CN117980824A - 用于光刻处理的多相机设备 - Google Patents

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CN117980824A CN202280062114.1A CN202280062114A CN117980824A CN 117980824 A CN117980824 A CN 117980824A CN 202280062114 A CN202280062114 A CN 202280062114A CN 117980824 A CN117980824 A CN 117980824A
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J·C·达纳赫
D·A·布朗
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Abstract

本文描述具有两个或更多个相机系统(即，投影透镜系统)的光刻机的实施方案。光刻机可包括独立操作和控制的两个或更多个相机，用于曝光集成电路、平板显示器和在制造半导体电子器件中使用的其他基板。相机可被独立地控制以在x轴上横向移动(即，不固定)。独立控制可包括移动、聚焦、倾斜、掩模版位置等。

Description

用于光刻处理的多相机设备
相关申请的交叉引用
本申请要求2021年8月4日提交的美国专利申请序列17/394,132号的优先权的权益，该美国专利申请的内容全文以引用方式并入本文。
技术领域
本公开整体涉及集成电路和显示基板的光刻处理。
背景技术
光刻用于在基板(诸如硅晶片或平板显示器)上制造图案。光刻涉及将图案从光掩模(或掩模版)转移到基板上的光敏表面。典型地，利用分步重复或扫描工艺来执行光刻。
在这些工艺中，基板被放置在可移动平台上。固定的相机被放置在平台上方，具有要制造的图案的光掩模。相机将图案投影到基板的一部分上以供制造。然后，沿一个轴(例如，y轴)移动平台，并且重复该过程直到在基板上制造一列该图案。之后，沿另一轴(例如，x轴)移动平台，并且重复该过程以完成下一列。重复该过程直到基板中的所有列都被制造。这些过程存在诸如吞吐量低、成本高和灵活性低这类的缺点。
附图说明
附图中的各个附图仅示出了本公开的示例实施方案，而不应被视为限制其范围。
图1A示出了光刻机的示例部分。
图1B示出了光刻机的横截面视图。
图1C示出了光刻机的另一横截面视图。
图2示出了光刻机的电路框图。
图3示出了用于利用两个或更多个可移动相机进行光刻处理的方法的流程图。
图4A至图4D示出了在不同步骤处被处理的基板的俯视图。
图5示出了用于利用两个或更多个可移动相机进行光刻处理的方法的流程图。
图6示出了光刻机的示例部分。
图7示出了光刻机的示例部分。
具体实施方式
本发明人认识到需要更快和更灵活的光刻处理等。本文描述具有两个或更多个相机系统(即，投影透镜系统)的光刻机的实施方案。光刻机可包括独立操作和控制的两个或更多个相机，用于曝光集成电路、平板显示器和在制造半导体电子器件中使用的其他基板。相机可被独立地控制以在x轴上横向移动(即，不固定)。因此，平台可仅在y轴上移动，从而减小光刻机中平台区域的尺寸和复杂性。例如，用于显示器的玻璃面板可近似为1.5米乘1.8米；因此，如果平台仅在y轴上移动(而不在x轴上移动或在x轴上移动受限)，则可大大减小光刻机的平台区域的尺寸。
独立操作和控制的相机使得能够进行多个独立的图像投影和同时曝光。相机的独立横向移动可允许在同一运行中制造不同的配置。例如，在以第一取向(例如，沿y轴竖直)制造列之后，可以以第二取向(例如，沿x轴水平)在同一基板上制造的方式移动相机和平台，以最大化在基板片上制造的器件的数量。在另一示例中，可利用相机的独立横向移动同时制造不同器件。一个相机可用于制造较小显示器(例如，移动电话显示器)，且另一相机可用于制造较大显示器(例如，平板计算机显示器)。此外，每个相机可包括独立的倾斜(或调平)和聚焦。每个相机可具有其自己的一组传感器以将其光掩模(或掩模版)与基板平面对准，以确保相机的光轴垂直于基板平面。
本文献描述一种光刻机，该光刻机包括用于保持基板且沿第一轴移动该基板的平台。该光刻机还包括被定位成与该平台相对的至少两个投影相机，用于将来自相应图像源的图像投影到该基板上，每个相机包括至少一个马达，用于相对于该基板独立地沿基本上垂直于所述第一轴的第二轴横向移动相应相机。
本文献还描述了一种对基板上进行制造的方法。该方法包括：将该基板定位在第一位置处与至少两个投影相机相对的平台上；在该第一位置处，利用该至少两个投影相机将来自图像源的相应图像投影到该基板上；沿第一轴将该平台移动到第二位置；在该第二位置处，利用该至少两个投影相机将来自该图像源的相应图像投影到该基板上；沿第二轴独立地将该至少两个相机移动到第三位置，该第二轴基本上垂直于该第一轴；以及在该第三位置处，利用该至少两个投影相机将来自该图像源的相应图像投影到该基板上。
本文献还描述了一种具有第一投影相机系统和第二投影相机系统的光刻机。该第一投影相机系统包括用于保持第一光掩模的第一掩模板平台、第一投影透镜、和用于沿x轴移动该第一投影相机的第一马达。第二投影相机系统包括用于保持第二光掩模的第二掩模板平台、第二投影透镜、和用于独立于该第一投影相机沿该x轴移动该第二投影相机的第二马达。该光刻机还包括被定位成与该第一投影相机和该第二投影相机相对的平台，用于沿y轴承载基板。
图1A至图1C示出了光刻机100的示例部分。光刻机100可包括两个或更多个相机系统102、104、桥结构106、计量框架108、以及用于承载一个或多个基板152的平台150。相机系统102、104可定位在平台150上方的桥结构106上，并且每个相机系统102、104可包括一个或多个马达以允许在x轴上的独立移动，如下文进一步详细描述。即，每个相机系统102、104可被单独地控制以沿桥结构106在x轴上独立地移动。桥结构106可支承相机系统102、104并且可为相机系统102、104沿x轴的移动提供精确引导。桥结构106可被提供为花岗岩结构。
每个相机系统102、104可包括照明器102.1、104.1；掩模版平台102.2、104.2；以及投影透镜102.3、104.3等等。相机系统102、104可被配置为基本上同时(即，并发地或同时地)曝光其相应图案或图像。照明器102.1、104.1可包括光源，用于在分别放置在掩模版平台102.2、104.2上的掩模版的顶部上产生光。光源可设置有UV LED(紫外发光二极管)系统和相关联的光学器件。
掩模版平台102.2、104.2可包括对准设备，用于相对于平台150对准放置在其上的掩模版。对准设备可包括6轴掩模版卡盘，如例如在标题为"High Speed LithographyMachine and Method"的USP 7,385,671中所描述的，该文献全文以引用方式并入本文，包括但不限于在下文中具体出现的那些部分，以引用方式并入是在以下例外的情况下进行的：在上述专利的任何部分与本申请不一致的情况下，本申请取代上述专利。6轴卡盘的每个轴可具有内置的单轴、粗略、速度和位置传感器。例如，图1C示出了掩模版在z轴上的移动以及对应的相机聚焦范围。
每个掩模版平台102.2、104.2被配置为保持单独的掩模版(或光掩模或图像源)以允许不同图案制造，如下文进一步详细描述。掩模版平台102.2、104.2可相对于平台独立地对准以考虑基板上的不同变化或不同图案制作。每个相机102、104可具有其自己的一组传感器以将其光掩模(或掩模版)与基板平面对准，以确保相机的光轴垂直于基板平面。例如，每个相机102、104的传感器(例如，六个传感器)可使用计量框架108作为用于正确对准的基准。计量框架108可以是直的和刚性的，因此提供平坦度、笔直度、高度、位置等的基准。
投影透镜102.3、104.3可将每个掩模版上的图案或图像投影到放置在平台150上的基板上。投影透镜102.3、104.3可包括一个或多个光学透镜。投影透镜102.3、104.3可包括单独的实时自动聚焦传感器。投影透镜102.3、104.3的光学特性可基于自动聚焦传感器来调节，以根据需要将投影图案或图像聚焦在基板上。
每个相机102、104可包括一个或多个X马达(或致动器)，以沿桥结构106在x轴上移动相机。例如，每个相机102、104可包括两个线性X马达，用于沿x轴在每个方向上移动相机。X马达可调节相机102、104之间的分隔距离以匹配基板的曝光间距。X马达的放置和功率可被设置为最小化由相机的移动导致的对相机的扰动并且最小化稳定时间。马达可被放置成基本上靠近相机102、104中每一者的重心(CG)。因此，施加到相机102、104的移动力可施加到相机的CG。在一个示例中，X马达可被放置为基本上靠近投影透镜102.3、104.3的CG，并且移动力可施加到投影透镜102.3、104.3的CG。
此外，马达的加速度、加加速度和速度可保持低，因为相机移动的速度不会显著影响总生产时间。制造运行可涉及一个轴(例如，y轴)中的大多数步骤。例如，制造运行可沿y轴包含70个步骤，但沿x轴仅包含5个步骤。因此，相机在x轴上的速度对运行时间的影响可能不像平台在y轴上的速度那样大。此外，相机102和104可与平台在y轴上同时地在x轴上移动以进一步提高吞吐量。
每个相机102、104还可包括一个或多个Z马达(或致动器)，用于在z轴上移动相机以进行正确对准。例如，每个相机102、104可包括四个Z致动器，其被预加载以抵抗重力。Z致动器可提供关于相机102、104的CG对称布置的竖直力，并且用于相机102、104中光柱的倾斜和斜移。在一个示例中，Z致动器中的一者可用于阻尼。相机102、104可通过参考桥结构106的垂直侧的空气轴承而在Y、θz、θx方向上受到约束。例如，图1C示出了透镜(相机)在z轴上的移动。
平台150可设置在相机102、104下方并且可在制造期间承载一个或多个基板。平台150可包括花岗岩结构以保持该一个或多个基板。平台150可利用一个或多个y马达而能在y轴上移动。在一个实施方案中，平台还可允许x轴上的受限行进以允许制造配置中的更大灵活性，如下文进一步详细描述。
光刻机100在上文被描述为包括竖直布置的投影系统；然而也可使用其他布置。例如，也可使用利用反射镜具有竖直和水平布置的部件的布置，诸如在标题为“High SpeedLithography Machine and Method”的USP 7,385,671中描述的那些，该美国专利再次全文通过引用并入本文。
图2示出了光刻机200的简化电路框图。光刻机200可包括两个或更多个相机202、204和平台250，如上文参考图1所述。光刻机200还可包括控制器260。控制器260可被提供为一个或多个计算机、微控制器、微处理器或其他合适的计算部件。在一个示例中，控制器260可设置在光刻机200外部。
控制器260可从相机202、204和平台250接收传感器输入(如上文参考图1A至图1C所描述)。控制器260还可被编程有用于每个相机202、204的制造图案，制造图案被存储在相关联的存储器中。控制器260可控制相机202、204在x轴上的独立横向移动。即，控制器260可传输控制信号以沿x轴将相机202移动第一距离，并且可传输另一控制信号以沿x轴将相机204移动第二距离。可基于制造布局独立地控制相机的移动的方向和长度。控制器260还可控制相机202、204在z轴上的移动以及其相应掩模版平台的移动以用于对准和聚焦，如上文所描述。
控制器260还可指示平台(及其上的基板)在y轴上移动。在一个实施方案中，控制器260还可指示平台以受限的方式在x轴上移动，以在制造布局中提供更多灵活性。下文更详细地描述控制相机和平台的移动的技术。
图3示出用于利用两个或更多个可移动相机进行光刻处理的方法300的流程图，并且图4A至图4D示出在不同步骤处被处理的基板的俯视图。例如，方法300可由上文参考图1和图2所描述的光刻机执行。
在302处，掩模版(或光掩模)可被加载到相机中每一者的相应掩模版平台中，并且基板可被放置在平台上。掩模版可限定每个相机要投影到基板上的图案。在一个实施方案中，如果相机正在制造相同图案，则相机中每一者的掩模版可为相同的。在另一实施方案中，在相机正在同一运行中制造不同图案的情况下，相机的掩模版可包括不同图案。
在304处，可检索并加载用于制造相应掩模版上的特定图案的指令。指令可包括诸如制造布局、曝光时间、每个曝光区域的尺寸、间距距离(相机之间的距离)、每个列中曝光区域的数量、列的数量等之类的信息。关于不同掩模版图案的指令可被预先存储在与关联于光刻机的控制器相关联的存储器中，并且可基于所加载的掩模版检索用于特定掩模版的指令。
在306处，相机可被初始化并且可被移动(如果需要的话)使得相机被放置在其各自的第一曝光区域上方。图4A示出了双相机系统的初始位置的示例。这里，第一相机定位在位于基板的边缘(例如，右边缘)处的第一列中的第一曝光区域上方，并且第二相机定位在位于基板的分割线的另一侧(例如，左侧)上的其第一列中其第一曝光区域上方。例如，如果每个相机被配置为制造基板的相等面积，则分割线可以是基板的中心线。在另一示例中，如果一个相机与另一相机相比被配置为制造基板的更大面积，则分割线可偏离中心。可设定相机间隔以匹配基板的曝光间距。
在308处，第一相机和第二相机可将其掩模版上的图像投影到相应的曝光区域上，以基本上同时在相应区域中在基板上制造图像上的图案。在投影图像之前，第一相机和第二相机可将其各自的掩模版平台和/或投影透镜与曝光区域的基板平面对准。由于基板上的变化和相机的移动，第一相机的曝光区域的基板平面可能不同于第二相机的曝光区域的基板平面。因此，每个相机可执行独立的倾斜、调平和/或聚焦。每个相机可利用其自己的传感器获取关于其相应曝光区域的基板平面的位置信息。每个相机可将其光掩模(或掩模版)与其曝光区域的基板平面对准，以在投影图像之前确保相机的光轴垂直于基板平面。
在310处，可沿y轴移动平台，使得每个相机被提供在其相应列中下一曝光区域上方。图4B示出在平台移动之后基板和相机的放置的示例。在平台(或如下文所论述，相机)移动期间，相机可以不投影光。例如，可关闭每个相机中的快门。
在312处，第一相机和第二相机可将其掩模版上的图像投影到相应的下一曝光区域上，以在相应区域中在基板上制造图像上的图案。同样，在投影图像之前，第一相机和第二相机可将其各自的掩模版平台和/或投影透镜与曝光区域的基板平面对准，如上文参考步骤308所述。每个相机可将其光掩模(或掩模版)与其曝光区域的基板平面对准，以在投影图像之前确保相机的光轴垂直于基板平面。
在314处，可确定前一曝光区域是否是该特定列中的最后一个区域。如果它不是该特定列中的最后一个曝光区域，则可重复步骤310-312，直到已制造该特定列中的最后一个曝光区域。
在316处，在制造列中的最后一个区域之后，可在x轴上横向地移动相机，使得相机被放置在要在基板上制造的下一列的顶部上。相机横向移动的距离可基于制造指令来设定。在一个示例中，相机和平台可同时分别在x轴和y轴上移动。图4C示出在相机横向移动之后基板和相机的放置的示例。在这个示例中，两个相机移动相同距离。在另一示例中，相机可沿x轴移动不同距离以用于由每个相机制造不同大小的面板。
之后，可重复步骤308-314以制造特定列中的所有曝光区域。可重复该过程，直到每个相机的所有列完成(参见步骤318)。图4D示出完成的制造过程的示例。对于总列数为奇数的产品布局，对于一列，一个相机可能是空闲的。
如上所述，相机的独立控制可允许在同一运行中制造不同的配置。例如，在利用本文所述的多相机光刻机以竖直取向制造一系列列(例如，图3的方法300)之后，然后可以水平取向制造一个或多个列以最大化基板利用率。这里，相机的横向移动可允许更灵活的控制。此外，平台可在x轴上以受限方式移动及/或被旋转以允许在不同配置中制造基板。
在另一示例中，本文所述的多相机光刻机可用于在同一运行中制造具有不同形状因子的产品。在双相机机器中，第一相机可制造具有第一形状因子的显示器(诸如用于移动电话显示器)，同时第二相机可制造具有第二形状因子的显示器(诸如用于平板计算机显示器)。相机的独立移动可允许相机在开始制造新的列时移动不同的距离。与第二相机相比，第一相机可在x轴上移动更小的距离，因为移动电话显示器的形状因子小于平板计算机显示器的形状因子。因此，间距(相机之间的距离)可在运行期间改变，因为相机正移动不同距离。
此外，相机的独立控制可通过提供冗余来提高可靠性。如果一个相机在运行期间发生故障，则其他相机可完成运行而不必停止运行或浪费基板面板。图5示出了用于利用两个或更多个可移动相机进行光刻处理的方法500在相机中一者发生故障的情况下的流程图。在502处，相机可各自正基于对应的指令在基板上制造图案，如例如参考图3所描述。在504处，机器可检测相机中一者的故障事件。
在506处，可记录并存储发生故障的相机的最后成功投影的位置。
在508处，可沿x轴将发生故障的相机移动到基板的侧面。其他相机可保持在其相应位置处。在一个示例中，发生故障的相机可保持在其位置处并且与相机一起移动，但其不投影。
在510处，其他相机可基于初始指令完成其制造过程。例如，在双相机系统中，另一相机可完成基板面板的其指定部分的制造，如上文参考图3和图4所述。
在512处，如果需要的话，基于所存储的发生故障的相机的最后成功投影位置，可在x轴上横向移动其他相机并且可在y轴上移动平台。例如，其他相机可被移动到制造布局上该最后成功投影位置之后的下一区域。
在514处，其他相机可完成最初为发生故障的相机指定的部分的制造。例如，在双相机系统中，另一相机可被移动到发生故障的相机的最后成功投影之后的下一位置，并且该相机然后可完成基板面板的制造。
如上文所提及，光刻机可包括本文所述的两个以上相机。图6示出具有三个相机的光刻机600的示例部分。光刻机600可包括布置成行的三个相机602、604、606；相机可如本文所述提供。光刻机600还可包括桥结构608，用于支承相机602、604、606。相机602、604、606可定位成与平台650相对(例如，在其上方)，如本文所述。
图7示出具有四个相机的光刻机700的示例部分。光刻机700可包括布置成两行的四个相机702、704、708、710；相机可如本文所述提供。第一组相机702、704可由第一桥结构706支承，并且第二组相机708、710可由第二桥结构712支承。相机702、704、708、710可定位成与平台750相对(例如，在其上方)，如本文所述。
在另一示例中，可提供如本文所述的具有六个相机的光刻机。例如，机器可包括两行，每行具有三个相机。
各种注意事项
以上非限制性方面中的每个方面可为独立的或者可以各种排列或组合与本文档中所述的其他方面或其他主题中的一者或多者组合。
以上详细描述包括对构成该详细描述的一部分的附图的参考。附图以举例的方式示出了可实践本发明的特定具体实施。这些具体实施通常也被称为“示例”。此类示例可包括除了所示或所述的要素之外的要素。然而，本发明人还设想了仅提供所示或所述的那些要素的示例。此外，本发明人还设想了使用相对于特定示例(或其一个或多个方面)或相对于文本所示或所述的其他示例(或其一个或多个方面)所示或所述的那些要素(或其一个或多个方面)的任何组合或排列的示例。
在本文档与以引用方式并入本文的任何文档之间的用法不一致的情况下，以本文档中的用法为准。
在本文档中，术语“一个”或“一种”如在专利文档中常见的那样使用以包括一个或多个，独立于“至少一个”或“一个或多个”的任何其他实例或用法。在本文档中，除非另外指明，否则术语“或”用于指非排他性的或者使得“A或B”包括“A但不包括B”、“B但不包括A”以及“A和B”。在本文档中，术语“包括”和“在其中”用作相应术语“包含”和“其中”的通俗易懂的英语等同物。此外，在以下权利要求中，术语“包括”和“包含”是开放式的，即，包括除了在一个权利要求中在此类术语之后列出的那些要素之外的要素的系统、设备、制品、组合物、配制物或过程仍被认为落入该权利要求的范围内。此外，在以下权利要求中，术语“第一”、“第二”和“第三”等仅用作标签，而不旨在对其对象施加数值要求。
本文所述的方法示例可以至少部分地是机器或计算机实现的。一些示例可包括用指令编码的计算机可读介质或机器可读介质，这些指令用于配置电子设备以执行如以上示例中所述的方法。此类方法的具体实施可包括代码，诸如微代码、汇编语言代码、高级语言代码等。此类代码可包括用于执行各种方法的计算机可读指令。代码可形成计算机程序产品的部分。此外，在一个示例中，诸如在执行期间或在其他时间，代码可以有形方式存储在一个或多个易失性、非暂态或非易失性有形计算机可读介质上。这些有形计算机可读介质的示例可包括但不限于硬盘、可移动磁盘、可移动光盘(例如，高密度盘和数字视频盘)、磁带盒、存储卡或棒、随机存取存储器(RAM)、只读存储器(ROM)等。
以上描述旨在举例而非限制。例如，上述示例(或其一个或多个方面)可彼此组合使用。可使用其他具体实施，诸如本领域的普通技术人员在阅读以上描述之后。提供说明书摘要以使得读者快速确定技术公开的实质。提交时应理解它不用于解释或限制权利要求的范围或含义。此外，在以上具体实施方式中，可将各种特征组合在一起以精简本公开。这不应被解释为意指未要求保护的公开特征对于任何权利要求都是必要的。相反，本发明的主题可存在于少于特定公开的具体实施的所有特征中。因此，以下权利要求由此作为示例或具体实施结合到具体实施方式中，其中每个权利要求独立地作为单独的具体实施，并且设想此类具体实施可以各种组合或排列彼此组合。本发明的范围应参考所附权利要求以及这些权利要求被赋予的等效物的全部范围来确定。

Claims (19)

1.一种光刻机，包括：
用于保持基板并沿第一轴移动所述基板的平台；和
被定位成与所述平台相对的至少两个投影相机，用于将来自相应图像源的图像投影到所述基板上，每个相机包括至少一个马达，用于相对于所述基板独立地沿基本上垂直于所述第一轴的第二轴横向移动相应相机。
2.根据权利要求1所述的光刻机，其中所述至少一个马达被定位为在相应相机的基本上重心处施加力。
3.根据权利要求1所述的光刻机，其中所述至少一个马达被定位为基本上在所述相机的投影透镜系统的重心处施加力。
4.根据权利要求1所述的光刻机，其中每个相机包括两个马达，用于沿所述第二轴在两个方向上独立地移动相应相机。
5.根据权利要求1所述的光刻机，还包括：
控制器，所述控制器用于基于所述基板的制造布局来控制所述至少两个投影相机和所述平台的移动。
6.根据权利要求1所述的光刻机，还包括：
控制器，所述控制器用于接收关于所述至少两个投影相机相对于所述基板的放置的传感器输入，并且控制所述至少两个投影相机沿基本上垂直于所述第一轴和所述第二轴的第三轴的独立移动。
7.根据权利要求6所述的光刻机，其中所述控制器被配置为独立地聚焦每个相机。
8.根据权利要求6所述的光刻机，其中所述控制器被配置为独立地移动每个相机的掩模版平台，以将每个相机的所述掩模版平台与所述基板的与每个相机相对的相应部分对准。
9.根据权利要求1所述的光刻机，还包括：
桥结构，所述桥结构用于支承所述至少两个投影相机并且提供用于所述相机沿所述第二轴的移动的引导。
10.根据权利要求1所述的光刻机，还包括：
计量框架，所述计量框架用于提供用于将所述至少两个投影相机与所述基板对准的基准。
11.一种用于在基板上进行制造的方法，所述方法包括：
将所述基板定位在第一位置处与至少两个投影相机相对的平台上；
在所述第一位置处，利用所述至少两个投影相机将来自图像源的相应图像投影到所述基板上；
沿第一轴将所述平台移动到第二位置；
在所述第二位置处，利用所述至少两个投影相机将来自所述图像源的相应图像投影到所述基板上；
沿第二轴独立地将所述至少两个相机移动到第三位置，所述第二轴基本上垂直于所述第一轴；以及
在所述第三位置处，利用所述至少两个投影相机将来自所述图像源的相应图像投影到所述基板上。
12.根据权利要求11所述的方法，还包括：
对于每个相机，基本上在相应相机的重心处施加力。
13.根据权利要求11所述的方法，还包括：
对于每个相机，基本上在相应相机的投影透镜系统的重心处施加力。
14.根据权利要求11所述的方法，还包括：
接收多个传感器输入；
基于所述传感器输入，独立地调节所述相机中的每一者以使每个相机的掩模版平台与所述基板的与每个相机相对的相应部分对准。
15.根据权利要求11所述的方法，还包括：
检测一对相机中第一相机的故障事件；
存储所述基板的第一指定部分的所述第一相机进行的最后投影的位置；
由第二相机完成所述基板的第二指定部分的制造；
在完成所述第二指定部分之后，基于所存储的所述第一相机进行的最后成功投影的所述位置来移动所述第二相机；以及
由所述第二相机完成所述基板的所述第一指定部分的制造。
16.根据权利要求11所述的方法，其中所述至少两个相机和所述平台基本上同时移动。
17.一种光刻机，包括：
第一投影相机系统，所述第一投影相机系统包括
用于保持第一光掩模的第一掩模板平台、
第一投影透镜、和
用于沿x轴移动所述第一投影相机的第一马达；
第二投影相机系统，所述第二投影相机系统包括
用于保持第二光掩模的第二掩模板平台、
第二投影透镜、和
用于独立于所述第一投影相机沿所述x轴移动所述第二投影相机的第二马达；和
被定位成与所述第一投影相机和所述第二投影相机相对的平台，用于沿y轴承载基板。
18.根据权利要求17所述的光刻机，其中所述第一马达和所述第二马达被定位为分别基本上在所述第一相机和所述第二相机的重心处施加第一力和第二力。
19.根据权利要求17所述的光刻机，其中所述第一马达和所述第二马达被定位为分别基本上在所述第一和投影透镜的重心处施加第一力和第二力。
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