JP4917835B2 - 基板チャック平坦度維持手段を備える露光装置 - Google Patents
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 307
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 7
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 3
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 3
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 3
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 2
- 238000007687 exposure technique Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
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- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
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- G03F7/7035—Proximity or contact printers
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- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70783—Handling stress or warp of chucks, masks or workpieces, e.g. to compensate for imaging errors or considerations related to warpage of masks or workpieces due to their own weight
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Description
図6に示すように、近接露光型露光装置は、光を提供する照明機器101と、照明機器101の下部に設置されてマスク110を支持するマスクステージ105と、マスクステージ105の4つの角部を支持するマスクステージ支持台120と、マスクステージ105の下方に形成されて基板114を支持する基板チャック130と、基板チャック130を支持して移動させるy軸駆動ステージ113及びx軸駆動ステージ112と、y軸駆動ステージ113及びx軸駆動ステージ112が形成されて露光装置のベースを構成するベースステージ150とを備える。
特に、マスクと対面する基板をマスクと精密に整列するために、基板チャックを整列する手段を提供し、大型基板の場合、その荷重により整列が乱れることを防止する手段を提供することを目的とする。
図3A及び図3Bは基板チャック平坦度維持手段を備える基板チャックの平面図及び断面図である。
マスクが設置されるマスクステージには、複数の感知センサ410が設置される。感知センサ410は、基板チャック304の平坦度を感知する手段であって、基板チャック304に撓みが発生すると、その撓み情報を制御部(図示せず)に送信する。前記制御部では、その情報をフローティングエアシリンダ314に送信して、フローティングエアシリンダ314の空気圧を調整する。これにより、フローティングエアシリンダ314が上昇又は下降して基板チャック304を支持することによって、基板チャック304の平坦度が一定に維持される。
201 マスクベースステージ
202 支持台
204 マスク固定ステージ
205a、205b、205c ガイド部
206 荷重支持部
210 マスク
301 ベースステージ
302 x軸駆動ステージ
303 y軸駆動ステージ
304 基板チャック
313 ギャップモータ部
314 フローティングエアシリンダ(基板チャック平坦度維持手段)
400 基板
501 基板支持ピンチャック
502 基板支持ピン
503 支持軸
510 ピストン
511 シリンダ
512 電子レギュレータ
Claims (12)
- マスクステージと、
前記マスクステージを支持する支持台と、
前記マスクステージの下方に位置する基板と、
前記基板を支持する基板チャックと、
前記基板チャックを移動させる基板チャック移動手段と、
前記基板チャック移動手段上の前記基板チャックの外郭領域に沿って設置され、前記基板と前記マスクステージとの間隔を調節する複数のギャップモータ部と、
前記基板チャック移動手段上の前記基板チャックの外郭領域の前記ギャップモータ部の無い領域及び前記基板チャックの中央領域に配置され、前記基板チャックの平坦度を一定に維持する複数のエアシリンダと、
前記基板チャックの下方に設置される基板支持ピンチャックと、
前記基板支持ピンチャックに設置され、前記基板チャックを貫通して前記基板を支持する複数の基板支持ピンとを備え、
前記ギャップモータ部は、前記基板チャックを上昇又は下降させることにより、前記基板チャックと前記マスクステージとの間隔を維持し、
前記エアシリンダは、前記基板チャックの平坦度を感知する感知手段からの情報をもとに、前記ギャップモータ部により支持されない領域の前記基板チャックを上昇又は下降させることにより、前記基板チャック全体にわたって一定の平坦度を維持し、
前記ギャップモータ部及び前記エアシリンダは、前記基板支持ピンチャックを貫通して前記基板を支持することを特徴とする露光装置。 - 前記基板チャック移動手段が、
前記基板チャックをx軸方向に移動させるx軸駆動ステージと、
前記基板チャックをy軸方向に移動させるy軸駆動ステージと、
を含むことを特徴とする請求項1に記載の露光装置。 - 前記ギャップモータ部が、前記基板チャック移動手段上に三角形をなすように3つ設置されて、前記基板チャックを支持することを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
- 前記エアシリンダが、前記基板チャックの中心部と縁部を支持することを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
- 前記エアシリンダの空気圧を一定に維持する電子レギュレータをさらに備えることを特徴とする請求項4に記載の露光装置。
- 前記基板チャックの平坦度を感知する感知手段をさらに備え、前記電子レギュレータが、前記感知手段から送信された前記基板チャックの平坦度情報に基づいて、前記エアシリンダの空気圧を一定に維持することを特徴とする請求項5に記載の露光装置。
- 前記ギャップモータ部及び前記エアシリンダが、前記基板支持ピンチャックを貫通して前記基板チャックを支持することを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
- 前記基板支持ピンチャックが固定されており、前記ギャップモータ部の上昇及び下降動作により、前記基板が前記基板チャック上から離隔して載置されることを特徴とする請求項7に記載の露光装置。
- 基板チャックと、
前記基板チャックの外郭領域に沿って設置され、前記基板チャックを上昇及び下降させる複数のギャップモータ部と、
前記基板チャックの外郭領域の前記ギャップモータ部の無い領域及び前記基板チャックの中央領域に配置され、前記基板チャックの平坦度を一定に維持する複数のエアシリンダと、
前記基板チャックの平坦度を感知する感知手段と、
前記基板チャックの下方に設置される基板支持ピンチャックと、
前記基板支持ピンチャックに設置され、前記基板チャックを貫通して前記基板を支持する複数の基板支持ピンとを備え、
前記ギャップモータ部は、前記基板チャックを上昇又は下降させることにより、前記基板チャックとマスクステージとの間隔を維持し、
前記エアシリンダは、前記感知手段からの情報をもとに、前記ギャップモータ部により支持されない領域の前記基板チャックを上昇又は下降させることにより、前記基板チャック全体にわたって一定の平坦度を維持し、
前記ギャップモータ部及び前記エアシリンダは、前記基板支持ピンチャックを貫通して前記基板を支持することを特徴とする露光装置。 - 前記感知手段から送信された前記基板チャックの平坦度情報に基づいて前記エアシリンダの空気圧を一定に維持する電子レギュレータをさらに備えることを特徴とする請求項9に記載の露光装置。
- 前記基板チャックを所定の位置に移動させる基板チャック移動手段をさらに備えることを特徴とする請求項9に記載の露光装置。
- 前記基板チャック移動手段が、
前記基板チャックをx軸方向に移動させるx軸駆動ステージと、
前記基板チャックをy軸方向に移動させるy軸駆動ステージと、
を含むことを特徴とする請求項11に記載の露光装置。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020050045802A KR101216467B1 (ko) | 2005-05-30 | 2005-05-30 | 기판 척의 평탄도 유지수단을 구비하는 노광장치 |
KR10-2005-0045802 | 2005-05-30 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006338014A JP2006338014A (ja) | 2006-12-14 |
JP4917835B2 true JP4917835B2 (ja) | 2012-04-18 |
Family
ID=37484042
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006149760A Active JP4917835B2 (ja) | 2005-05-30 | 2006-05-30 | 基板チャック平坦度維持手段を備える露光装置 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7916277B2 (ja) |
JP (1) | JP4917835B2 (ja) |
KR (1) | KR101216467B1 (ja) |
CN (1) | CN1873541B (ja) |
TW (1) | TWI322479B (ja) |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5434549B2 (ja) * | 2009-12-11 | 2014-03-05 | 大日本印刷株式会社 | 露光装置及び露光方法 |
KR101359912B1 (ko) | 2012-09-24 | 2014-02-10 | 주식회사 제우스 | 평탄도 자동 보정 장치와 방법 |
CN103852711B (zh) * | 2012-11-30 | 2017-02-15 | 上海华虹宏力半导体制造有限公司 | 利用探针台测试晶圆的方法 |
MY183097A (en) * | 2014-08-05 | 2021-02-13 | Intevac Inc | Implant masking and alignment system with rollers |
CN104570622B (zh) * | 2015-02-10 | 2016-10-19 | 中国科学院光电技术研究所 | 一种光刻机的接近式间隙曝光工件台 |
US10031427B2 (en) * | 2015-09-30 | 2018-07-24 | Applied Materials, Inc. | Methods and apparatus for vibration damping stage |
US10928744B2 (en) * | 2016-10-20 | 2021-02-23 | Molecular Imprints, Inc. | Positioning substrates in imprint lithography processes |
WO2018094081A2 (en) * | 2016-11-16 | 2018-05-24 | Jabil Circuit, Inc. | Apparatus, system and method for an air bearing stage for component or devices |
US10254659B1 (en) * | 2017-09-27 | 2019-04-09 | Wuhan China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd | Exposure apparatus and method for exposure of transparent substrate |
KR20190047312A (ko) | 2017-10-27 | 2019-05-08 | 조현일 | 평판 디스플레이 패널 지지용 스테이지의 지지핀 보상지그 및 그 제조방법 |
KR102314093B1 (ko) * | 2021-06-07 | 2021-10-18 | 주식회사 세미다린 | 대면적 노광 장치 |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63131535A (ja) * | 1986-11-21 | 1988-06-03 | Canon Inc | 基板支持装置 |
JP2633910B2 (ja) | 1988-06-08 | 1997-07-23 | 株式会社日立製作所 | 基板表面変形装置 |
JP3035472B2 (ja) | 1995-09-04 | 2000-04-24 | ウシオ電機株式会社 | マスクとワークの間隙設定装置 |
US5806193A (en) * | 1995-11-09 | 1998-09-15 | Nikon Corporation | Tilt and movement apparatus using flexure and air cylinder |
JPH09219357A (ja) | 1996-02-08 | 1997-08-19 | Canon Inc | 露光装置 |
JPH10112493A (ja) | 1996-08-13 | 1998-04-28 | Sony Corp | 表面矯正薄板保持装置、面調整手段及び向き調整手段 |
JP3720680B2 (ja) * | 2000-06-16 | 2005-11-30 | キヤノン株式会社 | ステージ装置、露光装置およびデバイス製造方法 |
JP2002195819A (ja) | 2000-12-27 | 2002-07-10 | Nikon Corp | 形状測定方法、形状測定装置、露光方法、露光装置、及びデバイス製造方法 |
JP4774167B2 (ja) | 2001-07-02 | 2011-09-14 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | プロキシミティ露光装置及びその装置におけるフォトマスク変形補正方法 |
JP4288694B2 (ja) | 2001-12-20 | 2009-07-01 | 株式会社ニコン | 基板保持装置、露光装置及びデバイス製造方法 |
JP2004153094A (ja) * | 2002-10-31 | 2004-05-27 | Nikon Corp | ステージ装置及び露光装置 |
JP4209254B2 (ja) | 2003-05-22 | 2009-01-14 | 日本精工株式会社 | 近接露光装置のワークステージ |
JP4102712B2 (ja) * | 2003-06-13 | 2008-06-18 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置及び基板処理方法 |
-
2005
- 2005-05-30 KR KR1020050045802A patent/KR101216467B1/ko active IP Right Grant
-
2006
- 2006-05-26 TW TW095118780A patent/TWI322479B/zh active
- 2006-05-30 JP JP2006149760A patent/JP4917835B2/ja active Active
- 2006-05-30 US US11/443,509 patent/US7916277B2/en active Active
- 2006-05-30 CN CN2006100834884A patent/CN1873541B/zh active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US7916277B2 (en) | 2011-03-29 |
US20070008513A1 (en) | 2007-01-11 |
TW200703548A (en) | 2007-01-16 |
KR20060124061A (ko) | 2006-12-05 |
CN1873541B (zh) | 2010-07-07 |
TWI322479B (en) | 2010-03-21 |
CN1873541A (zh) | 2006-12-06 |
KR101216467B1 (ko) | 2012-12-31 |
JP2006338014A (ja) | 2006-12-14 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20090713 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090715 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20091015 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20100112 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100512 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
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|
A912 | Re-examination (zenchi) completed and case transferred to appeal board |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912 Effective date: 20100813 |
|
A601 | Written request for extension of time |
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|
A602 | Written permission of extension of time |
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|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
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|
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|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150203 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4917835 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
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R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
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