JP4922856B2 - 気密パッケージ、角速度センサ及び気密パッケージの製造方法 - Google Patents
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Description
また、本発明に係る気密パッケージの製造方法は、上記本発明の気密パッケージの製造方法であって、前記半導体基板側隔壁及びリッド基板側隔壁は、金及びスズまたは銀及びスズからなる合金からなり、前記接合工程において、前記半導体基板と前記リッド基板とを前記合金の共晶反応における共晶点以上の温度で接触させることで、前記半導体基板側隔壁と前記リッド基板側隔壁を塑性変形させるとともに溶融させて前記隔壁を形成することを特徴とするものである。
本発明にかかる気密パッケージの製造方法においては、金及びスズの合金は約270℃以上で、銀及びスズの合金は約250℃以上で共晶反応し、溶融するので、機能部に損傷を与えない温度で半導体基板とリッド基板とを接合することができる。また、半導体基板の材料としてシリコンを選択し、リッド基板の材料としてホウ珪酸ガラスを選択すると、両基板の熱膨張率がおよそ300℃で一致するので、300℃に加熱すると、基板の反りを発生させることなく半導体基板とリッド基板とを接合させるとともに隔壁が共晶反応によって溶融しながら半導体基板及びリッド基板に密着するので、格納室と貯留室の間をより確実に気密に保つことができる。
防ぎ、格納室内を所定の減圧雰囲気または所定のガス雰囲気に保って高性能化された気密パッケージを得ることができる。
以下、本発明に係る第1実施形態を、図1及び図2を参照して説明する。
次に、本発明に係る第2実施形態を、図4を参照して説明する。なお、この第2実施形態においては、第1実施形態における構成要素と同一の部分については、同一の符号を付してその説明を省略する。
次に、本発明にかかる第3実施形態を、図6を参照して説明する。なお、この第3実施形態においては、第1実施形態及び第2実施形態における構成要素と同一の部分については、同一の符号を付してその説明を省略する。
次に、本発明にかかる第4実施形態を、図8を参照して説明する。なお、この第4実施形態においては、第1実施形態から第3実施形態における構成要素と同一の部分については、同一の符号を付してその説明を省略する。
図8(b)は半導体基板2とリッド基板3とを接合し、気密パッケージ1を形成した状態を示している。半導体基板側隔壁9とリッド基板側隔壁10をあわせた厚さが貯留室6の深さよりも厚くなるように形成すると、半導体基板側隔壁9とリッド基板側隔壁10とが互いに塑性変形しながら密着して格納室5と貯留室6の間を気密に保つことができる。
次に、本発明に係る第5実施形態を、図13及び図14を参照して説明する。
2 半導体基板
3 リッド基板
4 フレーム
5 格納室
6 貯留室
7 隔壁
8 酸素分子
9 半導体基板側隔壁
10 リッド基板側隔壁
21 角速度センサ
22 半導体基板
23 活性層
24 支持層
25 埋め込み酸化膜層
26 上部リッド基板
27 下部リッド基板
28 格納室
29 錘
30 バネ
31 アイランド
32 フレーム
33 駆動電極
34 検出電極
35 貫通孔
36 外部電極
37,37A 貯留室
38,38A 隔壁
39 上部センサギャップ
40 下部センサギャップ
51 従来の気密パッケージ
52 半導体基板
53 リッド基板
54 外枠
55 格納室
56 機能部
57 貯留室
58 外枠とリッド基板の接合界面から発生する酸素分子
59 内枠
60 内枠とリッド基板の接合界面から発生する酸素分子
Claims (12)
- アルカリ金属を含むガラスからなるリッド基板と、枠状に形成されたフレームを有し、前記リッド基板に陽極接合される半導体基板と、前記リッド基板及び前記フレームによって囲まれて気密状態に保持されるとともに機能部を格納する格納室と、を有する気密パッケージであって、
平面視で前記格納室を囲むように設けられ、前記半導体基板又は前記リッド基板の何れか一方の基板の表面を除去して形成された貯留室と、
前記リッド基板と前記半導体基板とを陽極接合により上下に接合する上で、前記貯留室と当該貯留室の形成された基板と対向する基板の表面とを上下にわたって接続するように設けられることで前記格納室と前記貯留室とを隔て、前記陽極接合時には陽極接合反応しない材料からなる隔壁と、を備えることを特徴とする気密パッケージ。 - 請求項1に記載の気密パッケージであって、
前記隔壁は、前記半導体基板に設けられた半導体基板側隔壁と前記リッド基板に設けられたリッド基板側隔壁とが接続されてなる場合、当該半導体基板側隔壁とリッド基板側隔壁のうち少なくともいずれか一方を前記陽極接合時に他方の隔壁と共晶反応する合金、又は前記リッド基板にのみ設けられ先端が前記半導体基板の表面と接続される場合、前記陽極接合時に前記半導体基板を構成する材料と共晶反応する材料の何れかであって、前記共晶反応における共晶点以上の温度で溶融されてなることを特徴とする気密パッケージ。 - 請求項2に記載の気密パッケージであって、
前記共晶反応する合金は金及びスズまたは銀及びスズからなる合金であることを特徴とする気密パッケージ。 - 請求項2又は3に記載の気密パッケージであって、
前記隔壁が前記半導体基板に設けられた半導体基板側隔壁と前記リッド基板に設けられたリッド基板側隔壁とが接続されてなる場合、
前記半導体基板側隔壁は前記リッド基板側隔壁よりも硬い材料で且つ細く形成されており、
前記半導体基板側隔壁と前記リッド基板側隔壁とは、前記半導体基板側隔壁の先端が前記リッド基板側隔壁の内部に嵌入されることで密接した状態で接続されることを特徴とする気密パッケージ。 - アルカリ金属を含むガラスからなるリッド基板と、枠状に形成されたフレームを有する半導体基板と、前記リッド基板及び前記フレームによって囲まれて気密状態に保持されるとともに機能部を格納する格納室と、を有する気密パッケージの製造方法であって、
前記半導体基板に貯留室と隔壁と格納室とを形成する半導体基板形成工程と、
前記リッド基板と前記半導体基板とを接合する接合工程と、を備え、
前記半導体基板形成工程において前記貯留室は前記半導体基板の表面を除去して平面視で前記格納室を囲むように設けられ、前記隔壁は前記貯留室の底部に該貯留室と前記格納室とを隔て且つ前記貯留室の深さよりも長くなるように設けられ、
前記接合工程において前記半導体基板と前記リッド基板とを加圧して接触させることで前記隔壁を塑性変形させつつ該半導体基板及び該リッド基板に密着させ、次いで該半導体基板を陽極とし該リッド基板を陰極として電圧を印加し、陽極接合法によって該半導体基板と該リッド基板とを接合させることを特徴とする気密パッケージの製造方法。 - アルカリ金属を含むガラスからなるリッド基板と、枠状に形成されたフレームを有する半導体基板と、前記リッド基板及び前記フレームによって囲まれて気密状態に保持されるとともに機能部を格納する格納室と、を有する気密パッケージの製造方法であって、
前記半導体基板に貯留室と格納室とを形成する半導体基板形成工程と、
前記リッド基板に隔壁を形成するリッド基板形成工程と、
前記リッド基板と前記半導体基板とを接合する接合工程と、を備え、
前記半導体基板形成工程において前記貯留室は前記半導体基板の表面を除去して平面視で前記格納室を囲むように設けられ、
前記リッド基板形成工程において、前記隔壁は前記リッド基板と前記半導体基板とを接合する際に前記貯留室の底部と相対する位置であって、前記貯留室と前記格納室とを隔て且つ前記貯留室の深さよりも長くなるように設けられ、
前記接合工程において前記半導体基板と前記リッド基板とを加圧して接触させることで前記隔壁を塑性変形させつつ前記貯留室の底部及び該リッド基板に密着させ、次いで該半導体基板を陽極とし該リッド基板を陰極として電圧を印加し、陽極接合法によって該半導体基板と該リッド基板とを接合させることを特徴とする気密パッケージの製造方法。 - アルカリ金属を含むガラスからなるリッド基板と、枠状に形成されたフレームを有する半導体基板と、前記リッド基板及び前記フレームによって囲まれて気密状態に保持されるとともに機能部を格納する格納室と、を有する気密パッケージの製造方法であって、
前記半導体基板に格納室を形成する半導体基板形成工程と、
前記リッド基板に貯留室と隔壁とを形成するリッド基板形成工程と、
前記リッド基板と前記半導体基板とを接合する接合工程と、を備え、
前記リッド基板形成工程において前記貯留室は前記リッド基板の表面を除去して平面視で前記格納室を囲むように設けられ、前記隔壁は前記貯留室の底部に前記貯留室と前記格納室とを隔て且つ前記貯留室の深さよりも長くなるように設けられ、
前記接合工程において前記半導体基板と前記リッド基板とを加圧して接触させることで前記隔壁を塑性変形させつつ前記貯留室の底部及び該リッド基板に密着させ、次いで該半導体基板を陽極とし該リッド基板を陰極として電圧を印加し、陽極接合法によって該半導体基板と該リッド基板とを接合させることを特徴とする気密パッケージの製造方法。 - 請求項6又は7に記載の気密パッケージの製造方法であって、
前記隔壁は、前記半導体基板を構成する材料と共晶反応する材料であって、前記共晶反応における共晶点以上の温度で溶融する材料からなり、
前記接合工程において、前記共晶点以上の温度で前記半導体基板と前記リッド基板とを接触させて前記隔壁を該半導体基板に密着させることを特徴とする気密パッケージの製造方法。 - アルカリ金属を含むガラスからなるリッド基板と、枠状に形成されたフレームを有する半導体基板と、前記リッド基板及び前記フレームによって囲まれて気密状態に保持されるとともに機能部を格納する格納室と、を有する気密パッケージの製造方法であって、
前記半導体基板または前記リッド基板の少なくとも一方に貯留室を形成する貯留室形成工程と、
前記半導体基板に半導体基板側隔壁と格納室とを形成する半導体基板形成工程と、
前記リッド基板にリッド基板側隔壁を形成するリッド基板形成工程と、
前記リッド基板と前記半導体基板とを接合する接合工程と、を備え、
前記貯留室形成工程において前記貯留室は前記半導体基板または前記リッド基板の少なくとも一方の表面を除去して平面視で前記格納室を囲むように設けられ、
前記半導体基板形成工程において、前記半導体基板側隔壁は平面視で前記格納室を囲むように設けられ、
前記リッド基板形成工程において、前記リッド基板側隔壁は平面視で前記格納室を囲み、前記リッド基板と前記半導体基板とを接合する際に前記半導体基板側隔壁と相対する位置に設けられ、
前記半導体基板側隔壁は、前記リッド基板側隔壁よりも硬い材料からなり、該リッド基板側隔壁よりも細く形成され、前記リッド基板側隔壁の長さを加算した長さが前記貯留室の深さよりも長くなるように設けられ、
前記接合工程において前記半導体基板と前記リッド基板とを加圧して接触させることで前記半導体基板側隔壁と前記リッド基板側隔壁を塑性変形させて前記半導体基板側隔壁の先端を前記リッド基板側隔壁の内部に嵌入し、当該半導体基板側隔壁とリッド基板側隔壁とを密接させて前記貯留室と前記格納室とを隔てる隔壁を形成し、次いで該半導体基板を陽極とし該リッド基板を陰極として電圧を印加し、陽極接合法によって該半導体基板と該リッド基板とを接合させることを特徴とする気密パッケージの製造方法。 - 請求項9に記載の気密パッケージの製造方法であって、
前記半導体基板側隔壁及びリッド基板側隔壁は、金及びスズまたは銀及びスズからなる合金からなり、
前記接合工程において、前記半導体基板と前記リッド基板とを前記合金の共晶反応における共晶点以上の温度で接触させることで、前記半導体基板側隔壁と前記リッド基板側隔壁を塑性変形させるとともに溶融させて前記隔壁を形成することを特徴とする気密パッケージの製造方法。 - 請求項9に記載の気密パッケージの製造方法であって、
前記半導体基板形成工程において、前記半導体基板側隔壁はシリコンから形成され、
前記リッド基板形成工程において、前記リッド基板側隔壁は前記シリコンと共晶反応する金から形成され、
前記接合工程において、前記半導体基板と前記リッド基板とを前記共晶反応における共晶点である360℃以上の温度で接触させることで、前記半導体基板側隔壁と前記リッド基板側隔壁を塑性変形させるとともに溶融させて前記隔壁を形成することを特徴とする気密パッケージの製造方法。 - 請求項1から4のいずれか一項に記載の気密パッケージで構成される角速度センサであって、
前記機能部が前記フレームにバネを介して支持されて揺動自在に保持された錘であり、
前記錘を静電引力を利用して振動させる駆動電極と、
振動状態の前記錘が角速度を受けて変位したときに、該錘の変位を静電容量の変化として出力する検出電極とを備えていることを特徴とする角速度センサ。
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