JP4928541B2 - 統計的に繰返し可能な応答時間を有する多用途半導体製造コントローラ - Google Patents
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Description
歴史的に、工場においては、ホスト・システムは、メインフレーム、小型コンピュータ又はワークステーション上で動作する。ホスト・システムは、典型的に、工場における全ての又は多くの組のツールを制御し及び監視するモノリシックのものであった。ホスト・システムは、ツール及びセンサとインターフェースするためのアダプタに頼っていた。ホスト・システムは、典型的に、ツール及びセンサからデータを受信し、ツールに制御命令を発行するものであった。ホスト・システムは、しばしば、大量のシリアル通信メッセージを受信し、生成していた。
ここで開示される手法は、プロセスI/Oコントローラを使用する。プロセスI/Oコントローラは、プロセス・チャンバ又は他の半導体製造プロセス・デバイスを制御する信号を送信し及び受信する。
プロセスI/Oコントローラは、センサから収集されたデータをデータ・ユーザに通信する。データ・ユーザは、メインフレーム上で動作する従来のツール・ホストであってもよいし、分散型プロセッサ上で動作する新しいソフトウェアであってもよい。データ・ユーザは、モノリシック・システム、又は、独立して又は協働して動作する連合したパッケージであってもよい。プロセスI/Oコントローラはまた、センサからのデータを監視し、関心ある事象を識別し、既に収集されたさらなるデータを要求し、又は監視されたデータに応答してセンサのための収集プランを変更することができる。
図1は、本発明の態様が特に有用な環境を示す。これは、プロセス・チャンバ125、プロセス・チャンバとの間の種々の入力及び出力、それに加えて、センサ、制御チャネル及びコントローラを示す。チャンバ125は、堆積、クリーニング、エッチング、注入、灰化などのような種々の反応のために用いられてもよい。この図面には示されていない他のタイプのツールもまた、本発明の態様から有益である。
インターネットを介して潜在的にアクセス可能な工場ネットワーク111、仮想プライベート・ネットワーク又は広域ネットワーク112は、コントローラ、ファイアウォール、又は他のコネクタ162を通るツール・ネットワーク112への制御されたアクセスを有する。この図面におけるツール・ネットワークは、プロセス・チャンバ125に影響を及ぼす制御部及びセンサをリングに接続するように示されている。このアーキテクチャは単なる例示であり、工場においてはリングよりもシリアル通信、イーサネット、又は層状通信が用いられる可能性が高いことを当業者であれば理解するであろう。
図3は、ツール、センサ、及び、ツール・ホスト又は中央のマスターコントローラに結合された通信コーディネータのブロック図である。この通信コーディネータの構成は、2つのSEC/GEMインターフェース・ポート312、316と2つのネットワーク・インターフェース・ポート332、336とを含む。コントローラは、SECS MUX315を含むSECSプロトコルを介して通信するために論理及びリソースを含む。コントローラはさらに、データ・ユーザと通信するための工場側インターフェース334と、ツール、センサ及び機器と通信するためのツール側インターフェース335とを実装する論理及びリソースを含む。SECS MUX315及びインターフェース334、335は、データ・コレクション及び出版リソース325に論理的に接続される。通信コーディネータの工場側では、従来のツール・ホスト311を、SECS−I、HSMS又はSECSのその後の改訂版又はSECSへの後続版のいずれかであるSECS準拠通信チャネルを介して接続する312ことができる。本発明を適用しても良い非工場環境では、医療ツール又は数値制御工作ツールといった、監視されているツールと接続するために、他のプロトコルを用いることができる。ネットワーク322によって搬送されるSECSとは別個の工場側プロトコルを介して、ストレージ331及び報告321リソースに接続することもできる。通信コーディネータのツール及びセンサ側では、ツール又はツール・クラスタへのSEC/GEMツール・インターフェース317を接続する316ことができる。コントローラはまた、センサ327、機器337及び潜在的にツール317を含む他のデバイスをホストするネットワーク326に接続する336ことができる。この図面は、ネットワークを介してセンサに接続されているコントローラを示すが、SECS−I又はセンサに接続するための別のシリアル・ベースのプロトコルを代替的に用いることができる。図3を紹介すると、プロセスI/Oコントローラは、ツール・インターフェース316と機器インターフェース336との両方を取り扱うために導入されてもよい。プロセスI/Oコントローラは、通信コーディネータと置換されてもよい。
第1のプロセスI/Oコントローラの実装は、前の製品に用いられた3U「ユーロ・カード」形状因子に基づくものである。それは、CANバス上で単純化された高性能プロトコルを用いるように修正されている既存の離散型アナログI/Oカードを再使用する。2つのイーサネット・ポート(レイヤ2スイッチ・ファブリックに相互接続された)を実装し、プロセスI/Oコントローラ・ソフトウェア要素をサポートする、付加的な3Uカードが付加される。一実施形態においては、それは実際のI/O点にアクセスするためにCANバス上の専有プロトコルを使用する。この実装はモジュラであり、単一のカードケージに16までのI/Oカードをサポートする。システムは、利用可能なカードスロット毎にどのI/Oカードがインストールされたかを自動的に検出し、自動的に検出された構成を反映するように全てのソフトウェア要素(制御及びデータ・コレクション)を構成する。
遠隔I/Oユニットは、大きなカスタム・バージョンで提供されるときには、より競争力のある価格がつけられたものとすることができる。モジュール性を無くすと、ハードウェア・コンポーネントのコストが大きく減少することになる。カードケージの実施形態から、シリアル・バックプレーン(CANバスに基づく)は、性能に対して負の影響を有することが学習された。この理由のため、全てのI/O信号は、性能を改善するためにパラレル・バックプレーン、データ・バスを介してプロセッサに接続される。
ハードウェアのモジュール性(カード、スロット、コネクタ)の除去は、論理的モジュール性の除去を必要としない。全てのI/Oを「論理カード」に何か似ているものにグループ化することによって、メイン・コントローラ・ファームウェアは、ハードウェアに存在するI/O信号のタイプ及びカウントを動的に発見し、この構成に従って全てのソフトウェア・オブジェクト・マッピングを実行するように作ることができる。これは、異なるハードウェア実施形態を実行することができる単一バージョンのファームウェアを生み出す。他の多くの論理的に似ているが物理的に別個のユニットで新しい機能部及びバグフィックスが利用可能であり、コストが削減される。
両方のハードウェア実施形態は、事実上の標準MODBUS/TCPを用いてI/O信号へのアクセスを提供することができる。もう1つの方法として、僅かに速い応答時間が要求される場合に、低品位のUDPプロトコルによるMODBUSの独自の実装を用いることができる。MODBUS仕様はオープンであり、自由に入手できるため、MODBUSの選択は、新しい、並びに、既存の半導体製造プロセス制御装置へのプロセスI/Oコントローラの高速の安価な統合を可能にする。制御ソフトウェアの統合のための参照コードとして多数のMODBUS実装が利用可能である。
これらのプロセスI/Oコントローラは、遠隔I/Oユニットのためのウェブ・インターフェースを与える。インターネット・ブラウザを装備したパーソナル・コンピュータは、様々な必要性のためにI/Oユニット・ユーザ・インターフェースに直接アクセスするために用いることができる。このユーザ・ウェブ・インターフェースは、プロセスI/Oコントローラによって与えられた通常のMODBUS制御サービスを補うものであり、プロセス装置の配置、製造及び保守の間に用いるために利用可能である。配置の間に、組み込まれたウェブ・ユーザ・インターフェースは、アプリケーション固有のソフトウェアが十分に配置されテストされるまで待つ必要なく、エンジニアが彼らのプロセス装置を構築しテストすることを可能にする。
プロセスI/Oコントローラ製品アーキテクチャの部分は、プロセス障害検出及び高度化されたプロセス制御の目的で、データ収集及び分析のためのMKS機器TOOLweb(登録商標)フレームワークをサポートする。TOOLwebの成功は、できるだけ多くの変数について収集することができる高品質データを使用する。TOOLweb ToolSideプロトコルと組み合わされたデータ収集エージェントのプロセスI/Oコントローラの実装は、事実上、そのI/O信号の全てを高頻度で収集するために利用可能にする。したがって、説明された構造部を具現化するプロセスI/Oコントローラは、TOOLwebデータを集め、下位のプロセスの包括的分析のための機会を生み出す。
現在のプロセス制御ソフトウェア・データ・コレクション実装は、洗練された数学的モデリング方法によって必要とされる品質及びスループットがしばしば欠如していることを経験が証明している。現在の制御ソフトウェアは、主にプロセスを制御することが意図されており、そのため、制御に不可欠ではないものはどれも実施者の優先度リストにおいて下位になる傾向があり、実施される場合には典型的に不十分である。
半導体製造プロセスを監視するセンサは、プロセスを制御し、特定の重要なプロセス・パラメータを割り当てられた公差内に維持するために用いられる。さらに、ウェハが完成された後で、欠陥分析のためにデータを収集し、格納し、分析することが、ますます一般的になってきている。処理チャンバに接続されたセンサからの読取は、オフライン分析のために収集され格納され、それはプロセス障害の根本的原因を見つけ出すために種々のデータ・ソースの相関をとること、又は、プロセス装置に対して要求される予防保守を予測することを目的としている。センサは典型的に、種々のガス圧センサ、温度トランスデューサ、マスフロー・コントローラ、RF及びDC電力源及びエネルギー伝達機器などを含む。
収集されたデータは、その後の数学的又は統計的分析を可能にする品質のものであるべきである。測定機器は、根本的な物理量の正確なデジタル読取をもたらすべきである。測定サンプルは、プロセス量のいずれの期待変化率よりも著しく短い時間間隔でとられるべきであり、それにより変化率又はその他の変化率又はパターンにおける異常が、採用されるいずれかの分析法によって容易に示される。サンプルは、指定された統計的に繰返し可能な時間間隔でとられるべきである。
センサ及び材料供給コントローラは、収集されたデータの品質に対してマイナスの影響を及ぼすことなく制御がデータ収集を優先させるように、リソース使用が厳しく優先順位をつけられる、進化したデータ収集を意図して開発されている。これは、データ収集タスクを残し、残りのリソースの使用を報告しながら、制御コマンド及び測定クエリへの統計的に繰返し可能な応答を保証するように応答可能なプリエンプティブ・スケジューリングを伴うリアルタイム・オペレーティング・システムに関係している。
それらの2つのアクティビティの要件のために、制御及びデータ収集について異なるプロトコルを使用することが有益となることがある。制御は、確定的応答時間及び効率に重点をおくが、データ収集は、低い複雑さと、ITシステム及びデータベースとの統合の容易さを好む。異なるプロトコルの使用はまた、2つのアクティビティを増幅させるソフトウェア要素を区別する。幾つかのケースでは、これらのアクティビティの各々について個別のハードウェア・インターフェースを用いること、例えば、制御についてはDeviceNet又はアナログ・インターフェースを、データ収集についてはTCP/IP及びHTTP Web技術を用いるITフレンドリーなイーサネット・ポートを用いることも適切である。他の状況では、HTTP/XMLデータ収集プロトコルにも用いられる同じイーサネット・ポート上で、制御についてのMODBUS/TCPを実行することが非常に適切なこともある。
1つのデータ収集手法は、データ収集の正確なタイミングを保証するために装備されなければならないセンサに関するものである。「データ収集プラン」がセンサのファームウェアに導入される。したがって、データ収集クライアントは、軽量データ収集デーモンをトリガして、正確な間隔でデータのサンプリングを始め、タイムスタンプを有するデータ・サンプルを増加させ、サンプルを所定サイズの循環バッファに格納する、収集プランを定義する必要がある。
その後、データ収集クライアントは、特定の収集プランに関係するバッファされたサンプルを検索し、典型的には最後のデータ伝送からの記録された全てのサンプルを受け取るための周期的な要求を、リソース優先度の許しに応じて作成することになる。データ検索要求の間隔は、要求が循環バッファのオーバーフローを回避する間隔で作成される限り、正確又は確定的となる必要はない。データにはタイムスタンプが付随するため、データ検索のいずれの待ち時間も、収集されたデータの品質に対する影響をもたない。バッファがサンプルを数秒保持するのに十分なだけ大きい場合には、データ収集クライアント又は基礎となるネットワーク・インフラストラクチャの突発故障がない限り、データが失われないことがほぼ保証される。収集プランの定義において、データ収集クライアントは、どの測定値がいつどれくらいの頻度で収集されるかを定義する。十分なリソースを有するセンサは、多数のデータ・クライアント及び収集プランに適応することができる。
データ・サンプルのセンサ・バッファの検索は、クライアントのデータ要求が、バッファにおけるサンプルの最大数までの多数のデータ・サンプルをサービスするように、本質的にバッチ化することができる。これは、多数のデータ・サンプルに対するデータ検索要求に関連するオーバーヘッドを広げて、データ収集プロセスをより帯域幅効率の良いものにし、被った平均オーバーヘッドを減少させる。
サンプル・バッファリングを実装する種々の配置段階において幾つかのセンサ及び材料供給製品が存在する。それらは、HTTPのステートレス・クライアント−サーバ実装に与えられる、XMLベースのデータ・モデルを使用する。センサはサーバを実装する。組み込まれたHTTPサーバは、構成及び診断のための機器にユーザ・インターフェースを直接提供する。XMLベースのコマンド及び応答のレパートリーは、データ・コレクションクライアントがネットワーク上でこれらのセンサを自動的に見つけ出し、収集のために利用可能な測定値(すなわち変数)の完全なリストを検索し、アプリケーション固有の収集プランを定義し、バッファされたデータ・サンプルを検索することを可能にする。
これらのセンサの幾つかは、制御のための別のインターフェースを使用し、それは幾つかのケースでは別の物理的DeviceNet接続を使用するが、他のものは、MODBUS/TCPプロトコルと同じイーサネット・ポートを共有する。HTTPデータ収集及びユーザ対話は、統計的に繰返し可能な性能又はタイミングの障害を引き起こさないことが実証された。
プロセスI/Oコントローラの両方のパーソナリティ、すなわち、ハード・リアルタイム・トランザクション指向ネットワーク化I/O制御と収集されたデータの時間弾性公開を実装するために、これらのセンサは、進化したリアルタイム・ソフトウェア・ファウンデーションを特徴付ける。このファウンデーションによれば、両方のアプリケーションは、リソース使用への厳しい注意と、リソース割り当ての意識的な優先順位付けを伴って構築され、それにより、許可された性能パラメータ内のデータ収集アクティビティは、MODBUS制御コマンド性能を低下させない。また、収集されたデータの公開は、期待されたMODBUSアクティビティ・ボリュームのときに、量又は品質の損失もなしに収集されたデータを公開するのに十分な帯域幅が利用可能なままとなるように実施される。
優先順位付けに加えて、変数サンプルの総数及び収集頻度は、データ収集アクティビティがMODBUSと組み合わされたときに、利用可能なリソースをオーバーランして、収集データを失わせ又は予測できないシステム挙動を引き起こさないように制限される。
制御の目的のために、プロセスI/Oコントローラは、コネクタ・ピンの番号によってそのI/Oへの低レベル・アクセスを可能にし、値は、単純なバイナリ形式で表される。ツール・ホストは、変数に対するコネクタ・ピン番号のそれ独自のマッピングを行うことが期待されるが、CONTROLウェブは、生の値を保存し、性能を最大にするためにいずれの変換も行わない。
一方、分析のためには、データ要素は論理的意味を有するべきであり、すなわち、変数名は実際のパラメータを表すべきであり、アナログ値は測定値の物理的単位にスケール変更され又はオフセットされるべきである。値はセンサの校正のために補正されて、同様のプロセス・チャンバからセンサによって収集された値が比較に値するものとなるようにされるべきである。
プロセスI/Oコントローラは、I/Oピンに取り付けられたセンサ及び制御部のために構成される。関心ある変数は、識別され名前付けされ、必要なときには、報告された値が好ましくは測定標準単位においてより意味のあるものとなるように、数値スケーリングオフセットが適用される。収集されたデータは記号により名前付けされるため、所与のツールのセットアップ及び機器の幾つかの詳細が利用可能である場合に、オフライン又はオフサイトがとられたときでさえも、その意味を認識することができる。収集された値は、実際のツールがアップグレードされ又は更新されたときでさえも、それらの意味をある期間にわたって保持することができる。
同様のツール上にインストールされるプロセスI/Oコントローラを構成するときには、構成は、構成をテキストファイルにダウンロードし、テキストファイルを他のプロセスI/Oコントローラにアップロードする能力によって単純化される。これらの構成ファイルは、標準PCソフトウェア・ツールを用いてオフラインで編集することができ、構成はプロセス専門家によってオフサイトで用意されることが可能となる。
カード・シャーシ・コントローラ・アーキテクチャの最初の目標は、イーサネット上のMODBUSについての可能なだけ最速の応答時間を搾り出すことと、繰返し可能な制御精度をDeviceNetといった遅い工業バスを用いて達成可能な精度を上回るように改善することであった。本発明者らは、多くのケースにおいて、プロセスの精密なタイミングのネックは、ツール・ホスト又はマスター・コントローラ自体、及び、ツール・ホストを実装するために用いられるオペレーティング・システムにあることを学習した。幾つかの既存のマスター・コントローラは、50ミリ秒の公差内で動作し、他のものは、100ミリ秒の公差内で動作する。
実際には、これらの制御システムは非常に複雑であり、大きな設計チームによって長期間にわたって頻繁に開発される。使用される開発ツールは、多目的コンピューティング・プラットフォーム上でのみ利用可能である。これらのレガシー・ソフトウェア・システムの複雑さは、それらの不正確さに著しく寄与する。
ソフトウェア又はオペレータは、短い、それでもなお重要なプロセス・ステップを識別し、要求された監視及びフィードバックを、5ミリ秒より良好な、3ミリ秒より良好な、又は1ミリ秒より良好な精度といったタイミング精度で、リソース制限された確定的リアルタイム・オペレーティング環境内で実行することができる小さなプログラムに変換する。
プロセスI/Oコントローラの局所的プログラミングは、オブジェクト指向イベント主導解釈済みプログラミング言語である、ECMA標準JavaScript言語のサブセットをサポートする。プログラムは、プレーン・テキストでI/Oユニットにダウンロードされ、その後、MODBUSを介して設定し監視することができる特別に割り当てられたプログラム状態レジスタを用いて呼び出される。このプログラム状態レジスタはまた、プログラムの実行及び完了を監視するためにツール・ホストに対して用いられる。この環境を実装するのに適した1つのプロセッサ・ファミリーは、減少された命令セット計算(RISC)マイクロプロセッサのMotorola ColdFireファミリーである。このファミリーにおけるマイクロプロセッサの1つは、MCF5282と表される。これらのプロセッサは、venerable68000プロセッサ・シリーズから得られるため、多くの開発ツール及び種々のリアルタイム・オペレーティング・システムが利用可能である。このプロセッサ・ファミリーのブロック図及び詳細は、www.freescale.comでアクセス可能である。
クラスの階層は、プロセスI/Oコントローラ上の局所I/O信号を表すように、スクリプト・インタープリタに組み込まれ、それにより、スクリプトは、出力に対する制御を実行し、入力を監視することができる。また、個別の入力は、特定のスクリプト機能に割り当てられ、これらの入力が値又は状態を変化させるときに非同期的に呼び出されるイベントを生成することができる。
スクリプト・インタープリタには、対応するスクリプト・インタープリタのステータスを制御し監視するMODBUSを介して読み取られ書き込まれることができる特別な16ビット・レジスタが割り当てられる。マスター又は中央コントローラは、スクリプトの実行を開始し又は中止するようにこのレジスタに書き込み、又はインタープリタ・ステータスを監視するようにこのレジスタを読み取ることができ、すなわち、それはスクリプトが実行されている場合であり、或いは正常終了された場合、又は異常終了されている場合、その後者のケースでは、このレジスタは、スクリプト終了コードを含むことになる。
前述のプログラム制御レジスタはさらに一般化され、制限された数の付加的なレジスタが各々のスクリプト・インタープリタについて予め定義される。これらの付加的なレジスタは、プログラム・ステータス・レジスタと同様に、MODBUSを介した読取及び書き込みのためにアクセス可能であり、適切なインタープリタ上で動作するスクリプトによってもアクセス可能である。これらのレジスタは、CONTROLウェブ上で動作するスクリプトとマスター・コントローラとの間の通信に関係する種々の目的のために用いることができる。
局所I/O信号への十分な、妨害を受けないアクセスに加えて、スクリプト・インタープリタは、他のプロセスI/Oコントローラに物理的に接続されたI/O信号を表すように設定することができるクラス階層を用いて増補されるが、関連付けられた後では、同じ基本アクセス方法及び属性のときに、ほぼ局所I/O信号と同様に振舞うことになる。他のプロセスI/Oコントローラ(遠隔I/O動作)上に常駐するI/O信号は、典型的に、よりゆっくりと応答し、非同期イベントのためのソースとして用いることができない。
他のプロセスI/Oコントローラ上のこの遠隔I/Oは、同じネットワークに接続された他のプロセスI/Oコントローラ上のI/O信号へのアクセスを与えるMODBUSクライアント(マスター)実装をスクリプト・インタープリタに増補することによって実装される。
この便利な機能は、前述の制限を考慮して用いられるべきである。最良の用途の1つは、単一のプロセス・シーケンスを実行するように組み合わされる、異なるプロセスI/Oコントローラ上で同時に動作するスクリプトを同期することであり、I/Oカウント及び/又はプロセス物理レイアウトは、全ての関連するI/O信号を同じプロセスI/Oコントローラに接続する非現実的なものである。
製造プロセスの詳細は典型的に「レシピ」と呼ばれ、それは実際には、化学的又はセクション・プロセスのシーケンス、タイミング及び閾値を含む詳細を支配するプログラムである。幾つかの従来のプロセッサでは、レシピは、製造所制御ホストによって、チャンバ・プロセス制御コンピュータにダウンロードされる(又は前に保存されたレシピが選択される)。このレシピは、その後、ロットにおける全ての単一ウェハについてマスター・コントローラによって実行される。マスター・コントローラの目的は、所与のロットにおける全ての単一ウェハについて、又はその他のロットについてできるだけ正確にこのレシピを繰り返して、プロセス結果(例えば堆積層の厚さ)が同じ全ての単一時間に出てくるようにすることである。しかし、前に述べたように、汎用コンピューティング・プラットフォームに基づく現在のプロセス制御システムは、大きい複雑なソフトウェア・システムを有し、タイミング精度に対する認識できる制限と、入力の変化に対して迅速に応答し、十分に迅速に反応するのに制限された能力を有する。これらの制限は、最終的に、レシピが繰り返すことができる精度レベルに上限を設け、それは、現在のプロセス装置の歩留まり及びスループットを制限する重大な因子である。結果として、特定のプロセスは、それらが時間どおりに停止できるように意図的に減速される。
これらの改善されたプロセスI/Oコントローラに伴うこの提示された問題への解決策は、リアルタイム・ベースの遠隔I/Oデバイスにとって重要であると思われるレシピの部分を効果的に代行することである。
コンパイル相の間、マスター・コントローラは、全ての参照を論理値に、及び、状態を物理又はマップされたI/O参照信号に置き換えることになり、そうでなければ、レシピ・ステップをスクリプト・プログラムに変換することになる。これを達成する1つの方法は、特定のレシピ・ステップ・タイプについて既存のスクリプトが書き込まれる、スクリプト・テンプレートを用いることであり、マスター・コントローラは、この場合、実際のI/O参照及び指定のタイミング並びに閾値を、所定のスクリプト位置に挿入する必要がある。
本発明は、方法又は方法を実施するように適合された装置として実施することができる。同方法は、ツール・ホスト、スレーブ又はプロセスI/Oコントローラ、並びに、オペレーティング・プロトコル又はシステムの観点からみることができる。本発明は、方法を実行するために論理が印加されたメディアのような製造品であってもよい。
1つの実施形態は、半導体製造プロセスに対する正確にタイミング合わせされた制御方法である。この方法は、ツール・ホスト及びプロセスI/Oコントローラを使用する。プロセスI/Oコントローラは、プロセスチャンバ・モニタへの電気的インターフェースを含み、電気的インターフェースを通じて正確にタイミング合わせされた入力及び出力を制御しサポートする。ツール・ホストは、電気的インターフェースを記号により表すプログラミング環境を含む。この方法は、ツール・ホストにおいて、電気的インターフェースを通じて入力をサンプリングし出力を制御するためのプロセスI/Oコントローラへの命令を含む制御プログラムを用意することを含む。ツール・ホストからプロセスI/Oコントローラに制御プログラムがロードされる。プロセスI/Oコントローラにおいて、制御プログラムを呼び出すコマンドを受け取ると、制御プログラムは、電気的インターフェースを通じて入力をサンプリングし出力を制御する統計的に正確なタイミングを生成するように動作する。入力のサンプリング及び出力の制御は、実時間における目標時間の間の変動分布の99.99%範囲の変動が5ミリ秒より小さいか又はそれに等しいときに、統計的に正確なタイミングを有すると考えられる。幾つかの場合、目標時間は、できるだけ早いものとすることができ、コマンドの性能は、5ミリ秒以内であるか又はそれに等しいものとすることができる。他の場合には、目標時間は、入力が特定のレベルに達し次第すぐのものとすることができる。
作動中に、この方法は、サンプリングされた入力に対応するツール・ホスト仮想デジタル信号を設定し、電気的インターフェースを通じて出力を変化させる、プロセスI/Oコントローラを含んでもよい。プロセスI/Oコントローラは、サンプリング及び制御の統計的に正確なタイミングを乱すことなく、これらの仮想デジタル信号を送信する。仮想デジタル信号は、タイムスタンプを含んでもよい。ツール・ホストは、仮想デジタル信号に応答して、プロセスI/Oコントローラに制御プログラムの動作を停止させるコマンドをプロセスI/Oコントローラに送信してもよい。
プロセスI/Oコントローラは、制御プログラムに応答して、統計的に正確なタイミングで制御コマンドを別のプロセスI/Oコントローラに送信してもよい。ツール・ホストは、レシピにおける制御ステップについてのタイミング公差を受諾し、プロセスI/Oコントローラにそれらの制御ステップのタイミングを委ねるかどうかを決定するように構成されてもよい。制御ステップのタイミングを委ねることが決定されたときには、制御プログラムが用意され、プロセスI/Oコントローラにロードされる。
装置として、プロセスI/Oコントローラは、中央プロセッサと通信するように適合されたポート、メモリ、並びに、ポート及びメモリに結合され、方法及び前述のそれらの態様のいずれかを実行するように適合された論理及びリソースを含んでもよい。
Claims (21)
- ツール・ホスト及びプロセスI/Oコントローラを用いる半導体製造プロセスに対する正確にタイミング合わせされた制御方法であって、前記プロセスI/Oコントローラは、プロセスチャンバ・モニタへの電気的インターフェースを含み、前記電気的インターフェースを通じて正確にタイミング合わせされた入力及び出力を制御しサポートし、前記ツール・ホストは、前記電気的インターフェースを記号により表すプログラミング環境を含み、前記方法は、
前記ツール・ホストにおいて、前記電気的インターフェースを通じて入力をサンプリングし出力を制御するための前記プロセスI/Oコントローラへの命令を含む制御プログラムを用意することと、
前記ツール・ホストから前記プロセスI/Oコントローラに前記制御プログラムをロードすることと、
前記プロセスI/Oコントローラにおいて、前記制御プログラムを呼び出すコマンドを受け取ると、前記制御プログラムが、前記電気的インターフェースを通じて入力をサンプリングし出力を制御する統計的に正確なタイミングを生成するように動作することと、
を含み、前記入力のサンプリング及び前記出力の制御は、目標時間と実時間との間の変動分布の99.99%範囲の変動が5ミリ秒より小さいか又はそれに等しいときに、統計的に正確なタイミングを有すると考えられることを特徴とする方法。 - 前記制御プログラムをロードすることは、前記プロセスI/Oコントローラによるコマンド処理の優先度を保つロード処理優先度で進むことを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 前記制御プログラムをロードすることは、さらに、前記プロセスI/Oコントローラを、前記電気的インターフェースを通じた少なくとも幾つかの入力のサンプリング及び出力の制御からオフラインにすることなく進むことを特徴とする請求項2に記載の方法。
- 前記入力のサンプリング及び前記出力の制御は、目標時間と実時間との間の変動分布の99.99%範囲が3ミリ秒よりも小さいか又はそれに等しい状態で実行されることを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 前記入力のサンプリング及び前記出力の制御は、目標時間と実時間との間の変動分布の99.99%範囲が1ミリ秒よりも小さいか又はそれに等しい状態で実行されることを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 前記プロセスI/Oコントローラは、前記サンプリング及び前記制御の統計的に正確なタイミングを乱すことなく、前記ツール・ホストに、前記電気的インターフェースを通じた前記入力のサンプリング及び前記出力の変化に対応する仮想デジタル信号を送信することをさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 前記仮想デジタル信号はタイムスタンプを含むことを特徴とする請求項6に記載の方法。
- プロセスI/Oコントローラのメモリから動的にロード可能な命令を実行することが可能な、中央コントローラと協働するプロセスI/Oコントローラを用いて、繰返し可能な間隔でプロセス・チャンバにおいて動作するプロセスを制御する方法であって、
前記プロセス・チャンバの作動の1つ又はそれ以上の態様を監視し制御するプロセスI/Oコントローラにおいて、
前記中央コントローラから制御コマンドを受け取り、受け取り後に5ミリ秒又はそれ以下の第1の統計的に繰返し可能な短い時間間隔内で前記制御コマンドを処理し、
前記短い時間間隔は、時間分布の99.99%範囲の時間が、前記短い時間間隔より短いか又はそれに等しいときに、統計的に繰返し可能であると考えられ、
前記制御コマンドの処理における統計的な繰返し可能性を損なうことなく、前記プロセス・チャンバに結合された1つ又はそれ以上のセンサをサンプリングし、サンプリング・スケジュールの統計的に繰返し可能な公差内でサンプルをバッファリングし、
公差は、目標時間と実時間との間の変動分布の99.99%範囲の変動が公差より小さいか又はそれに等しいときに、統計的に繰返し可能であると考えられる
ことを特徴とする方法。 - 前記第1の統計的に繰返し可能な短い時間間隔は、3ミリ秒又はそれ以下であることを特徴とする請求項8に記載の方法。
- 前記第1の統計的に繰返し可能な短い時間間隔は、1ミリ秒又はそれ以下であることを特徴とする請求項8に記載の方法。
- 前記統計的に繰返し可能な公差は、5ミリ秒又はそれ以下であることを特徴とする請求項8に記載の方法。
- 前記統計的に繰返し可能な公差は、3ミリ秒又はそれ以下であることを特徴とする請求項8に記載の方法。
- 前記サンプリングに対応するタイムスタンプをバッファリングすることをさらに含む、請求項8に記載の方法。
- 前記プロセスI/Oコントローラは、前記制御コマンドの処理の統計的繰返し可能性を損なうか又は前記サンプリングの統計的繰返し可能性を損なうことなく、バッファリングされたサンプルの少なくとも幾つかを分散させることをさらに含むことを特徴とする請求項8に記載の方法。
- 前記制御コマンドの処理の統計的繰返し可能性を損なうか又は前記サンプリングの統計的繰返し可能性を損なうことなく、前記プロセスI/Oコントローラのメモリから動的にロード可能な命令を実行することをさらに含み、
前記命令は、前記サンプリングの選択された結果に応答することを含み、前記応答は、前記中央コントローラに前記サンプリングを報告し、前記中央コントローラから応答コマンドを受け取るのに必要な統計的に繰返し可能なフィードバック間隔よりも短い第2の統計的に繰返し可能な短い時間間隔内で起こることを特徴とする請求項8に記載の方法。 - 前記制御コマンドの処理の統計的繰返し可能性を損なうか又は前記サンプリングの統計的繰返し可能性を損なうことなく、前記プロセスI/Oコントローラのメモリから動的にロード可能な命令を実行することをさらに含み、
前記命令は、前記サンプリングの選択された結果に応答することを含み、前記応答は、前記第1の統計的に繰返し可能な短い時間間隔の長さの半分よりも短い第2の統計的に繰返し可能な短い時間間隔内で起こることを特徴とする請求項8に記載の方法。 - 前記制御コマンドの受け取り及び処理の開始の統計的繰返し可能性を損なうか又はサンプリングの統計的繰返し可能性を損なうことなく、前記プロセスI/Oコントローラのメモリから動的にロード可能な命令を実行することをさらに含み、
前記命令は、前記プロセス・チャンバの作動の少なくとも1つの特定の態様の閉ループ制御を開始することを含み、前記開始することは、前記第1の統計的に繰返し可能な短い時間間隔の半分よりも短い第2の統計的に繰返し可能な短い時間間隔内で起こることを特徴とする請求項8に記載の方法。 - 前記第2の統計的に繰返し可能な短い時間間隔は、前記第1の統計的に繰返し可能な短い時間間隔の長さの1/5よりも短いことを特徴とする請求項16または17のいずれかの請求項に記載の方法。
- 前記プロセスI/Oコントローラにおいて、前記プロセス・チャンバの作動を監視し制御する態様から前記プロセスI/Oコントローラをオフラインにすることなく、命令を受け取り、認識し、前記プロセスI/Oコントローラのメモリに動的にロード可能な命令をロードすることをさらに含むことを特徴とする請求項16または17のいずれかの請求項に記載の方法。
- 前記プロセスI/Oコントローラは、前記制御コマンドの受け取り及び処理の開始の統計的繰返し可能性を損なうか又は前記サンプリングの統計的繰返し可能性を損なうか或いは前記動的にロード可能な命令を実行する統計的繰返し可能性を損なうことなく、バッファリングされたサンプルの少なくとも幾つかを分散させることをさらに含むことを特徴とする請求項16または17のいずれかの請求項に記載の方法。
- 前記中央コントローラと通信するように適合されたポートと、
メモリと、
前記ポート及び前記メモリに結合され、請求項8、14、16または17のいずれかの請求項に記載のプロセスを実行するように適合された論理及びリソースと、
を含むことを特徴とするプロセスI/Oコントローラ。
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Families Citing this family (29)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7146237B2 (en) * | 2004-04-07 | 2006-12-05 | Mks Instruments, Inc. | Controller and method to mediate data collection from smart sensors for fab applications |
US7292045B2 (en) * | 2004-09-04 | 2007-11-06 | Applied Materials, Inc. | Detection and suppression of electrical arcing |
US7620516B2 (en) * | 2005-05-02 | 2009-11-17 | Mks Instruments, Inc. | Versatile semiconductor manufacturing controller with statistically repeatable response times |
US7787477B2 (en) * | 2005-07-11 | 2010-08-31 | Mks Instruments, Inc. | Address-transparent device and method |
DE102005034168A1 (de) * | 2005-07-21 | 2007-02-01 | Siemens Ag | Verfahren zum Bedienen und Beobachten eines Steuergeräts, hiermit korrespondierendes Bedien-/Beobachtungsgerät, Steuergerät sowie Maschine mit einem solchen Steuergerät und Verwendungen des Verfahrens sowie Datenspeichermedien |
JP2009505232A (ja) * | 2005-08-09 | 2009-02-05 | フィッシャー−ローズマウント・システムズ・インコーポレーテッド | フィールドベースのアセット管理装置及びアーキテクチャ |
US7902991B2 (en) * | 2006-09-21 | 2011-03-08 | Applied Materials, Inc. | Frequency monitoring to detect plasma process abnormality |
JP5020605B2 (ja) * | 2006-11-16 | 2012-09-05 | 東京エレクトロン株式会社 | 上位制御装置、下位制御装置、画面の操作権付与方法および画面の操作権付与プログラムを記憶した記憶媒体 |
JP4328352B2 (ja) * | 2006-12-18 | 2009-09-09 | ファナック株式会社 | 外部信号入出力ユニットの診断方法及びシステム |
WO2008075404A1 (ja) * | 2006-12-19 | 2008-06-26 | Systemv Management Inc., | 半導体製造システム |
US7720560B2 (en) * | 2007-07-26 | 2010-05-18 | International Business Machines Corporation | Semiconductor manufacturing process monitoring |
US8812261B2 (en) * | 2007-08-23 | 2014-08-19 | Applied Materials, Inc. | Method and apparatus to automatically create virtual sensors with templates |
US7831340B2 (en) * | 2007-11-26 | 2010-11-09 | Control Components, Inc. | Local digital valve controller unit |
US8289029B2 (en) | 2008-02-14 | 2012-10-16 | Mks Instruments, Inc. | Application of wideband sampling for arc detection with a probabilistic model for quantitatively measuring arc events |
US8334700B2 (en) * | 2008-02-14 | 2012-12-18 | Mks Instruments, Inc. | Arc detection |
US8264237B2 (en) * | 2008-02-14 | 2012-09-11 | Mks Instruments, Inc. | Application of wideband sampling for arc detection with a probabilistic model for quantitatively measuring arc events |
US8112170B2 (en) * | 2008-05-02 | 2012-02-07 | General Electric Company | Method and system for machining process control |
US8621130B2 (en) * | 2008-10-10 | 2013-12-31 | David A. Daniel | System data transfer optimization of extended computer systems |
JP5465995B2 (ja) * | 2009-01-06 | 2014-04-09 | 株式会社日立国際電気 | 基板処理システム、収集ユニット、基板処理装置のデータ処理方法および基板処理装置 |
US8674844B2 (en) * | 2009-03-19 | 2014-03-18 | Applied Materials, Inc. | Detecting plasma chamber malfunction |
PL2486883T3 (pl) * | 2011-02-14 | 2014-09-30 | Erbe Elektromedizin | Urządzenie zasilające |
JP5852267B2 (ja) | 2011-12-26 | 2016-02-03 | アーベーベー・リサーチ・リミテッドAbb Research Ltd. | 分散型制御システムのためのリレーインタフェースモジュール |
WO2014121194A1 (en) * | 2013-02-01 | 2014-08-07 | Introspective Power, Inc. | Generic distributed processing for multi-agent systems |
US9710342B1 (en) * | 2013-12-23 | 2017-07-18 | Google Inc. | Fault-tolerant mastership arbitration in a multi-master system |
KR101650886B1 (ko) * | 2014-09-05 | 2016-08-25 | 주식회사 비스텔 | 반도체 생산 공정에서 장비로부터 발생하는 센서 데이터의 수집과 분석을 위한 프레임워크 |
US10650621B1 (en) | 2016-09-13 | 2020-05-12 | Iocurrents, Inc. | Interfacing with a vehicular controller area network |
CN106598897A (zh) * | 2016-12-13 | 2017-04-26 | 天津通信广播集团有限公司 | 一种自适应三种工业总线协议的工业总线系统及转换方法 |
CN114827263B (zh) * | 2021-01-29 | 2023-10-10 | 智禾科技股份有限公司 | 干式真空泵的信息转换装置 |
US11570020B2 (en) * | 2021-02-04 | 2023-01-31 | Archcyber Technology Co. Ltd. | Communication converters of dry pumps |
Family Cites Families (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4845615A (en) * | 1984-04-30 | 1989-07-04 | Hewlett-Packard Company | Software performance analyzer |
JPH10198408A (ja) * | 1997-01-08 | 1998-07-31 | Kokusai Electric Co Ltd | 処理命令実行装置 |
US6684122B1 (en) * | 2000-01-03 | 2004-01-27 | Advanced Micro Devices, Inc. | Control mechanism for matching process parameters in a multi-chamber process tool |
US7200671B1 (en) * | 2000-08-23 | 2007-04-03 | Mks Instruments, Inc. | Method and apparatus for monitoring host to tool communications |
US7174482B2 (en) * | 2001-05-04 | 2007-02-06 | Honeywell International Inc. | Process control bus monitoring and analysis |
US7005372B2 (en) * | 2003-01-21 | 2006-02-28 | Novellus Systems, Inc. | Deposition of tungsten nitride |
US20030213560A1 (en) * | 2002-05-16 | 2003-11-20 | Yaxin Wang | Tandem wafer processing system and process |
JP4068404B2 (ja) * | 2002-06-26 | 2008-03-26 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理システム、基板処理装置、基板処理方法、プログラム及び記録媒体 |
US6887521B2 (en) * | 2002-08-15 | 2005-05-03 | Micron Technology, Inc. | Gas delivery system for pulsed-type deposition processes used in the manufacturing of micro-devices |
DE60335268D1 (de) * | 2002-08-20 | 2011-01-20 | Tokyo Electron Ltd | Verfahren zum verarbeiten von daten auf der basis des datenkontexts |
US20040040503A1 (en) * | 2002-08-29 | 2004-03-04 | Micron Technology, Inc. | Micromachines for delivering precursors and gases for film deposition |
US7062411B2 (en) * | 2003-06-11 | 2006-06-13 | Scientific Systems Research Limited | Method for process control of semiconductor manufacturing equipment |
US7146237B2 (en) * | 2004-04-07 | 2006-12-05 | Mks Instruments, Inc. | Controller and method to mediate data collection from smart sensors for fab applications |
US7219255B2 (en) * | 2004-07-27 | 2007-05-15 | Mks Instruments, Inc. | Failsafe switching of intelligent controller method and device |
US7620516B2 (en) * | 2005-05-02 | 2009-11-17 | Mks Instruments, Inc. | Versatile semiconductor manufacturing controller with statistically repeatable response times |
US7787477B2 (en) * | 2005-07-11 | 2010-08-31 | Mks Instruments, Inc. | Address-transparent device and method |
-
2006
- 2006-04-25 US US11/411,005 patent/US7620516B2/en active Active
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