金属表面処理剤、金属材料の表面処理方法および表面処理金属材料 |
JP2009280888A (ja) * | 2008-05-26 | 2009-12-03 | Nippon Parkerizing Co Ltd | 表面化成処理液、化成処理金属板およびその製造方法、ならびに上層被覆金属板およびその製造方法 |
CN105143513A (zh) * | 2013-04-22 | 2015-12-09 | 日本帕卡濑精株式会社 | 涂装钢板用基底处理组合物、以及进行了基底处理的镀覆钢板及其制造方法、涂装镀覆钢板及其制造方法 |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10400078B2 (en) | 2015-09-25 | 2019-09-03 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Surface treatment liquid |
CN105925971B (zh) * | 2016-06-14 | 2018-02-27 | 中山市东升镇威尔特表面技术厂 | 环保型皮膜剂 |
KR102525723B1 (ko) | 2017-12-27 | 2023-04-26 | 니혼 파커라이징 가부시키가이샤 | 금속 재료용 표면 처리제, 그리고 표면 처리 피막을 갖는 금속 재료 및 그 제조 방법 |
JP2020094258A (ja) * | 2018-12-14 | 2020-06-18 | 日本パーカライジング株式会社 | 表面処理剤及びその利用 |
CN112341888B (zh) * | 2020-11-30 | 2021-10-15 | 江苏科技大学 | 一种金属锈层处理涂料组合物及其制备方法和应用 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001329379A (ja) * | 2000-05-17 | 2001-11-27 | Nippon Parkerizing Co Ltd | 金属表面処理剤、金属材料の表面処理方法及び表面処理金属材料 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5242714A (en) * | 1991-12-20 | 1993-09-07 | Henkel Corporation | Process for forming protective base coatings on metals |
JP3463910B2 (ja) * | 1997-04-22 | 2003-11-05 | 旭有機材工業株式会社 | マンニッヒ系ポリオールの製造方法 |
TW574353B (en) * | 2000-01-17 | 2004-02-01 | Nihon Parkerizing | Agents, liquid compositions and process for hydrophilization |
JP5099732B2 (ja) * | 2001-04-24 | 2012-12-19 | Jx日鉱日石金属株式会社 | 水系金属表面処理剤 |
-
2006
- 2006-11-27 JP JP2008546838A patent/JP4934677B2/ja active Active
- 2006-11-27 WO PCT/JP2006/323545 patent/WO2008065696A1/ja active Application Filing
- 2006-11-27 CN CN2006800564741A patent/CN101622377B/zh active Active
- 2006-11-27 KR KR1020097010463A patent/KR101152564B1/ko active IP Right Grant
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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CN105143513B (zh) * | 2013-04-22 | 2017-08-18 | 日本帕卡濑精株式会社 | 涂装钢板用基底处理组合物、以及进行了基底处理的镀覆钢板及其制造方法、涂装镀覆钢板及其制造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPWO2008065696A1 (ja) | 2010-03-04 |
CN101622377B (zh) | 2012-01-04 |
WO2008065696A1 (fr) | 2008-06-05 |
CN101622377A (zh) | 2010-01-06 |
KR20090087000A (ko) | 2009-08-14 |
KR101152564B1 (ko) | 2012-06-04 |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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R250 | Receipt of annual fees |
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