JP4917872B2 - 銅および/または銅合金用化学溶解処理液 - Google Patents
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以下の実施例で化合物Aとはp−ヒドロキシフェニルジメチルスルホニウムメチルサルフェート、化合物Bとはp−メトキシカルボニルオキシフェニルジメチルスルホニウムクロライド、化合物Cとはp−ヒドロキシフェニルジメチルスルホニウムクロライド、化合物Dとはベンジル−4−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロホスファートであり、いずれも本発明の金属用化学溶解抑制剤である。また、PEGとは、ポリエチレングリコールの600番である。
銅板50mm×25mm×1.0mmを試験片として使用する。これらの試験片を常法によりアルカリ脱脂後、表3、4に記載する本発明の各種組成の化学溶解処理液番号1〜10(残部は水である)を50℃に加熱して、スプレー圧0.15Mpaの条件で、試験片を60秒間スプレーした後、水洗、乾燥させ、各試料の溶解量を試料片面の減厚にて測定し、また、その表面光沢性を目視判定した。評価基準は、◎印:金属光沢優、○印:金属光沢良好、△印:光沢なし、×印:光沢性なく黒っぽいと表示判定した。以上の評価結果も表3、4に示す。
比較例として、本発明の有効構成成分であるスルホニウム化合物に代えて公知の添加剤であるチオ尿素を使用するか、無添加で建浴し、実施例に準じ銅板を使用して同条件で処理した。その配合を表7、8に記載する。また、実施例に準じて評価した。その評価結果も表7、8に示す。
Claims (1)
- 鉱酸および/または有機酸0.01〜30重量パーセント、化1で表わされるスルホニウム化合物から選ばれた1種以上の化合物を0.001〜10重量パーセント、第二鉄イオン、第二銅イオンから選ばれたイオンを含む塩の1種以上を0.01〜20重量パーセント、カチオン系界面活性剤、両性系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤から選ばれた界面活性剤の1種以上を0.001〜10重量パーセント含有せしめてなる銅および/または銅合金用化学溶解処理液。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006332537A JP4917872B2 (ja) | 2006-12-08 | 2006-12-08 | 銅および/または銅合金用化学溶解処理液 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2006332537A JP4917872B2 (ja) | 2006-12-08 | 2006-12-08 | 銅および/または銅合金用化学溶解処理液 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008144228A JP2008144228A (ja) | 2008-06-26 |
JP2008144228A5 JP2008144228A5 (ja) | 2010-01-21 |
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ID=39604715
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2006332537A Expired - Fee Related JP4917872B2 (ja) | 2006-12-08 | 2006-12-08 | 銅および/または銅合金用化学溶解処理液 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4917872B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5281788B2 (ja) * | 2007-11-30 | 2013-09-04 | メルテックス株式会社 | 銅又は銅合金表面への電気銅めっきの前処理に用いる酸性脱脂剤及びその酸性脱脂剤を用いて前処理した銅又は銅合金表面への電気銅めっき方法 |
CN102257180B (zh) * | 2008-12-17 | 2014-05-07 | 三菱制纸株式会社 | 铜或铜合金用的蚀刻液、蚀刻方法及蚀刻液的再生管理方法 |
EP2392694A1 (en) * | 2010-06-02 | 2011-12-07 | ATOTECH Deutschland GmbH | Method for etching of copper and copper alloys |
JP6333455B1 (ja) * | 2017-08-23 | 2018-05-30 | メック株式会社 | 銅のマイクロエッチング剤および配線基板の製造方法 |
EP3761766A1 (en) * | 2019-07-03 | 2021-01-06 | AT & S Austria Technologie & Systemtechnik Aktiengesellschaft | Anisotropic etching using additives |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62238379A (ja) * | 1986-04-07 | 1987-10-19 | Asahi Kagaku Kogyo Kk | 鉄系金属の化学溶解液用添加剤および化学溶解処理液 |
JP3017369B2 (ja) * | 1992-10-26 | 2000-03-06 | 三新化学工業株式会社 | オーステナイト系ステンレス鋼の化学研磨浴 |
JP3322771B2 (ja) * | 1995-02-21 | 2002-09-09 | 三新化学工業株式会社 | 金属用化学研磨液および化学研磨方法 |
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2006
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2008144228A (ja) | 2008-06-26 |
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A977 | Report on retrieval |
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