JP4909977B2 - アラインメントシステム、リソグラフィ投影装置、デバイス製造方法、アラインメント構造、およびアラインメント方法 - Google Patents
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Description
本出願は、2007年12月31日に出願された米国仮特許出願第61/018,025号の利益を主張し、同仮特許出願は、参照により全体として本明細書に組み込まれる。
放射ビームB(例えば紫外線または放射)を調整するように配置構成される照明システム(イルミネータ)ILと、
パターニングデバイス(例えばマスク)MAを支持するように構築され、いくつかのパラメータにしたがってパターニングデバイスを正確に位置決めするように配置構成される第1のポジショナPMに連結される、支持構造(例えばマスクテーブル)MTと、
基板(例えばレジストコートウェーハ)Wを保持するように構築され、いくつかのパラメータにしたがって基板を正確に位置決めするように配置構成される第2のポジショナPWに連結される、基板テーブル(例えばウェーハテーブル)WTと、
基板Wの(例えば1つまたは複数のダイを含む)ターゲット部分C上に、パターニングデバイスMAによって放射ビームBに与えられたパターンを投影するように配置構成される投影システム(例えば屈折型投影レンズシステム)PSと
を備える。
Claims (15)
- 基板またはレチクルを位置合わせするためのアライメントシステムであって、
前記基板上または前記レチクル上のアラインメントマークを使用中に照明する放射源と、
前記アラインメントマークから生成されるアラインメント信号を検出する検出システムと、
前記アラインメント信号からアラインメント位置を決定するプロセッサとを備え、
前記アラインメントマークは、複数の非周期的な隣接するラインアンドスペースを中心ラインに関して対称的な配置で含む最大長シーケンスマークを含み、
前記最大長シーケンスマークは、
状態2n−1を有する最大長シーケンスであるnシーケンスを生成する最大リニアフィードバックシフトレジスタによって再現可能な擬似ランダムシーケンスを含む、アラインメントシステム。 - 前記アラインメントマークの第1の像を前記アラインメントマークの第2の像に対して180°だけ回転させる回転システムと、
前記第1の像および前記第2の像を結合して、アラインメント位置を決定するための前記アラインメント信号を生成するコンバイナと
をさらに備える、請求項1に記載のアラインメントシステム。 - 前記検出システムは自己参照センサである、請求項1又は2に記載のアラインメントシステム。
- 前記最大長シーケンスマークは、最大長シーケンスのミラーコピーに付加されるまたはそれとインターレースされる前記最大長シーケンスである、請求項1〜3のいずれか1項に記載のアラインメントシステム。
- 前記最大長シーケンスマークは、周期的部分および非周期的部分を含み、前記周期的部分は、回折オーダコンポーネントが強度において実質的に均一になるように最大長シーケンスにしたがってセグメント化される、請求項1〜3のいずれか1項に記載のアラインメントシステム。
- 放射ビームを調整する照明システムと、
前記放射ビームの断面にパターンを与えてパターン付き放射ビームを形成することが可能なパターニングデバイスを支持するサポートと、
基板を保持する基板テーブルと、
前記基板のターゲット部分上に前記パターン付き放射ビームを投影する投影システムと、
前記基板上または前記パターニングデバイス上のアラインメントマークを照明する放射源と、
前記アラインメントマークから生成されるアラインメント信号を検出する検出システムと、
前記アラインメント信号からアラインメント位置を決定するプロセッサと
を備え、
前記アラインメントマークは、複数の非周期的な隣接するラインアンドスペースを中心ラインに関して対称的な配置で含む最大長シーケンスマークを含み、
前記最大長シーケンスマークは、
状態2n−1を有する最大長シーケンスであるnシーケンスを生成する最大リニアフィードバックシフトレジスタによって再現可能な擬似ランダムシーケンスを含む、リソグラフィ投影装置。 - 前記アラインメントマークの第1の像を前記アラインメントマークの第2の像に対して180°だけ回転させる回転システムと、
前記第1の像および前記第2の像を結合して、アラインメント位置を決定するための前記アラインメント信号を生成するコンバイナと
をさらに備える、請求項6に記載のリソグラフィ投影装置。 - 前記検出システムは自己参照センサである、請求項6又は7に記載のリソグラフィ投影装置。
- 前記最大長シーケンスマークは、最大長シーケンスのミラーコピーに付加されるまたはそれとインターレースされる前記最大長シーケンスである、請求項6〜8のいずれか1項に記載のリソグラフィ投影装置。
- 前記最大長シーケンスマークは、周期的部分および非周期的部分を含み、前記周期的部分は、回折オーダコンポーネントが強度において実質的に均一になるように最大長シーケンスにしたがってセグメント化される、請求項6〜8のいずれか1項に記載のリソグラフィ投影装置。
- パターニングデバイスを用いて放射ビームをパターン付けすることと、
前記パターン付き放射ビームを基板上に投影することと、
前記基板上または前記パターニングデバイス上でアラインメントマークを照明することと、
前記アラインメントマークから生成されるアラインメント信号を検出することと、
前記アラインメント信号に基づいてアラインメント位置を決定することと
を含み、
前記アラインメントマークは、複数の非周期的な隣接するラインアンドスペースを中心ラインに関して対称的な配置で含む最大長シーケンスマークを含み、
前記最大長シーケンスマークは、
状態2n−1を有する最大長シーケンスであるnシーケンスを生成する最大リニアフィードバックシフトレジスタによって再現可能な擬似ランダムシーケンスを含む、デバイス製造方法。 - 前記アラインメントマークの第1の像を前記アラインメントマークの第2の像に対して180°だけ回転させることと、
前記第1の像および前記第2の像を結合して、アラインメント位置を決定するための前記アラインメント信号を生成することと
をさらに含む、請求項11に記載のデバイス製造方法。 - 前記検出することは自己参照センサにより実施される、請求項9又は10に記載のデバイス製造方法。
- 複数の隣接するラインアンドスペースを有する少なくとも1つのアラインメントマークを含むアラインメント構造であって、前記アラインメントマークが、
複数の非周期的な隣接するラインアンドスペースを中心ラインに関して対称的な配置で含む最大長シーケンスマークを含み、
前記最大長シーケンスマークは、
状態2n−1を有する最大長シーケンスであるnシーケンスを生成する最大リニアフィードバックシフトレジスタによって再現可能な擬似ランダムシーケンスをさらに含む、アラインメント構造。 - 基板またはレチクルを位置合わせするためのアラインメント方法であって、
前記基板上または前記レチクル上のアラインメントマークを使用中に照明することと、
前記アラインメントマークから生成されるアラインメント信号を検出することと、
前記アラインメント信号からアラインメント位置を決定することとを含み、
前記、最大長シーケンスマークは、複数の非周期的な隣接するラインアンドスペースを中心ラインに関して対称的な配置で含む最大長シーケンスマークを含み、
前記最大長シーケンスマークは、
状態2n−1を有する最大長シーケンスであるnシーケンスを生成する最大リニアフィードバックシフトレジスタによって再現可能な擬似ランダムシーケンスを含む、アラインメント方法。
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