JP4922376B2 - テンプレートの製造方法及び半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Description
図1〜図6は、第1の実施形態に係るテンプレートの製造方法を模式的に示した断面図である。図7〜図10は、第1の実施形態に係るテンプレートの製造方法を模式的に示した平面図である。
図11〜図16は、第2の実施形態に係るテンプレートの製造方法を模式的に示した断面図である。図17〜図19は、第2の実施形態に係るテンプレートの製造方法を模式的に示した平面図である。なお、第1の実施形態で説明した事項についての説明は省略する。
20、70、71…インプリント剤
30、80…子テンプレート(テンプレート基板)
60…識別パターン用テンプレート
100…デバイスパターン領域
200…識別パターン領域
Claims (9)
- デバイスパターン及び複数の識別パターンを有する第1のテンプレートを用意する工程と、
前記デバイスパターン及び少なくとも1つの所望の前記識別パターンをテンプレート基板に転写して第2のテンプレートを形成する工程と、
を備えたことを特徴とするインプリント用のテンプレートの製造方法。 - 前記複数の識別パターンは、前記デバイスパターンが形成されている領域の外側の領域に形成されている
ことを特徴とする請求項1に記載のテンプレートの製造方法。 - 前記第2のテンプレートを形成する工程は、
前記デバイスパターン及び前記少なくとも1つの所望の識別パターンを前記第1のテンプレートと前記テンプレート基板との間に介在したインプリント剤に転写してインプリント剤パターンを形成する工程と、
前記インプリント剤パターンをマスクとして用いて前記テンプレート基板をエッチングする工程と、
を含むことを特徴とする請求項1に記載のテンプレートの製造方法。 - 前記インプリント剤パターンを形成する工程は、
前記デバイスパターンが形成されている領域及び前記少なくとも1つの所望の識別パターンが形成されている領域に選択的にインプリント剤を供給する工程と、
前記選択的に供給されたインプリント剤を前記第1のテンプレートと前記テンプレート基板との間に介在させた状態で硬化させる工程と、
を含むことを特徴とする請求項3に記載のテンプレートの製造方法。 - デバイスパターンを有する第1のテンプレートを用意する工程と、
複数の識別パターンを有する第2のテンプレートを用意する工程と、
前記デバイスパターン及び少なくとも1つの所望の前記識別パターンをそれぞれテンプレート基板に転写して第3のテンプレートを形成する工程と、
を備えたことを特徴とするインプリント用のテンプレートの製造方法。 - 前記デバイスパターン及び前記識別パターンは、テンプレート基板に転写されたデバイスパターン及び識別パターンが互いに干渉しないように設けられている
ことを特徴とする請求項5に記載のテンプレートの製造方法。 - 前記第3のテンプレートを形成する工程は、
前記デバイスパターンを前記第1のテンプレートと前記テンプレート基板との間に介在したインプリント剤に転写し且つ前記少なくとも1つの所望の識別パターンを前記第2のテンプレートと前記テンプレート基板との間に介在したインプリント剤に転写してインプリント剤パターンを形成する工程と、
前記インプリント剤パターンをマスクとして用いて前記テンプレート基板をエッチングする工程と、
を含むことを特徴とする請求項5に記載のテンプレートの製造方法。 - 前記インプリント剤パターンを形成する工程は、
前記デバイスパターンが形成されている領域に選択的にインプリント剤を供給する工程と、
前記デバイスパターンが形成されている領域に選択的に供給されたインプリント剤を前記第1のテンプレートと前記テンプレート基板との間に介在させた状態で硬化させる工程と、
前記少なくとも1つの所望の識別パターンが形成されている領域に選択的にインプリント剤を供給する工程と、
前記少なくとも1つの所望の識別パターンが形成されている領域に選択的に供給されたインプリント剤を前記第2のテンプレートと前記テンプレート基板との間に介在させた状態で硬化させる工程と、
を含むことを特徴とする請求項7に記載のテンプレートの製造方法。 - 請求項1又は5の方法によって製造されたテンプレートに形成されたパターンを半導体基板に転写する工程を備えた
ことを特徴とする半導体装置の製造方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009218107A JP4922376B2 (ja) | 2009-09-18 | 2009-09-18 | テンプレートの製造方法及び半導体装置の製造方法 |
US12/883,935 US8663895B2 (en) | 2009-09-18 | 2010-09-16 | Method for manufacturing template and method for manufacturing semiconductor device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009218107A JP4922376B2 (ja) | 2009-09-18 | 2009-09-18 | テンプレートの製造方法及び半導体装置の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011063004A JP2011063004A (ja) | 2011-03-31 |
JP4922376B2 true JP4922376B2 (ja) | 2012-04-25 |
Family
ID=43755737
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009218107A Active JP4922376B2 (ja) | 2009-09-18 | 2009-09-18 | テンプレートの製造方法及び半導体装置の製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8663895B2 (ja) |
JP (1) | JP4922376B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5750992B2 (ja) * | 2011-04-27 | 2015-07-22 | 大日本印刷株式会社 | インプリント方法およびそれを実施するためのインプリント装置 |
FR3029433B1 (fr) * | 2014-12-04 | 2017-01-13 | Commissariat Energie Atomique | Procede de transfert d'au moins une partie d'un film composite sur une membrane souple en polymere |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4667559B2 (ja) * | 2000-05-30 | 2011-04-13 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置、フォトマスクおよび半導体装置の製造方法 |
US7686970B2 (en) * | 2004-12-30 | 2010-03-30 | Asml Netherlands B.V. | Imprint lithography |
US7771917B2 (en) * | 2005-06-17 | 2010-08-10 | Micron Technology, Inc. | Methods of making templates for use in imprint lithography |
CN1928711B (zh) * | 2005-09-06 | 2010-05-12 | 佳能株式会社 | 模具、压印方法和用于生产芯片的工艺 |
CA2639982A1 (en) * | 2006-01-24 | 2007-08-02 | Mycrolab Pty Ltd | Stamping methods and devices |
US7998651B2 (en) * | 2006-05-15 | 2011-08-16 | Asml Netherlands B.V. | Imprint lithography |
JP2008132722A (ja) * | 2006-11-29 | 2008-06-12 | Toshiba Corp | ナノインプリント用モールドおよびその作成方法、ならびにデバイスの製造方法 |
JP4810496B2 (ja) | 2007-04-25 | 2011-11-09 | 株式会社東芝 | パターン形成装置、パターン形成方法及びテンプレート |
JP2009098460A (ja) * | 2007-10-17 | 2009-05-07 | Sony Corp | 成形体、電子機器および真贋判定方法 |
US20100022036A1 (en) * | 2008-07-25 | 2010-01-28 | Ikuo Yoneda | Method for forming pattern, and template |
-
2009
- 2009-09-18 JP JP2009218107A patent/JP4922376B2/ja active Active
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2010
- 2010-09-16 US US12/883,935 patent/US8663895B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20110068083A1 (en) | 2011-03-24 |
JP2011063004A (ja) | 2011-03-31 |
US8663895B2 (en) | 2014-03-04 |
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