JP4909288B2 - 浮遊粒子状物質測定装置 - Google Patents
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Description
P(n)=N!/[n!(N−n)!]・(ν/V)n(1−ν/V)N-n
・・・(1)
<n>=(ν/V)・N=p・N=C・ν ・・・(2a)
σ2=<(n−<n>)2>=(1−ν/V)・(ν/V)・N
=(1−p)<n> ・・・(2b)
σ/<n>=[(V−ν)/(ν・N)]1/2
=[(1−p)/<n>]1/2 ・・・(2c)
P(n)=exp(−C・ν)(C・ν)n/n! ・・・(3)
<n>=σ2=N・p=C・ν ・・・(4a)
平均値からのずれの大きさσと平均値<n>との比は、以下のようになる。
σ/<n>=<n>-1/2=(C・ν)-1/2 ・・・(4b)
Q=Σn=2 ∞P(n)=1−exp(−C・ν)(1+C・ν) ・・・(5)
上述したように、四重電極で形成した回転電場や不均一電場内では、空間は非等方的であり、その内部での粒子分布の一様性も担保されない。被検出対象粒子1の形状を識別するために、電場を印加するので、等方性が破られる点はやむを得ない。しかし、極めて細く絞った観測視野から被検出対象粒子1が散逸してしまうような回転電場や不均一電場では、1個2個の数え落としが計数値に対して大きな統計的揺らぎを与えるので、以上述べたように問題である。
第1および第2のいずれの方式でも、円筒状のフロー管20A,20B中に繊維状の被検出対象粒子1を導入して円柱状粒子に変形させ、さらに回転させたり特定方向に向かせたりするために、断面円型のガラス管壁に円弧形状の電極23E,23Fを取り付けて高電圧を印加する。試料流体導流路に沿って、粒子配向用対向電極が設けられて高電圧電場を形成しているが、断面円型のフロー管では、電極形状が円弧形状となり、フロー管内の電極形成部内部の形成される電場は必ずしも一様ではない。隣接する電極端子間には不均一電場が発生し、誘電分極して電気双極子となった円柱状の被検出対象粒子1に対しては発散的に作用する、つまり、光ビームを照射している中心部領域からフロー管周辺部へと電気双極子を引き寄せてしまうため、被検出対象粒子1が観測視野から散逸して、統計的揺らぎを著しく増大させるという問題点があった。
τ=p×E ・・・(6)
F=(p・∇)E ・・・(7)
式(6)、式(7)において、・はベクトルの内積、×はベクトルの外積、∇は勾配演算子をそれぞれ示す。
第1の方式の装置では、繊維状の被検出対象粒子1を回転させるために、四重電極23Eを設けているが、その隣接する電極間に生ずる不均一電場が、対向電極間の高電圧電場により誘電分極した電気双極子に作用して、図15(B)に示すように、フロー管20Aの中心部(特定偏光の光源3の照射領域)から電気双極子が散逸するような電気力が作用する。このため、図14(E)に示すように、円柱状に変形した被検出対象粒子1は入射レーザビーム32の照射領域外へと輸送されてしまう。このため、観測視野内にある被検出対象粒子1の計数値は、一様分布している場合に比較して少なくなり、その統計的揺らぎも増大する。
図16(A)、図16(B)に示すように、第2の方式の装置では、繊維状の被検出対象粒子1を高電圧電場印加方向に向かせるために、対向電極23F間に高電圧を印加して静電場を形成している。したがって、フロー管20B中に導入された繊維状の被検出対象粒子1は長時間にわたり分極状態に保持され、湾曲した被検出対象粒子1も一直線状に伸張されることから、円柱状粒子としての近似不良に起因する数え落としは少ない。
また、本発明の浮遊粒子状物質測定装置の1構成例において、前記二つの電極ブロックは、前記試料流体導流路に沿った縦断面が矩形であり、前記試料流体導流路と直交する横断面の端部形状がロゴウスキー型端部形状であり、この二つの電極ブロック間への電圧印加により前記観測視野を覆う試料流体導流路内に電場強度が中心部に向かって漸増する静電場を形成するものである。
また、本発明の浮遊粒子状物質測定装置の1構成例において、前記二つの電極ブロックは、前記試料流体導流路に沿った縦断面が矩形であり、前記試料流体導流路と直交する平面で切ったときの導流路側表面曲線が双曲線であり、この二つの電極ブロック間への電圧印加により前記観測視野を覆う試料流体導流路内に電場強度が中心部に向かって漸増する静電場を形成するものである。
また、本発明の浮遊粒子状物質測定装置の1構成例において、前記二つの電極ブロックは、前記試料流体導流路に沿った縦断面が矩形であり、前記試料流体導流路と直交する平面で切ったときの導流路側表面曲線がV字型曲線と逆V字型曲線であり、この二つの電極ブロック間への電圧印加により前記観測視野を覆う試料流体導流路内に電場強度が中心部に向かって漸増する静電場を形成するものである。
また、本発明の浮遊粒子状物質測定装置の1構成例において、前記電極ブロックの導流路側表面には、絶縁膜が形成されていることを特徴とするものである。
また、本発明の浮遊粒子状物質測定装置の1構成例において、前記ガイドブロックおよび厚板ブロックは、プラスティック、マシナブル・セラミックス、あるいはエンジニアリング・セラミックスの何れかからなり、前記観測視野の壁面および前記開口部の壁面は、前記光源の波長の光を吸収する材料で被覆されるものである。
また、本発明の浮遊粒子状物質測定装置の1構成例において、前記光学ガラス板は、前記偏光ビームの光の波長において無反射である材料からなるものである。
また、本発明の浮遊粒子状物質測定装置の1構成例において、前記粒子識別手段は、前記第1の受光手段で検出された垂直偏光成分と前記第2の受光手段で検出された水平偏光成分との強度差から、前記強度差が略等しい場合は前記粒子が球状粒子であると識別し、前記強度差が垂直偏光成分の優位を示した場合は前記粒子が円柱状粒子であると識別するものである。
また、本発明の浮遊粒子状物質測定装置の1構成例において、前記粒子識別手段は、前記第1、第2の受光手段により同時に検出された各偏光成分の和で与えられる電圧パルスの波高を、予め定められた複数の閾値電圧と比較することで、前記電圧パルスをその波高値により分別し、分別したパルス毎に計数すると共に、前記粒子の識別結果に基づき、前記粒子が球状粒子であると識別した場合は前記パルス波高値に基づいて粒子半径を求め、前記粒子が円柱状粒子であると識別した場合は前記パルス波高値に基づいて粒子の長さを求めるものである。
また、本発明の浮遊粒子状物質測定装置は、偏光ビームを射出する光源と、流体中に浮遊している被検出対象粒子を試料流体導流路により層流状態で観測視野内に導入する導入手段と、前記観測視野内に導入された粒子に前記光源からの偏光ビームが入射したことによる散乱光のうち、前記光源から前記粒子に向かう方向に対して前記粒子を中心とする散乱角が略10度の散乱光を、偏光方向が互いに直交する2本の光ビームに分割する偏光型ビームスプリッタプリズムと、前記光ビームが前記粒子に入射する前に、前記光源と前記粒子と前記偏光型ビームスプリッタプリズムとを含む散乱平面に対して、前記粒子を前記散乱平面の法線方向に向ける粒子配向手段と、前記偏光型ビームスプリッタプリズムによって分割された2本の光ビームをそれぞれ電気信号に変換する第1、第2の受光手段と、前記第1、第2の受光手段から出力された信号に基づいて粒子形状を識別する粒子識別手段とを有し、前記粒子配向手段は、前記試料流体導流路に沿って配置された二つの電極ブロックからなり、この電極ブロック間に前記散乱平面の法線方向を向いた静電場を形成するものであり、前記二つの電極ブロックは、導流路側表面が平面で互いに平行な平板状か、もしくは導流路側表面が曲面で対向する電極ブロックに向かって互いに凸の形状であり、前記粒子識別手段は、前記第1の受光手段で検出された垂直偏光成分と前記第2の受光手段で検出された水平偏光成分との強度差から、前記強度差が略等しい場合は前記粒子が球状粒子であると識別し、前記強度差が垂直偏光成分の優位を示した場合は前記粒子が円柱状粒子であると識別し、前記第1、第2の受光手段により同時に検出された各偏光成分の和で与えられる電圧パルスの波高を、予め定められた複数の閾値電圧と比較することで、前記電圧パルスをその波高値により分別し、分別したパルス毎に計数すると共に、前記粒子の識別結果に基づき、前記粒子が球状粒子であると識別した場合は前記パルス波高値に基づいて粒子半径を求め、前記粒子が円柱状粒子であると識別した場合は前記パルス波高値に基づいて粒子の長さを求めることを特徴とするものである。
図1は本発明の第1の実施の形態に係る浮遊粒子状物質測定装置の導入手段および粒子配向手段となるフローチャネル部20の斜視図、図2はフローチャネル部20の分解斜視図である。
図2に示すように、フローチャネル部20は、絶縁材料からなる二本のガイドブロック240と、その上下から2本のガイドブロック240を挟む絶縁材料からなる二枚の厚板ブロック250a,250bとから構成される。二本のガイドブロック240および電極ブロック230a,230bにより挟まれた領域が、試料流体の導流路210eを形成する。また、図1に示すように、この導流路210eに直交するように特定偏光ビームの導入用開口部220aおよび散乱光観測用開口部220bが設けられている。
フローチャネル部20内の導流路210eの断面形状は、一般的には矩形であるが、望ましくは正方形である。正方形にすることで、静電場を印加するための電極ブロック230a,230bの構造を簡単にできるのみならず、後述する助走距離Lを算出する際にも、解析モデルが簡単になって設計が容易になる。
また、特定偏光ビーム導入用開口部220aは、ガイドブロック240の流体吸気口21a側の端面から助走距離Lだけ離れた位置に形成される。
一般に、ある臨界値以下のレイノルズ数を持つ粘性流体の流れに対しては、フローチャネル部20内に一様乱流状態で導入された試料流体であっても層流状態への遷移が起こり、助走距離Lの間に完全な層流に発展する。
Re=U・L/ν ・・・(8)
(Re)trans<1000 ・・・(9)
P=(|Tver|2−|Tpar|2)/(|Tver|2+|Tpar|2)
=(Iver−Ipar)/(Iver+Ipar) ・・・(10)
式(10)において、Iver=|Ever (s)|2は散乱平面5に垂直な散乱電場の強度(垂直偏光散乱光の強度)、Ipar=|Epar (s)|2は散乱平面5に平行な散乱電場の強度(水平偏光散乱光の強度)である。(Iver+Ipar)は散乱光の垂直偏光成分と水平偏光成分の和であるから、全散乱光強度である。(Iver−Ipar)は散乱光を垂直偏光成分と水平偏光成分に分離した際に、垂直偏光成分と水平偏光成分の差分を表す量となっている。
Iver=IV0[Sver(θ,φ)]2/(kr)2 ・・・(11a)
Ipar=IP0[Spar(θ,φ)]2/(kr)2 ・・・(11b)
Sver(θ,φ)=(kd/π)E(kdφ/2)Tver(θ,φ) ・・・(12)
ここで、E(z)は球ベッセル関数j0(z)=sin(z)/zである。式(12)は、無限に長い円柱による散乱光を、有限長さ単スリットからのフラウンホーファ回折パターンを表す関数で強度変調していることに相当している。
球による散乱光の水平偏光成分Spar(θ,φ)と円柱による散乱光の水平偏光成分Tpar(θ,φ)との間にも同様の関係が成立する。
Iver=IV0(d/πr)2・[E(kdφ/2)・Tver(θ,φ)]2
・・・(13)
水平偏光成分についても同様である。ここで重要なことは、円柱状粒子による散乱強度の最終的な式(13)の中に、円柱状粒子の長さがd2、すなわち二乗の形で含まれていることである。これは、散乱光の強度が、円柱状粒子の長さの二乗と共に強くなることを意味している。
垂直偏光成分と水平偏光成分とが等しい強度となる光源としては、レーザに代表される直線偏光射出光源の他に、白熱ランプや発光ダイオード(Light Emitting Diode)等の非偏光状態の光源も利用可能である。非偏光状態の光源を利用する場合には、被検出対象粒子1に光ビームを照射する前に、光源からの光を波長フィルタに通して、入射光の最小波長を確定する必要がある。
受光部4a,4bは、入射した散乱光を電気信号に変換する素子であり、光電子倍増管、アバランシェフォトダイオード、固体接合光ダイオード、半導体フォトダイオードの何れか一つが考えられる。
図6(A)、図6(B)は本発明の第2の実施の形態に係る浮遊粒子状物質測定装置のフローチャネル部20において電極ブロック230a,230bを平行平板形状とした場合の電場ベクトル分布および力ベクトル分布を示す図である。すなわち、図6(A)は平行な二枚の電極ブロック230a,230bにより生成される電場ベクトル分布を示す図、図6(B)は電場ベクトル内で誘電分極した電気双極子に作用する力ベクトル分布を示す図である。なお、図6(A)、図6(B)は、試料流体が流れる方向と垂直な断面のうち導流路210eの中心から右側半分のみを示している。
図6(B)は、電極ブロック230aと230b間の静電場中に導入された粒子に作用する力ベクトルを示している。ただし、この静電場中に電気的に中性な粒子が導入されても、強い静電場によって直ちに誘電分極が起こり、静電場中の粒子は電気双極子となる。そして、粒子は前記式(6)で記載されたトルクを受けて、静電場内で回転して、電場印加方向を向く。
図7(A)、図7(B)、図7(C)は本発明の第3の実施の形態に係る浮遊粒子状物質測定装置のフローチャネル部20において電極ブロック230a,230bの端部断面形状をロゴウスキー(Rogowski)端部形状とした場合の等電位線、電気力線、電場ベクトル分布および力ベクトル分布を示す図である。すなわち、図7(A)は平行平板キャパシタ端部の等電位線および電気力線を示す図、図7(B)は電極ブロック230a,230bにより生成される電場ベクトル分布を示す図、図7(B)は電場ベクトル内で誘電分極した電気双極子に作用する力ベクトル分布を示す図である。なお、図7(A)〜図7(C)は、試料流体が流れる方向と垂直な断面のうち導流路210eの中心から右側半分のみを示している。
こうした思想の下に設計されたのがロゴウスキー端部形状電極である。そして、ロゴウスキー端部形状の電極ブロック230a,230bは、二次元の電場から導いたものであり、奥行き方向に延ばした蒲鉾状の電極ブロックとなる。
具体的には、iを虚数単位として、複素平面z=x+iyから、ガウス平面ω=u+ivへの等角写像法を応用して、平板の間隔a=πとおき、端部がv=π/2(この場合、上記の整数nは、n=2)の等電位面で区切られるとして、次式(14)で与えられるマクスウェル(Maxwell)の式を実部と虚部に分離し、uをパラメタとして、xおよびyの値を求めれば、必要とする等電位線(=ロゴウスキーの端部形状)を求めることができる。
x=u+1 ・・・(15a)
y=π/2+exp(u) ・・・(15b)
これより、表1のような計算値を得る。なお、表1のyの値は、小数点以下2桁で丸めてある。
図8(A)、図8(B)は本発明の第4の実施の形態に係る浮遊粒子状物質測定装置のフローチャネル部20において電極ブロック230a,230bを導流路210eと直交する平面で切ったときの導流路側表面曲線が双曲線である場合の電場ベクトル分布および力ベクトル分布を示す図である。すなわち、図8(A)は電極ブロック230a,230bにより生成される電場ベクトル分布を示す図、図8(B)は電場ベクトル内で誘電分極した電気双極子に作用する力ベクトル分布を示す図である。なお、図8(A)、図8(B)は、試料流体が流れる方向と垂直な断面を示している。
この場合は、円筒面平凹レンズを用いることで、偏光ビームの断面形状を上下方向に伸ばした線状拡大ビームに成形することで、観測視野領域を上下方向に拡張し、レーザ照射領域に被検出対象粒子1が存在するようにすることは比較的容易である。ただし、レンズについては、光のコヒーレンスに影響しないように材質(不純物、歪、均質性)を吟味する必要がある。
図9(A)、図9(B)は本発明の第5の実施の形態に係る浮遊粒子状物質測定装置のフローチャネル部20において電極ブロック230a,230bを導流路210eと直交する平面で切ったときの導流路側表面曲線がV字型曲線と逆V字型曲線である場合の電場ベクトル分布および力ベクトル分布を示す図である。すなわち、図9(A)は電極ブロック230a,230bにより生成される電場ベクトル分布を示す図、図9(B)は電場ベクトル内で誘電分極した電気双極子に作用する力ベクトル分布を示す図である。なお、図9(A)、図9(B)は、試料流体が流れる方向と垂直な断面を示している。
この場合も、第4の実施の形態と同様に、円筒面平凹レンズを用いることで、偏光ビームの断面形状を上下方向に伸ばした線状拡大ビームに形成することで、観測視野領域を上下方向に拡張し、レーザ照射領域に被検出対象粒子1が存在するように構成できる。
図10は本発明の第6の実施の形態に係る浮遊粒子状物質測定装置の信号処理系の構成を示すブロック図である。この図10は、第1〜第5の実施の形態に適用する信号処理系を説明するための図である。
粒子形状識別を行う本実施の形態の信号処理系は、信号増幅部7a,7bと、差動増幅部8と、粒子形状識別部9と、波高分析部10と、演算制御部11と、通信部13と、加算部14とを有する。この信号処理系は、粒子識別手段を構成している。
図5に示すように、フローチャネル部20の粒子配向手段2により被検出対象粒子1の向きを散乱平面5の法線VERの方向に揃え、光源3からの直線偏光ビームを被検出対象粒子1に照射する。
粒子形状識別部9は、垂直偏光成分と水平偏光成分の電圧パルス強度が略等しい場合(差動増幅部8の出力が略0の場合)には、被検出対象粒子1が球状粒子であると識別し、水平偏光成分よりも垂直偏光成分の電圧パルス強度が大きい場合には、被検出対象粒子1が円柱状粒子であると識別する。
波高分析部10は、この散乱光の電圧パルスの波高値を予め定められた幾つかの閾値電圧と比較することで、電圧パルスをその波高値により分別する。そして、演算制御部11は、分別したパルスの種類毎にパルスを数える。こうして、分別したパルスの波高値によって、被検出対象粒子1の球状粒子相当径あるいは円柱状粒子相当の長さを求めることができ、また被検出対象粒子1の個数をパルスの波高値の範囲毎(すなわち、粒子径毎あるいは円柱状粒子の長さ毎)に数えることができる。
粒子形状識別部9による判別結果と、波高分析部10による粒径あるいは長さによる分別結果と、演算制御部11による各パルスの計数結果とは、演算制御部11の図示しない内蔵メモリ(不図示)に蓄積される。そして、内蔵メモリに蓄積された情報は、通信部13を介して装置外部へ伝送され、また装置に搭載された表示部(不図示)へ伝送され表示される。
Claims (13)
- 偏光ビームを射出する光源と、
流体中に浮遊している被検出対象粒子を試料流体導流路により層流状態で観測視野内に導入する導入手段と、
前記観測視野内に導入された粒子に前記光源からの偏光ビームが入射したことによる散乱光のうち、前記光源から前記粒子に向かう方向に対して前記粒子を中心とする散乱角が略10度の散乱光を、偏光方向が互いに直交する2本の光ビームに分割する偏光型ビームスプリッタプリズムと、
前記光ビームが前記粒子に入射する前に、前記光源と前記粒子と前記偏光型ビームスプリッタプリズムとを含む散乱平面に対して、前記粒子を前記散乱平面の法線方向に向ける粒子配向手段と、
前記偏光型ビームスプリッタプリズムによって分割された2本の光ビームをそれぞれ電気信号に変換する第1、第2の受光手段と、
前記第1、第2の受光手段から出力された信号に基づいて粒子形状を識別する粒子識別手段とを有し、
前記粒子配向手段は、前記試料流体導流路に沿って配置された二つの電極ブロックからなり、この電極ブロック間に前記散乱平面の法線方向を向いた静電場を形成するものであり、
前記二つの電極ブロックは、導流路側表面が平面で互いに平行な平板状か、もしくは導流路側表面が曲面で対向する電極ブロックに向かって互いに凸の形状であり、
前記導入手段は、
絶縁材料からなる二本のガイドブロックと、その上下から前記二本のガイドブロックを挟む絶縁材料からなる二つの厚板ブロックとからなり、
前記二本のガイドブロックには、試料流体導入口となる端面から前記流体が層流状態に発達するのに必要な距離だけ離れた位置に、前記偏光ビームの導入用開口部と前記散乱光の観測用の開口部とがそれぞれ設けられ、各々の開口部には光学ガラス板が嵌め込まれ、
上側の前記厚板ブロックと前記二本のガイドブロックとの間および下側の前記厚板ブロックと前記二本のガイドブロックとの間に、それぞれ前記電極ブロックを配置して、この二つの電極ブロックと前記二本のガイドブロックで挟まれる領域を前記試料流体導流路とすることを特徴とする浮遊粒子状物質測定装置。 - 請求項1に記載の浮遊粒子状物質測定装置において、
前記二つの電極ブロックは、前記試料流体導流路と直交する方向の幅が前記試料流体導流路の幅よりも広い平行平板状であり、この二つの電極ブロック間への電圧印加により前記観測視野を覆う試料流体導流路内に一様な静電場を形成することを特徴とする浮遊粒子状物質測定装置。 - 請求項1に記載の浮遊粒子状物質測定装置において、
前記二つの電極ブロックは、前記試料流体導流路に沿った縦断面が矩形であり、前記試料流体導流路と直交する横断面の端部形状がロゴウスキー型端部形状であり、この二つの電極ブロック間への電圧印加により前記観測視野を覆う試料流体導流路内に電場強度が中心部に向かって漸増する静電場を形成することを特徴とする浮遊粒子状物質測定装置。 - 請求項1に記載の浮遊粒子状物質測定装置において、
前記二つの電極ブロックは、前記試料流体導流路に沿った縦断面が矩形であり、前記試料流体導流路と直交する平面で切ったときの導流路側表面曲線が双曲線であり、この二つの電極ブロック間への電圧印加により前記観測視野を覆う試料流体導流路内に電場強度が中心部に向かって漸増する静電場を形成することを特徴とする浮遊粒子状物質測定装置。 - 請求項1記載の浮遊粒子状物質測定装置において、
前記二つの電極ブロックは、前記試料流体導流路に沿った縦断面が矩形であり、前記試料流体導流路と直交する平面で切ったときの導流路側表面曲線がV字型曲線と逆V字型曲線であり、この二つの電極ブロック間への電圧印加により前記観測視野を覆う試料流体導流路内に電場強度が中心部に向かって漸増する静電場を形成することを特徴とする浮遊粒子状物質測定装置。 - 請求項1に記載の浮遊粒子状物質測定装置において、
前記電極ブロックは、銅、金、白金、銀、あるいはアルミのうち少なくとも1つを含む金属材料、プラスティック、マシナブル・セラミックス、あるいはエンジニアリング・セラミックスの何れかからなり、
前記プラスティックを用いる場合は、導流路側表面に金属鍍金あるいは金属蒸着して前記電極ブロックとすることを特徴とする浮遊粒子状物質測定装置。 - 請求項6に記載の浮遊粒子状物質測定装置において、
前記電極ブロックの導流路側表面には、絶縁膜が形成されていることを特徴とする浮遊粒子状物質測定装置。 - 請求項1に記載の浮遊粒子状物質測定装置において、
前記ガイドブロックおよび厚板ブロックは、プラスティック、マシナブル・セラミックス、あるいはエンジニアリング・セラミックスの何れかからなり、
前記観測視野の壁面および前記開口部の壁面は、前記光源の波長の光を吸収する材料で被覆されることを特徴とする浮遊粒子状物質測定装置。 - 請求項1に記載の浮遊粒子状物質測定装置において、
前記光学ガラス板は、前記偏光ビームの光の波長において無反射である材料からなることを特徴とする浮遊粒子状物質測定装置。 - 請求項1に記載の浮遊粒子状物質測定装置において、
前記光源は、非偏光の光ビームを射出するか、あるいは直線偏光の偏光面を前記散乱平面の法線方向に対して45度傾けた直線偏光ビームとして射出するか、あるいは直線偏光を1/4波長板を通過させて円偏光ビームとして射出するかの何れかにより光ビームを射出し、かつこの光ビームの波長の最小値は、識別対象とする球状微小粒子の半径よりも長く、かつ円柱状微小粒子の長さよりも短いことを特徴とする浮遊粒子状物質測定装置。 - 請求項1に記載の浮遊粒子状物質測定装置において、
前記粒子識別手段は、前記第1の受光手段で検出された垂直偏光成分と前記第2の受光手段で検出された水平偏光成分との強度差から、前記強度差が略等しい場合は前記粒子が球状粒子であると識別し、前記強度差が垂直偏光成分の優位を示した場合は前記粒子が円柱状粒子であると識別することを特徴とする浮遊粒子状物質測定装置。 - 請求項11に記載の浮遊粒子状物質測定装置において、
前記粒子識別手段は、前記第1、第2の受光手段により同時に検出された各偏光成分の和で与えられる電圧パルスの波高を、予め定められた複数の閾値電圧と比較することで、前記電圧パルスをその波高値により分別し、分別したパルス毎に計数すると共に、前記粒子の識別結果に基づき、前記粒子が球状粒子であると識別した場合は前記パルス波高値に基づいて粒子半径を求め、前記粒子が円柱状粒子であると識別した場合は前記パルス波高値に基づいて粒子の長さを求めることを特徴とする浮遊粒子状物質測定装置。 - 偏光ビームを射出する光源と、
流体中に浮遊している被検出対象粒子を試料流体導流路により層流状態で観測視野内に導入する導入手段と、
前記観測視野内に導入された粒子に前記光源からの偏光ビームが入射したことによる散乱光のうち、前記光源から前記粒子に向かう方向に対して前記粒子を中心とする散乱角が略10度の散乱光を、偏光方向が互いに直交する2本の光ビームに分割する偏光型ビームスプリッタプリズムと、
前記光ビームが前記粒子に入射する前に、前記光源と前記粒子と前記偏光型ビームスプリッタプリズムとを含む散乱平面に対して、前記粒子を前記散乱平面の法線方向に向ける粒子配向手段と、
前記偏光型ビームスプリッタプリズムによって分割された2本の光ビームをそれぞれ電気信号に変換する第1、第2の受光手段と、
前記第1、第2の受光手段から出力された信号に基づいて粒子形状を識別する粒子識別手段とを有し、
前記粒子配向手段は、前記試料流体導流路に沿って配置された二つの電極ブロックからなり、この電極ブロック間に前記散乱平面の法線方向を向いた静電場を形成するものであり、
前記二つの電極ブロックは、導流路側表面が平面で互いに平行な平板状か、もしくは導流路側表面が曲面で対向する電極ブロックに向かって互いに凸の形状であり、
前記粒子識別手段は、前記第1の受光手段で検出された垂直偏光成分と前記第2の受光手段で検出された水平偏光成分との強度差から、前記強度差が略等しい場合は前記粒子が球状粒子であると識別し、前記強度差が垂直偏光成分の優位を示した場合は前記粒子が円柱状粒子であると識別し、前記第1、第2の受光手段により同時に検出された各偏光成分の和で与えられる電圧パルスの波高を、予め定められた複数の閾値電圧と比較することで、前記電圧パルスをその波高値により分別し、分別したパルス毎に計数すると共に、前記粒子の識別結果に基づき、前記粒子が球状粒子であると識別した場合は前記パルス波高値に基づいて粒子半径を求め、前記粒子が円柱状粒子であると識別した場合は前記パルス波高値に基づいて粒子の長さを求めることを特徴とする浮遊粒子状物質測定装置。
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