JP4920662B2 - 誘導加熱調理器 - Google Patents

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Description

本発明は、赤外線センサ及びサーミスタを用いて鍋の温度を検出遅れなく正確に検出する誘導加熱調理器に関するものである。
従来の誘導加熱調理器として、鍋材質検知手段と、被加熱物の放射エネルギー量で温度を検知する温度検知手段と、鍋材質検知手段によって検知した被加熱物の材質に応じて温度検知手段の検知した値を補正し、出力制御を行うものがある(例えば、特許文献1参照)。
特開2005−078993号公報(第5頁、図1)
一般的な誘導加調理器は天板下にサーミスタが設置されており、鍋底温度がサーミスタによって天板を介して検出され、その検出された温度を基に鍋温度を所定の温度に制御するフィードバック制御や異常な温度上昇を検知して鍋空焼き防止等の制御を行っている。しかしながら、鍋の温度を天板を介して検出しているため、応答遅れがあるという問題点があり、鍋底が反っている鍋は天板と鍋底との間に空間ができ正確な温度検出ができないという問題点もある。
また、特許文献1で示されるように、天板下に設置された赤外線センサによって鍋の放射する赤外線を受光して温度検出する方法が提案されているが、ガラス製の天板で赤外線がカットされるために正確な温度が検出できないという問題点がある。
さらに、鍋の材質の種類によって赤外線の放射率が異なるため、特許文献1においては鍋材質に基づいて放射率を補正しようとしている。しかしながら、図3で示されるように同じ材質でも表面状態によって放射率が異なる。例えば、鏡面仕上げの鉄の放射率が0.21であるのに対して、錆によって鏡面状態が失われると放射率は0.69となる。このため、材質判定のみでは正確な温度を検出することができないという問題点がある。
本発明は、上記のような問題を解決するためになされたものであり、第1の目的は、トッププレートの上側に設置された赤外線センサによって、鍋側面から直接、赤外線を受光し、応答の早い正確な温度検出を可能とするものである。第2の目的は、赤外線センサによって受光される赤外線量に基づいて算出される鍋の側面温度と、サーミスタによって検出される鍋の底面温度を、比較して選択することによって、正確な温度を検出するものである。
本発明に係る誘導加熱調理器は、鍋を載置するトッププレートと、該トッププレートの下方に設けられ、前記鍋を加熱する加熱コイルと、交流電圧を高周波電圧に変換して前記加熱コイルに高周波電流を流す駆動回路と、前記駆動回路の入力又は出力電力を測定する駆動回路電力測定手段と、前記加熱コイルの電流を測定する加熱コイル電流測定手段と、前記トッププレートの下方に設けられ、鍋底面温度を前記トッププレートを介して検出するサーミスタと、前記トッププレートより上側に設けられ、前記鍋の側面から放射される赤外線を受光する赤外線センサと、該赤外線センサが受光した赤外線量から鍋側面温度を算出する温度算出部と、前記駆動回路を制御して、前記鍋に対する加熱量を制御する制御部と、を備え、前記制御部は、前記加熱コイルによる加熱開始時に、前記駆動回路電力測定手段によって測定された前記駆動回路の入力又は出力電力と、前記加熱コイル電流測定手段によって測定された前記加熱コイルの電流との比から鍋材質を判定し、前記鍋材質がステンレスであると判定した場合は、前記温度算出部に前記鍋が取りうる放射率の最小値近傍の固定値に基づいて前記鍋側面温度を算出させ、該鍋側面温度が前記サーミスタによって検出された前記鍋底面温度よりも所定値以上高い場合は、前記鍋底面温度に基づき、そうでない場合は、前記鍋側面温度に基づいて前記鍋の温度制御を実施し、前記鍋材質がステンレス以外であると判定した場合は、前記温度算出部に前記鍋が取りうる放射率の最大値近傍の固定値に基づいて前記鍋側面温度を算出させ、該鍋側面温度と前記サーミスタによって検出された前記鍋底面温度とを比較して高い方の温度に基づいて前記鍋の温度制御を実施することを特徴とする。
赤外線センサをトッププレートより上側に設置することによって、鍋から放射される赤外線をカットされることなく受光することができ、正確な温度検出が可能となる。
また、鍋放射率を固定値とし、赤外線センサが受光した赤外線量に基づいて算出された鍋の側面温度と、サーミスタによって検出された鍋の底面温度の高い方を採用することによって、同じ材質でもその表面状態によって放射率が異なる鍋においても、正確な温度検出が可能となる。
さらに、非鏡面の塗装鍋等の放射率が高い鍋については、赤外線センサによって受光した赤外線量に基づいて算出された鍋の側面温度が採用されることで、サーミスタに比べて応答遅れがなく、正確な温度検出が可能となる。
また、鏡面鍋等の放射率が低い鍋については、サーミスタによって検出された鍋底面温度が採用されることで、従来と同じ精度で温度検出が可能となる。
実施の形態1.
図1は、本発明の実施の形態1に係る誘導加熱調理器の概略構成図である。
実施の形態1に係る誘導加熱調理器において、被加熱物である鍋1は、トッププレート3の上に載置されている。そのトッププレート3を介して鍋1を加熱する加熱コイル4は、トッププレート3の下方に設けられている。その加熱コイル4は、駆動回路6に接続されており、その駆動回路6は制御回路8に接続されている。
トッププレート3の下方には、そのトッププレート3を介して鍋1の底面温度(以下、鍋底面温度という)を検出するサーミスタ5が設置されており、そのサーミスタ5は、制御回路8に接続されている。そして、トッププレート3より上側には鍋1の側面から放射される赤外線を受光する赤外線センサ2が設置されている。その赤外線センサ2は、受光した赤外線量に基づいて鍋1の側面温度(以下、鍋側面温度という)を算出する温度算出部7に接続されており、その温度算出部7は、制御回路8に接続されている。なお、赤外線センサ2は、温度センサ(図示せず)を内蔵しており、赤外線センサ2自体の温度情報を出力できる。
次に、図1を参照しながら、実施の形態1に係る誘導加熱調理器の基本的な動作について説明する。
使用者は、被加熱物である鍋1をトッププレート3の上に載置する。その後、使用者は、誘導加熱調理器本体に設置されている操作パネル(図示せず)を操作することによって、その操作情報が制御回路8に出力される。その操作情報を入力した制御回路8は、駆動回路6に加熱指令を出力する。その加熱指令を入力した駆動回路6は、加熱コイル4に高周波電流を流し、その加熱コイル4によって鍋1の加熱が開始される。そして、鍋1の加熱が開始されると、トッププレート3の下方に設置されているサーミスタ5は、そのトッププレート3を介して鍋底面温度を検出し、その鍋底面温度情報を制御回路8に出力する。また、トッププレート3の上側に設置されている赤外線センサ2は、鍋1の側面から放射される赤外線を受光し、その赤外線量を温度算出部7に出力する。そして、温度算出部7は、入力した赤外線量に基づいて鍋側面温度を算出し、その鍋側面温度情報を制御回路8に出力する。制御回路8は、入力した鍋底面温度情報及び鍋側面温度情報に基づいて、鍋1に対する加熱制御を実施する。
図2は、本発明の実施の形態1に係る誘導加熱調理器の温度制御動作を示すフローチャート図であり、図3は、鍋を構成する材質の放射率表である。以下、図1〜図3を参照しながら実施の形態1に係る誘導加熱調理器の温度制御動作について説明する。
駆動回路6が、制御回路8から出力された加熱指令に従って、加熱コイル4に高周波電流を流すことによって、鍋1への誘導加熱が開始されると、温度算出部7は、赤外線センサ2が受光した鍋1の側面から放射される赤外線量P及びその赤外線センサ2に内蔵された温度センサによって検出された赤外線センサ2自体の温度Toを読み込む(ステップS11)。鍋1の赤外線放射率(以下、鍋放射率という)をε、ステファン・ボルツマン定数をσ、そして、鍋側面温度をTaとすると、赤外線量P=σ(εTa^4−εTo^4)となる。この式に基づいて、温度算出部7は、鍋側面温度Taを算出し、その鍋側面温度Taを制御回路8に出力する(ステップS12)。図3で示されるように、ラッカー及びペンキの放射率は0.92〜0.97である。鉄鍋は塗装が施されているため、放射率はラッカー又はペンキと同じ値をとる。それを踏まえてステップS12においては、鍋放射率εを0.94の固定値として鍋側面温度Taを算出する。そして、サーミスタ5によって検出される鍋底面温度Tbを読み込む(ステップS13)。
次に、鍋側面温度Taと鍋底面温度Tbとを比較する(ステップS14)。その比較の結果、高い方の温度を温度制御において使用する鍋温度Tsとする(ステップS15、S16)。
その後、鍋温度Tsと目標温度Tobjとを比較し(ステップS17)、目標温度Tobjが高ければ、加熱コイル4に流れる高周波電流を増加させて鍋温度Tsを目標温度Tobjに近づける(ステップS18)。また、目標温度Tobjが低ければ、加熱コイル4に流れる高周波電流を停止して鍋温度Tsを目標温度Tobjになるようにする(ステップS19)。この動作を加熱停止まで繰り返す。
以上のような構成及び動作によって、赤外線センサ2をトッププレート3より上側に設置することによって、鍋1から放射される赤外線をカットされることなく受光することができ、正確な温度検出が可能となる。
また、鍋放射率εを0.94の固定値とし、赤外線センサ2が受光した赤外線量Pに基づいて温度算出部7によって算出された鍋側面温度Taと、サーミスタ5によって検出された鍋底面温度Tbの高い方を採用することによって、同じ材質でもその表面状態によって放射率が異なる鍋においても、正確な温度検出が可能となる。
さらに、非鏡面の塗装鍋等の鍋放射率εが高い鍋1については、赤外線センサ2によって受光した赤外線量Pに基づいて温度算出部7によって算出された鍋側面温度Taが採用されることで、サーミスタ5に比べて応答遅れがない正確な温度検出が可能となる。
また、鏡面鍋等の鍋放射率εが低い鍋1については、サーミスタ5によって検出された鍋底面温度Tbが採用されることで、従来と同じ精度で温度検出が可能となる。
なお、実施の形態1において、温度算出部7は、赤外線センサ2と別体として互いに接続されている構成となっているが、これに限定するものではなく、赤外線センサ2と一体となったものとして構成されるものとしてもよい。また、赤外線センサ2は、直接、制御回路8に接続され、その赤外線センサ2が受光した赤外線量Pに基づいて、制御回路8が鍋側面温度を算出する構成としてもよい。
実施の形態2.
図4は、本発明の実施の形態2に係る誘導加熱調理器の概略構成図である。以下、前述の実施の形態1のものとは相違する構成及び動作について説明する。
図1で示される実施の形態1に係る誘導加熱調理器に対して、図4で示される実施の形態2に係る誘導加熱調理器においては、10〜13が新たに加えられている。交流電源10と駆動回路6との間に、駆動回路6の入力電流を検出する電流センサ11、及び、その入力電圧を検出する電圧センサ12が接続されている。その電流センサ11及び電圧センサ12は、制御回路8に接続されており、それぞれ、駆動回路6に対する入力電流及び入力電圧情報を制御回路8に出力する。また、駆動回路6と加熱コイル4との間に、駆動回路6の出力電流であって加熱コイル4に流れる高周波電流を検出する電流センサ13が接続されている。その電流センサ13は、制御回路8に接続されており、加熱コイル4に流れる高周波数電流情報を制御回路8に出力する。
図5は、本発明の実施の形態2に係る誘導加熱調理器の温度制御動作を示すフローチャート図である。以下、図4及び図5を参照しながら実施の形態2に係る誘導加熱調理器の温度制御動作について説明する。
駆動回路6が、制御回路8から出力された加熱指令に従って、加熱コイル4に高周波電流を流すことによって、鍋1への誘導加熱が開始されると、制御回路8は、電流センサ11及び電圧センサ12によって検出された駆動回路6の入力電流及び入力電圧を読み込み、入力電力Wを演算する(ステップS21)。そして、電流センサ13によって検出された駆動回路6の出力電流である加熱コイル電流Icを読み込む(ステップS22)。ここで、入力電力W及び加熱コイル電流Icに基づいて、加熱コイル4側から見た鍋インピーダンスZを演算する(ステップS23)。さらに、温度算出部7は、赤外線センサ2が受光した鍋1の側面から放射される赤外線量P及びその赤外線センサ2に内蔵された温度センサによって検出された赤外線センサ2自体の温度Toを読み込む(ステップS24)。
次に、制御回路8は、鍋インピーダンスZが所定値αより大きいかどうかを判定する(ステップS25)。誘導加熱可能な鍋1の材質としては、鉄とステンレス等があり、その中でも磁性ステンレス材は加熱コイル4から見た鍋インピーダンスZが最も大きくなるので、鍋インピーダンスZが所定値αより大きければ、鍋1は磁性ステンレス材であると判定してステップS31〜ステップS35を実施する。それに対して、鍋インピーダンスZが所定値α以下であれば、ステップS26〜ステップS30を実施する。ステップS26〜ステップS30においては、実施の形態1で示されるように、温度算出部7は、鍋放射率εを0.94の固定値として鍋側面温度Taを算出し、その鍋側面温度Taを制御回路8に出力する(ステップS26)。そして、サーミスタ5によって検出される鍋底面温度Tbを読み込み(ステップS27)、両者を比較して温度の高い方の温度を温度制御において使用する鍋温度Tsとする(ステップS28〜ステップS30)ものである。一方、ステップS31〜ステップS35においては、まず、温度算出部7は、鍋放射率εを図3で示される放射率表からステンレス(研磨)の0.16として鍋側面温度Taを算出し、その鍋側面温度Taを制御回路8に出力する(ステップS31)。鍋1の放射率としては、鏡面か非鏡面かによって異なるが、ステンレスは錆びにくい特性のため、鍋として加工した場合、多くの場合、塗装が施されていない鏡面仕上げとなっている。このことから、鍋1の材質がステンレスである場合は、鍋放射率εとして0.16の固定値を採用できる。そして、サーミスタ5によって検出される鍋底面温度Tbを読み込む(ステップS32)。次に、鍋側面温度Taと鍋底面温度Tbとを比較する(ステップS33)。その比較の結果、鍋側面温度Taが鍋底面温度Tbから所定値βより高い場合は、鍋底面温度Tbを温度制御に使用する鍋温度Tsとし(ステップS35)、そうでない場合は、鍋側面温度Taを鍋温度Tsとする(ステップS34)。
その後、鍋温度Tsと目標温度Tobjとを比較して実施の形態1と同様に加熱コイル4に流れる高周波電流を制御する(ステップS36〜ステップS38)。この動作を加熱停止まで繰り返す。
以上のような構成及び動作において、鍋1が錆びにくい特性を持つステンレス材であるかどうかを判定し、ステンレス材である場合には、鍋放射率εを0.16の固定値として鍋側面温度Taを算出することで、鏡面鍋であるステンレス材においても、赤外線センサ2を利用した鍋側面温度Taが採用されうることになり、サーミスタ5に比べて応答遅れのない正確な温度検出が可能となる。
また、塗装が施されて、放射率が高くなったステンレス材の鍋がトッププレート3に載置された場合は、鍋側面温度Taは実際の温度より高くなるが、鍋底面温度Tbよりも所定値β以上高くなった場合は、鍋底面温度Tbを採用するため、従来と同じ精度で温度検出が可能となる。
なお、実施の形態2において、電流センサ11及び電圧センサ12は、駆動回路6の入力側に接続され、その入力電流及び入力電圧を検出することによって、入力電力Wを演算する構成となっているが、これに限定するものではなく、両者が駆動回路6の出力側に接続され、その出力電流及び出力電圧を検出することによって、出力電力を演算し、この出力電力に基づいて鍋インピーダンスZを演算するものとしてもよい。
実施の形態3.
図6は、本発明の実施の形態3に係る誘導加熱調理器の温度制御動作を示すフローチャート図である。実施の形態3に係る誘導加熱調理器の構成は、図4で示される実施の形態2に係る誘導加熱調理器と同様である。以下、図4及び図6を参照しながら実施の形態3に係る誘導加熱調理器の温度制御動作について説明する。
駆動回路6が、制御回路8から出力された加熱指令に従って、加熱コイル4に高周波電流を流すことによって、鍋1への誘導加熱が開始されると、所定時間が経過したかどうかを判定する(ステップS41)。そして、所定時間経過していれば、ステップS42〜ステップS59を実施する。すなわち、ステップS42〜ステップS59は所定時間ごとに実施される。前述の所定時間経過後、まず、前回演算した駆動回路6の入力電力積算値Wtを前回入力電力積算値Wtoldとして記憶する(ステップS42)。なお、鍋1への誘導加熱の開始後、初めてステップS42を実施する場合は、前回入力電力積算値Wtoldにはゼロが記憶される。そして、電流センサ11及び電圧センサ12によって検出された駆動回路6の入力電圧及び入力電流を読み込み、新たな入力電力Wを演算し、この入力電力Wに、ステップS41における所定時間を乗じて入力電力積算値Wtを演算する(ステップS43)。
次に、前回、温度算出部7によって算出された鍋側面温度Taを前回鍋側面温度Taoldとして記憶する(ステップS44)。なお、初めてこの処理を実施する場合は、後述するステップS46において算出される鍋側面温度Taと同じ値を前回鍋側面温度Taoldに記憶する。ここで、温度算出部7は、赤外線センサ2が受光した鍋1の側面から放射される赤外線量P及びその赤外線センサ2に内蔵された温度センサによって検出された赤外線センサ2自体の温度Toを読み込む(ステップS45)。そして、温度算出部7は、鍋放射率εを0.94の固定値として鍋側面温度Taを算出し、その鍋側面温度Taを制御回路8に出力する(ステップS46)。次に、前回、サーミスタ5によって検出された鍋底面温度Tbを前回鍋底面温度Tboldとして記憶する(ステップS47)。なお、初めてこの処理を実施する場合は、後述するステップS48において、サーミスタ5によって検出される鍋底面温度Tbと同じ値を前回鍋底面温度Tboldに記憶する。ここで、サーミスタ5によって検出される鍋底面温度Tbを読み込む(ステップS48)。
次に、鍋側面温度Taが、鍋底面温度Tbから所定値Aの範囲に入っているかどうかの判定を行う(ステップS49)。その判定の結果、その範囲に入っていない場合は、鍋底面温度Tbを温度制御において使用する鍋温度Tsとする(ステップS56)。これによって、赤外線センサ2の受光面が汚れること等によって赤外線の受光量が低下して実際の温度より低く検出される場合や、赤外線センサ2に外光が入り込むことによって、実際の温度より高く検出される場合は、サーミスタ5によって検出される鍋底面温度Tbによる温度制御に切り換えることができる。一方、その範囲に入っている場合は、前回入力電力積算値Wtold及び今回の入力電力積算値Wtに基づいて所定時間内に増加した電力積算量を演算し、さらに、これに基づいて、温度上昇推定幅ΔTkを図7から求める(ステップS50)。ここで、図7は、増加した電力積算量と温度上昇推定幅ΔTkの相関直線を示す図である。次に、前回からの鍋側面温度Taの上昇値(Ta−Taold)と温度上昇推定幅ΔTkとを比較する(ステップS51)。その比較の結果、上昇値(Ta−Taold)が、温度上昇推定幅ΔTkより低い場合は、鍋底面温度Tbを温度制御において使用する鍋温度Tsとする(ステップS56)。これによって、赤外線センサ2の受光面が汚れること等によって赤外線の受光量が低下したり、鍋1と赤外線センサ2の間に障害物が置かれる等によって、実際よりも温度上昇値が低く検出される場合は、サーミスタ5によって検出される鍋底面温度Tbによる温度制御に切り換えることができる。一方、上昇値(Ta−Taold)が、温度上昇推定幅ΔTkより低くない場合は、前回からの鍋底面温度Tbの上昇値(Tb−Tbold)とΔTkとを比較する(ステップS52)。その比較の結果、上昇値(Tb−Tbold)が、温度上昇推定幅ΔTkより低い場合は、サーミスタ5が異常であると判定し、駆動回路6を介して加熱コイル4への通電を停止するとともに、使用者に報知する(ステップS53)。これによって、サーミスタ5の異常を検知して加熱コイル4の通電を止めることによって鍋1が異常に加熱されるのを防止できる。一方、上昇値(Tb−Tbold)が、温度上昇推定幅ΔTkより低くない場合は、鍋側面温度Taと鍋底面温度Tbとを比較する(ステップS54)。その比較の結果、高い方の温度を温度制御において使用する鍋温度Tsとする(ステップS55、S56)。
その後、鍋温度Tsと目標温度Tobjとを比較して実施の形態1と同様に加熱コイル4に流れる高周波電流を制御する(ステップS57〜ステップS59)。この動作を加熱停止まで繰り返す。
以上のような構成及び動作によって、実施の形態1に係る効果に加え、赤外線センサ2の汚れや鍋1と赤外線センサ2との間に置かれた障害物等によって鍋側面温度Taが正確に算出できない場合は、速やかにサーミスタ5によって検出される鍋底面温度Tbによる温度制御に切り換えることができる。
また、サーミスタ5の異常を検知して加熱コイル4の通電を止めることによって鍋1が異常に加熱されるのを防止できる。
実施の形態4.
図8は、本発明の実施の形態4に係る誘導加熱調理器の温度制御動作を示すフローチャート図である。実施の形態4に係る誘導加熱調理器の構成は、図1で示される実施の形態1に係る誘導加熱調理器と同様である。以下、図1及び図8を参照しながら実施の形態4に係る誘導加熱調理器の温度制御動作について説明する。
駆動回路6が、制御回路8から出力された加熱指令に従って、加熱コイル4に高周波電流を流すことによって、鍋1への誘導加熱が開始されると、温度算出部7は、赤外線センサ2が受光した赤外線量P及びその赤外線センサ2に内蔵された温度センサによって検出された赤外線センサ2自体の温度Toを読み込む(ステップS61)。そして、温度算出部7は、鍋放射率εを0.94の固定値として鍋側面温度TaHを算出し、その鍋側面温度TaHを制御回路8に出力する(ステップS62)。さらに、温度算出部7は、鍋放射率εを0.16の固定値として鍋側面温度TaLを算出し、その鍋側面温度TaLを制御回路8に出力する(ステップS63)。そして、サーミスタ5によって検出される鍋底面温度Tbを読み込む(ステップS64)。
次に、鍋側面温度TaHと鍋底面温度Tbの差がBよりも大きくC未満の所定値内であるかどうかを判定する(ステップS65)。その判定の結果、両者の差が所定値内である場合は、鍋側面温度TaHを温度制御に使用する鍋温度Tsとする(ステップS66)。一方、両者の差が所定値外である場合は、鍋側面温度TaLと鍋底面温度Tbの差がBよりも大きくC未満の所定値内であるかどうかを判定する(ステップS67)。その判定の結果、両者の差が所定値内である場合は、鍋側面温度TaLを温度制御に使用する鍋温度Tsとする(ステップS68)。一方、両者の差が所定値外である場合は、鍋底面温度Tbを温度制御に使用する鍋温度Tsとする(ステップS69)。
その後、鍋温度Tsと目標温度Tobjとを比較して実施の形態1と同様に加熱コイル4に流れる高周波電流を制御する(ステップS69〜ステップS71)。この動作を加熱停止まで繰り返す。
以上のような構成及び動作によって、実施の形態2に係る誘導加熱調理器のように、鍋1の材質を判定することなく、赤外線センサ2を利用した鍋側面温度TaH及びTaLが鍋温度Tsとして採用されうることになり、サーミスタ5に比べて応答遅れのない正確な温度検出が可能となる。
本発明の実施の形態1に係る誘導加熱調理器の概略構成図である。 本発明の実施の形態1に係る誘導加熱調理器の温度制御動作を示すフローチャート図である。 鍋を構成する材質の放射率表である。 本発明の実施の形態2に係る誘導加熱調理器の概略構成図である。 本発明の実施の形態2に係る誘導加熱調理器の温度制御動作を示すフローチャート図である。 本発明の実施の形態3に係る誘導加熱調理器の温度制御動作を示すフローチャート図である。 増加した電力積算量と温度上昇推定幅ΔTkの相関直線を示す図である。 本発明の実施の形態4に係る誘導加熱調理器の温度制御動作を示すフローチャート図である。
符号の説明
1 鍋、2 赤外線センサ、3 トッププレート、4 加熱コイル、5 サーミスタ、6 駆動回路、7 温度算出部、8 制御回路、10 交流電源、11 電流センサ、12 電圧センサ、13 電流センサ。

Claims (5)

  1. 鍋を載置するトッププレートと、
    該トッププレートの下方に設けられ、前記鍋を加熱する加熱コイルと、
    交流電圧を高周波電圧に変換して前記加熱コイルに高周波電流を流す駆動回路と、
    前記駆動回路の入力又は出力電力を測定する駆動回路電力測定手段と、
    前記加熱コイルの電流を測定する加熱コイル電流測定手段と、
    前記トッププレートの下方に設けられ、鍋底面温度を前記トッププレートを介して検出するサーミスタと、
    前記トッププレートより上側に設けられ、前記鍋の側面から放射される赤外線を受光する赤外線センサと、
    該赤外線センサが受光した赤外線量から鍋側面温度を算出する温度算出部と、
    前記駆動回路を制御して、前記鍋に対する加熱量を制御する制御部と、
    を備え、
    前記制御部は、
    前記加熱コイルによる加熱開始時に、前記駆動回路電力測定手段によって測定された前記駆動回路の入力又は出力電力と、前記加熱コイル電流測定手段によって測定された前記加熱コイルの電流との比から鍋材質を判定し、
    前記鍋材質がステンレスであると判定した場合は、前記温度算出部に前記鍋が取りうる放射率の最小値近傍の固定値に基づいて前記鍋側面温度を算出させ、該鍋側面温度が前記サーミスタによって検出された前記鍋底面温度よりも所定値以上高い場合は、前記鍋底面温度に基づき、そうでない場合は、前記鍋側面温度に基づいて前記鍋の温度制御を実施し、
    前記鍋材質がステンレス以外であると判定した場合は、前記温度算出部に前記鍋が取りうる放射率の最大値近傍の固定値に基づいて前記鍋側面温度を算出させ、該鍋側面温度と前記サーミスタによって検出された前記鍋底面温度とを比較して高い方の温度に基づいて前記鍋の温度制御を実施する
    ことを特徴とする誘導加熱調理器。
  2. 前記鍋が取りうる赤外線放射率の最小値近傍の固定値は、0.01から0.3までのいずれかの値である
    ことを特徴とする請求項記載の誘導加熱調理器。
  3. 前記制御部は、
    前記駆動回路によって前記加熱コイルに電流を流して前記鍋が加熱されている状態で、前記サーミスタによって検出された前記鍋底面温度が所定時間内に所定変化量以上変化しないと判定した場合は、前記駆動回路に加熱停止指令を出力して前記鍋の加熱を停止させ、使用者に報知する
    ことを特徴とする請求項又は請求項記載の誘導加熱調理器。
  4. 前記制御部は、
    前記駆動回路電力測定手段によって測定された前記駆動回路の入力又は出力電力の積算値の所定時間における差分と、前記鍋の該所定時間における温度上昇推定幅との相関に基づいて、前記差分に対応する前記温度上昇推定幅を導出し、該温度上昇推定幅を前記所定変化量とする
    ことを特徴とする請求項記載の誘導加熱調理器。
  5. 鍋を載置するトッププレートと、
    該トッププレートの下方に設けられ、前記鍋を加熱する加熱コイルと、
    交流電圧を高周波電圧に変換して前記加熱コイルに高周波電流を流す駆動回路と、
    前記トッププレートの下方に設けられ、鍋底面温度を前記トッププレートを介して検出するサーミスタと、
    前記トッププレートより上側に設けられ、前記鍋の側面から放射される赤外線を受光する赤外線センサと、
    該赤外線センサが受光した赤外線量から鍋側面温度を算出する温度算出部と、
    前記駆動回路を制御して、前記鍋に対する加熱量を制御する制御部と、
    を備え、
    前記温度算出部は、前記鍋が取りうる赤外線放射率の最大値近傍及び最小値近傍の固定値に基づいて、それぞれ前記鍋側面温度を算出し、
    前記制御部は、
    前記サーミスタによって検出された前記鍋底面温度と、前記最大値近傍の固定値に基づいて算出された前記鍋側面温度との差が所定の上下限値で定まる所定範囲の場合は、該鍋側面温度に基づいて前記鍋の温度制御を実施し、
    前記鍋底面温度と、前記最小値近傍の固定値に基づいて算出された前記鍋側面温度との差が所定の上下限値で定まる所定範囲の場合は、該鍋側面温度に基づいて前記鍋の温度制御を実施し、
    それ以外の場合は、前記鍋底面温度に基づいて前記鍋の温度制御を実施する
    ことを特徴とする誘導加熱調理器。
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