JP4924795B2 - ノルボルナンラクトン系(メタ)アクリレートおよびその重合体 - Google Patents
ノルボルナンラクトン系(メタ)アクリレートおよびその重合体 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4924795B2 JP4924795B2 JP2005516374A JP2005516374A JP4924795B2 JP 4924795 B2 JP4924795 B2 JP 4924795B2 JP 2005516374 A JP2005516374 A JP 2005516374A JP 2005516374 A JP2005516374 A JP 2005516374A JP 4924795 B2 JP4924795 B2 JP 4924795B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- meth
- polymer
- general formula
- acrylate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D307/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom
- C07D307/77—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom ortho- or peri-condensed with carbocyclic rings or ring systems
- C07D307/93—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom ortho- or peri-condensed with carbocyclic rings or ring systems condensed with a ring other than six-membered
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F20/00—Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride, ester, amide, imide or nitrile thereof
- C08F20/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms, Derivatives thereof
- C08F20/10—Esters
- C08F20/26—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen
- C08F20/30—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen containing aromatic rings in the alcohol moiety
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Furan Compounds (AREA)
Description
近年、数多くの脂環式構造を有する(メタ)アクリレートが、微細加工用フォトレジストの原料として提案されている。中でも、5−ヒドロキシ−2,6−ノルボルナンカルボラクトンを直接(メタ)アクリル酸と反応させることにより得られるエステル化合物は、その構造中に芳香環を有していない上に、該化合物を用いて得られた重合体はドライエッチング耐性に優れているため、注目を浴びている(特許文献1)。
ンオキサイドを付加することにより導入されるブチレン基、nは1の整数、R2は水素原
子またはメチル基を表す。)
本発明はまた、一般式(1)で表されるノルボルナンラクトン系(メタ)アクリレートを含む単量体混合物を重合することによって得られる(共)重合体でもある。
本発明の好ましい態様は、一般式(1)で表される化合物の少なくとも1種と、下記一般式(2)で表される化合物の少なくとも1種を含む単量体混合物を重合することによって得られる共重合体であって重量平均分子量(Mw)が2000〜200000である共重合体に関する。
さらに、本発明はフォトレジスト材料としての用途のための上述の(共)重合体にも関する。
レン基を示し得、具体的には、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基を挙げることができる。本発明においてはブチレン基が好ましい。5−ヒドロキシ−2,6−ノルボルナンカルボラクトンにアルキレンオキサイドを付加することにより、(R1O)nで表される(ポリ)オキシアルキレン基を導入することができる。アルキレンオキサイドの付加反応は、必要によりKOH、NaOH等の塩基性触媒を使用して公知の方法で行うことができる。
以上の工程により所望の(共)重合体を得る。
この化学増幅型フォトレジスト組成物を半導体基板(シリコンウエハ)上に塗布し、例えばArFエキシマレーザーを用いて波長180ないし220nmの光で露光し、続いてベークし、その後現像することにより、所望のパターンが基板上に形成された超LSI等が製造される。
20mgの共重合体を5mLのテトラヒドロフランに溶解し、0.5μmのメンブランフィルターで濾過した試料溶液をShodex社製ゲル・パーミエイション・クロマトゲラフィーGPC−101を用いて測定した。分離カラムはShodexGPC KF−G、KF−805、KF−803、KF−802を直列して用い、溶媒はテトラヒドロフラン、流量1.0mL/分、検出器は示差屈折計、測定温度40℃、注入量0.1mL標準ポリマーとしてスチレンを使用した。
1H−NMRの測定により求めた。この測定は、日本電子(株)製JNM−AL400型FT−NMRを用いて試料の約15質量%の重クロロホルムを直径5mmのチューブに入れ64回の積算でおこなった。
5Lのオートクレーブに5−ヒドロキシ−2,6−ノルボルナンカルボラクトン(以降、NLAとする)770g(5mol)、トルエン770g、トリエチルアミン10.1g、ブチレンオキサイド432.7g(6mol)を仕込んだ。窒素置換を行った後125℃まで昇温し、125〜130℃で8時間反応させた。反応後の液組成は、GC面積比で(未反応NLA):(NLA−BO1モル付加体):(NLA−BO2モル付加体)=43:56:1、収量は1970gであった。得られた反応液300gを10wt%水酸化ナトリウム水溶液150gで洗浄し、更にpHが中性になるまで水洗を行って未反応NLAを除去した。洗浄後、脱溶媒を行いNLA−BO1モル付加体の精製物を得た。GC純度93.8%、収量45.7g、1H−NMR(CDCl3) δ0.95(t、3H)、δ1.49(m、2H)、δ1.58(t、3H)、δ2.02(m、2H)、δ2.33(t、1H)、δ2.54(m、2H)、δ3.16(m、1H)、δ3.33(m、2H)、δ3.51(m、1H)、δ3.67(m、1H)、δ4.50(s、1H)。また、GC−MS(CI法)より分子量が226であることが確認された。
実施例1で得たメタクリレート14.1g、2−メチル−2−アダマンチルメタクリレート25.1g、ヒドロキシアダマンチルメタクリレート6.1g、アゾビスイソブチロニトリル4.5g、ジオキサン110gを反応器に仕込み72℃で10時間重合反応を行った。次に反応液を2000gのヘキサンに注ぎ、生じた沈澱物をろ別した。回収した沈澱物を減圧乾燥後、ジオキサンに溶解させ、さらにもう一度沈澱精製を繰り返すことで所望の樹脂25gを得た。この樹脂の共重合比は1H−NMRの積分比から(合成例1で得たメタクリレート):(2−メチル−2−アダマンチルメタクリレート):(ヒドロキシアダマンチルメタクリレート)=35:50:15であった。GPC分析による重量平均分子量(Mw)は14000、分散度(Mw/Mn)は1.90であった。
ノルボルネンカルボラクトンメタクリレート7.8g、2−メチル−2−アダマンチルメタクリレート13.9g、ヒドロキシアダマンチルメタクリレート3.4g、アゾビスイソブチロニトリル3.3g、ジオキサン58gを反応器に仕込み72℃で10時間重合反応を行った。次に反応液を1200gのメタノールに注ぎ、生じた沈澱物をろ別した。回収した沈澱物を減圧乾燥後、ジオキサンに溶解させ、さらにもう一度沈澱精製を繰り返すことで所望の樹脂20gを得た。この樹脂の共重合比は1H−NMRの積分比から(ノルボルネンカルボラクトンメタクリレート):(2−メチル−2−アダマンチルメタクリレート):(ヒドロキシアダマンチルメタクリレート)=35:50:15であった。GPC分析による重量平均分子量(Mw)は13000、分散度(Mw/Mn)は1.90であった。
樹脂0.5gと一定量の特定の溶媒をバイアル瓶に取り40℃にて1時間撹拌した後、不溶物、濁りの視認されないものを溶解とした。
◎:30wt%溶解、○:20wt%溶解、×:難溶
Claims (4)
- 一般式(1)で表されるノルボルナンラクトン系(メタ)アクリレートを含む単量体混合物を重合することによって得られる(共)重合体。
- フォトレジスト材料としての用途のための請求項2又は3記載の(共)重合体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005516374A JP4924795B2 (ja) | 2003-12-18 | 2004-12-17 | ノルボルナンラクトン系(メタ)アクリレートおよびその重合体 |
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003421704 | 2003-12-18 | ||
JP2003421704 | 2003-12-18 | ||
PCT/JP2004/018944 WO2005058854A1 (ja) | 2003-12-18 | 2004-12-17 | ノルボルナンラクトン系(メタ)アクリレートおよびその重合体 |
JP2005516374A JP4924795B2 (ja) | 2003-12-18 | 2004-12-17 | ノルボルナンラクトン系(メタ)アクリレートおよびその重合体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2005058854A1 JPWO2005058854A1 (ja) | 2007-12-13 |
JP4924795B2 true JP4924795B2 (ja) | 2012-04-25 |
Family
ID=34697316
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005516374A Expired - Fee Related JP4924795B2 (ja) | 2003-12-18 | 2004-12-17 | ノルボルナンラクトン系(メタ)アクリレートおよびその重合体 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7312294B2 (ja) |
JP (1) | JP4924795B2 (ja) |
WO (1) | WO2005058854A1 (ja) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5224764B2 (ja) * | 2007-09-28 | 2013-07-03 | 富士フイルム株式会社 | 顔料分散組成物、光硬化性組成物、カラーフィルタ、液晶表示素子および固体撮像素子 |
JP5325519B2 (ja) * | 2008-10-09 | 2013-10-23 | 東京応化工業株式会社 | ポジ型レジスト組成物、高分子化合物およびレジストパターン形成方法 |
JP5176909B2 (ja) * | 2008-11-28 | 2013-04-03 | Jsr株式会社 | 重合体および感放射線性樹脂組成物 |
JP5347465B2 (ja) * | 2008-12-08 | 2013-11-20 | Jsr株式会社 | 感放射線性樹脂組成物 |
JP5176910B2 (ja) * | 2008-11-28 | 2013-04-03 | Jsr株式会社 | 感放射線性樹脂組成物 |
JP5304204B2 (ja) * | 2008-11-28 | 2013-10-02 | Jsr株式会社 | 重合体および感放射線性樹脂組成物 |
JP2010126581A (ja) * | 2008-11-26 | 2010-06-10 | Jsr Corp | 重合体および感放射線性樹脂組成物 |
JP5568963B2 (ja) * | 2008-11-28 | 2014-08-13 | Jsr株式会社 | 重合体および感放射線性樹脂組成物 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3042618B2 (ja) * | 1998-07-03 | 2000-05-15 | 日本電気株式会社 | ラクトン構造を有する(メタ)アクリレート誘導体、重合体、フォトレジスト組成物、及びパターン形成方法 |
JP2002351079A (ja) * | 2001-05-24 | 2002-12-04 | Fuji Photo Film Co Ltd | ポジ型レジスト組成物 |
JP2003270788A (ja) * | 2002-03-15 | 2003-09-25 | Jsr Corp | 感放射線性樹脂組成物 |
JP2004210917A (ja) * | 2002-12-27 | 2004-07-29 | Jsr Corp | (メタ)アクリル系重合体および感放射線性樹脂組成物 |
JP2004220009A (ja) * | 2002-12-28 | 2004-08-05 | Jsr Corp | 感放射線性樹脂組成物 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07140650A (ja) * | 1993-06-16 | 1995-06-02 | Hitachi Chem Co Ltd | 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性フィルム |
US6927009B2 (en) | 2001-05-22 | 2005-08-09 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Positive photosensitive composition |
TWI272452B (en) * | 2001-06-12 | 2007-02-01 | Fuji Photo Film Co Ltd | Positive resist composition |
EP1602975A4 (en) * | 2002-12-28 | 2009-12-02 | Jsr Corp | RESIN COMPOSITION SENSITIVE TO RADIATION |
-
2004
- 2004-12-17 US US10/583,283 patent/US7312294B2/en active Active
- 2004-12-17 WO PCT/JP2004/018944 patent/WO2005058854A1/ja active Application Filing
- 2004-12-17 JP JP2005516374A patent/JP4924795B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3042618B2 (ja) * | 1998-07-03 | 2000-05-15 | 日本電気株式会社 | ラクトン構造を有する(メタ)アクリレート誘導体、重合体、フォトレジスト組成物、及びパターン形成方法 |
JP2002351079A (ja) * | 2001-05-24 | 2002-12-04 | Fuji Photo Film Co Ltd | ポジ型レジスト組成物 |
JP2003270788A (ja) * | 2002-03-15 | 2003-09-25 | Jsr Corp | 感放射線性樹脂組成物 |
JP2004210917A (ja) * | 2002-12-27 | 2004-07-29 | Jsr Corp | (メタ)アクリル系重合体および感放射線性樹脂組成物 |
JP2004220009A (ja) * | 2002-12-28 | 2004-08-05 | Jsr Corp | 感放射線性樹脂組成物 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US7312294B2 (en) | 2007-12-25 |
JPWO2005058854A1 (ja) | 2007-12-13 |
WO2005058854A1 (ja) | 2005-06-30 |
US20070117944A1 (en) | 2007-05-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6369181B1 (en) | Copolymer resin, preparation thereof, and photoresist using the same | |
JP5624759B2 (ja) | 重合性化合物及びそれを用いて得られる高分子化合物 | |
JP5030474B2 (ja) | 半導体リソグラフィー用樹脂組成物 | |
JP4107946B2 (ja) | フルオロ化されたエチレングリコール基を有する感光性ポリマー及びこれを含む化学増幅型レジスト組成物 | |
JP2002145955A (ja) | フォトレジスト用高分子化合物及びフォトレジスト用樹脂組成物 | |
CN102731715B (zh) | 包括新丙烯酸系单体的光刻胶用共聚物和包括其的光刻胶用树脂合成物 | |
JP3943268B2 (ja) | 共重合体樹脂及び共重合体樹脂を含むフォトレジスト組成物 | |
JP4924795B2 (ja) | ノルボルナンラクトン系(メタ)アクリレートおよびその重合体 | |
JP3642316B2 (ja) | 化学増幅レジスト用単量体、化学増幅レジスト用重合体、化学増幅レジスト組成物、パターン形成方法 | |
JP2616250B2 (ja) | 有橋環式炭化水素アルコールおよび感光性材料用中間化合物 | |
JP4126342B2 (ja) | 放射線感受性組成物用酸無水物含有ポリマーの新規な製造法 | |
KR100740803B1 (ko) | 불소가 함유된 비닐 에테르 및 이들의 중합체와 상기중합체를 이용한 레지스트 조성물 | |
US6277538B1 (en) | Photosensitive polymer having cyclic backbone and resist composition comprising the same | |
JP3963724B2 (ja) | フォトレジスト用高分子化合物の製造方法、及びフォトレジスト用樹脂組成物 | |
US6720430B2 (en) | Monomer for chemical amplified photoresist compositions | |
CN111902437A (zh) | 新型二官能(甲基)丙烯酸酯化合物和聚合物 | |
KR100403626B1 (ko) | 다중환 구조의 에테르 모노머와 이로부터 얻어지는 감광성폴리머 및 화학증폭형 레지스트 조성물 | |
KR20020078485A (ko) | 화학증폭형 네가티브 포토레지스트용 단량체, 중합체 및포토레지스트 조성물 | |
JPH09197674A (ja) | 化学増幅形レジスト用のベース樹脂およびその製造方法 | |
CN114080404A (zh) | 聚合物及其制造方法以及抗蚀剂用树脂组合物 | |
JP2005068342A (ja) | ラクトン骨格含有フォトレジスト用ポリマー及びラクトン骨格含有フォトレジスト用ポリマー溶液 | |
JP6287552B2 (ja) | レジスト用共重合体、およびレジスト用組成物 | |
KR19990065461A (ko) | 포토레지스트용 공중합체 및 그 제조방법 | |
KR20030021907A (ko) | 플루오르 치환된 알킬 에스테르를 가지는 피라닐 에테르구조로 이루어지는 감광성 폴리머 및 이를 포함하는레지스트 조성물 | |
Ogata et al. | Scissionable polymer resists for extreme ultraviolet lithography |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20071130 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100907 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110727 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110826 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20111019 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20111216 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120118 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120124 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150217 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 4924795 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |