JP7438310B2 - 光学撮像システム - Google Patents

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Description

本開示は、光学システムに関し、より詳細には、光学撮像システムに関する。
流体試料検査の適用要件は、生物医学および製薬産業、半導体産業、環境工学産業などの様々な分野で行われている。流体画像オブザーバが、流路を流れる試料の情報を観察し、撮影するために、使用され得る。しかしながら、既存の流体画像オブザーバは、拡大率が増加するにつれて、被写界深度が浅くなり、流路内の試料の画像が、合焦面だけ鮮明になる傾向があり、合焦面上にない試料は、ぼやけた画像でしか提示されず、試料分析の統計データが不正確になる。
これを考慮して、本開示の実施形態は、流路内の粒子の画像をより鮮明にし、流路内の粒子の情報を、より正確にカウントし、分析し得る光学撮像システムを提供する。
本開示の一実施形態は、粒子の画像を提示するように構成される光学撮像システムを提供する。光学撮像システムは、コリメート光源と、流路と、テレセントリックレンズと、を含む。コリメート光源は、平行ビームを放射するように構成される。流路は、平行ビームの伝送路上に配置され、粒子を通過し得るように構成される。テレセントリックレンズは、平行ビームの伝送路上に配置される。平行ビームは、テレセントリックレンズに伝送される前に流路を通過し、テレセントリックレンズは、平行ビームを撮像面上に収束させるように構成される。
本開示の実施形態における光学撮像システムは、コリメート光源およびテレセントリックレンズを用いて、平行ビームを流路に投影し、テレセントリックレンズによって像が作られる前に、平行ビームを流路に通過させ、これにより、光学撮像システムの被写界深度を改善し、流路内の粒子の画像をより鮮明にし得る。さらに、本開示の光学撮像システムは、画像倍率に対する粒子位置の影響をさらに低減し、それにより、流路内の粒子の情報を、より正確にカウントし、分析し得る。
本開示の一実施形態による光学撮像システムの概略図である。
図1の実施形態による、光学撮像システムの部分概略図である。
本開示の一実施形態による、コリメート光源の概略図である。
本開示の別の実施形態による、コリメート光源の概略図である。
本開示の一実施形態による、コリメート光源の概略図である。
本開示の一実施形態による、粒子および平行ビームの概略図である。
図6Aの実施形態による粒子画像の概略図である。
図1は、本開示の一実施形態による、光学撮像システムの概略図である。図2は、図1の実施形態による、光学撮像システムの部分概略図である。図1および図2を参照すると、本開示の光学撮像システム1は、流路20内の粒子Pの画像を提示するように構成される。粒子Pは、流体Lに混合されてもよい。いくつかの実施形態では、粒子Pは、細菌、半導体粒子、様々な材料の粒子など、試験される試料である。別のいくつかの実施形態では、粒子Pおよび流体Lは共に、血液、工業廃水、様々な溶液などの試験される試料として使用されるが、本開示はこれらに限定しない。本実施形態では、光学撮像システム1は、コリメート光源10と、流路20と、テレセントリックレンズ30と、を含む。コリメート光源10は、平行ビームIを放射するように構成される。平行ビームIとは、波形が略平面波であり、その波面がビームの進行方向と略直交するビームを指す。本開示の実施形態は、平行ビームIを使用して粒子Pを照射して、回折を低減し、より鮮明な画像を得るものである。
別の観点から、本開示の実施形態における平行ビームIは、ビーム角度θが-5度以上で、5度以下の範囲である実質的に平行なビームを含み得る。平行ビームIのビーム角度は、当業者に知られている意味に従って画定され、光軸を通る接平面から見て、ビーム強度がビーム中心線でのビーム強度の50%である2つの境界線によって形成される挟角を指す。図3は、本開示の一実施形態による、コリメート光源の概略図である。図4は、本開示の別の実施形態による、コリメート光源の概略図である。図3を参照すると、本実施形態では、コリメート光源10aは、ビーム角度θが5度の平行ビームIを放射するように構成され、(図3に示すように)平行ビームIの2つの境界線は、5度の挟角を形成する。図4を参照すると、本実施形態では、コリメート光源10bは、ビーム角度θが-5度の平行ビームIを放射するように構成され、(図4に示すように)平行ビームIの2つの境界線は、-5度の挟角を形成する。
再び図1および図2を参照すると、流路20は、粒子Pが通過し得るように構成される。詳細には、流路20は、流体Lと粒子Pとの混合物が、流路20の端部20Aから流路20の端部20Bに流れ得るように構成される。いくつかの実施形態では、粒子Pのサイズは、1マイクロメートル以上で、100マイクロメートル以下の範囲であるが、本開示はこれらに限定しない。いくつかの実施形態では、流路20は、マイクロ流路であってもよい。例えば、流路20の内径R1は、0.1ミリメートル以上で、1ミリメートル以下の範囲であり得るが、本開示はこれらに限定しない。流路20は、マイクロ流体チップ22上に配置されてもよいが、本開示はこれに限定しない。
流路20は、平行ビームIの伝送路上に配置される。平行ビームIが、流路20の壁、および流路20内の流体Lを通過して、テレセントリックレンズ30に伝送され得るように、流路20は、透光性材料で作られてもよい。本開示は、透光性材料の種類および光透過率を限定しない。いくつかの実施形態では、流路20およびコリメート光源10bは、平行ビームIと流路20との間の挟角が-5度以上で、5度以下の範囲内になるように配置され、挟角は、平行ビームIのビーム中心線、および流路20の中心線によって画定されてもよい。本実施形態では、平行ビームIは、流路20に対して略直交する。言い換えれば、平行ビームIのビーム中心線は、良好な画像を得るために、流路20の中心線に実質的に直交してもよい。
いくつかの実施形態では、コリメート光源10と流路20との間の距離D1が、100ミリメートル以上、500ミリメートル以下の範囲内になるように、コリメート光源10および流路20は配置されるが、本開示はこれらに限定しない。流路20における平行ビームIのビーム径RLは、流路20の内径よりも大きくてもよい。この場合、平行ビームIは、流路20を流れる粒子Pを十分に照射し得る。例えば、光強度がピーク強度の1/e2である場合のスポット径を指すように、ビーム径は、当業者に知られている意味に従って画定されてもよい。いくつかの実施形態では、流路20における平行ビームIのビーム径RLは、均一に照射するために、10ミリメートル以上で、80ミリメートル以下の範囲であるが、本開示はこれらに限定しない。
テレセントリックレンズ30は、平行ビームIの伝送路上に配置される。平行ビームIは、流路20、および流路20内の流体Lを通過した後、テレセントリックレンズ30に伝送される。平行ビームIが、流路20を通過した後、テレセントリックレンズ30は、平行ビームIを撮像面IP上に収束させ、撮像するように構成される。したがって、粒子Pの画像が、撮像面IP上に提示され得る。テレセントリックレンズ30は、被写界深度Dを有する。いくつかの実施形態では、流路20およびテレセントリックレンズ30は、平行ビームIによって照射される流路20の部分が、テレセントリックレンズ30の被写界深度D内に位置するように構成される。これにより、流路20を通過するすべての粒子Pを、撮像面IP上での鮮明な画像で提示し得る。一般的に言えば、テレセントリックレンズ30は、より鮮明な画像を提供するために、大きな被写界深度Dを有し得る。いくつかの実施形態では、テレセントリックレンズ30の有効焦点距離は、144マイクロメートル以上で、216マイクロメートル以下の範囲であり得るが、本開示はこれらに限定しない。
本実施形態では、光学撮像システム1は、流体ポンプ40と、収容空洞42と、をさらに含み得る。収容空洞42は、流路20と流体連通する。収容空洞42は、試験対象の流体Lおよび粒子Pを収容する。流体ポンプ40は、収容空洞42に接続され、流体Lと粒子Pとの混合物が、収容空洞42から流路20に流れ、流体Lおよび粒子Pが流路20を通過するように、流体Lを動かすように構成される。流体ポンプ40は、機械式マイクロポンプまたは非機械式マイクロポンプであってもよいが、本開示はこれらに限定しない。いくつかの実施形態では、流体ポンプ40が流路20と協働すると、流体Lの流量は、0.3ml/分以上で、3ml/分以下の範囲であるが、本開示はこれらに限定しない。
本実施形態では、光学撮像システム1は、円偏光子50をさらに含み得る。円偏光子50は、1/4波長板および直線偏光子を含んでもよい。本実施形態では、円偏光子50は、平行ビームIの伝送路上に配置され、平行ビームIが、流路20を通過した後、円偏光子50を通ってテレセントリックレンズ30に伝送されるように、円偏光子50は、流路20とテレセントリックレンズ30との間に配置されてもよい。1/4波長板は、例えば、直線偏光子とテレセントリックレンズ30との間に配置されてもよい。円偏光子50は、周囲光の影響を低減し、画質を改善するために、一部の迷光(流路20の壁によって反射された周囲光など)を除去し得る。
本実施形態では、光学撮像システム1は、撮像面IP上に配置される画像検知装置60をさらに含み得る。画像検知装置60は、電荷結合素子(CCD)または相補型金属酸化膜半導体(CMOS)を含んでもよい。また、画像検知装置60は、撮像面IP上の粒子Pの画像を電子信号に変換してもよい。
図5は、本開示の一実施形態によるコリメート光源の概略図である。図5を参照すると、本実施形態では、コリメート光源10は、点光源12と、コリメートレンズ14と、を含む。点光源12は、1つまたは複数の高出力発光ダイオードデバイスを含み得るが、本開示はこれに限定しない。図5に示すように、本実施形態では、点光源12は、発散ビームI’を放射し得る。コリメートレンズ14は、単一の凸レンズであってもよいし、複数のレンズの組合せであってもよい。平行ビームIを得るために、点光源12によって放射された発散ビームI’が、コリメートレンズ14によってコリメートされ得るように、点光源12とコリメートレンズ14との間の距離D2は、コリメートレンズ14の有効焦点距離fと実質的に同じになるように構成され得る。
図6Aは、本開示の一実施形態による、粒子および平行ビームの概略図である。図6Bは、図6Aの実施形態による、粒子画像の概略図である。図6Aおよび図6Bを参照すると、図6Aに示すように、第1の粒子P1および第2の粒子P2は、平行ビームIによって照射された流路20の部分を通過する。第1の粒子P1は、流路20においてコリメート光源10に近い側に位置し、第2の粒子P2は、流路20においてコリメート光源10から遠い側に位置している。第1の粒子P1および第2の粒子P2を照射した平行ビームIは、テレセントリックレンズ30に伝送される前に、流路20、および流路20内の流体Lを通過する。その後、平行ビームIは、テレセントリックレンズ30を通って画像検知装置60に収束され、図6Bに示す画像IMを形成する。
画像IMは、第1の粒子画像P1’と、第2の粒子画像P2’と、を含む。第1の粒子画像P1’は、第1の粒子P1に対応する光学画像であり、第2の粒子画像P2’は、第2の粒子P2に対応する光学画像である。第1の粒子画像P1’の倍率M1は、第2の粒子画像P2’の倍率M2と同様である。例えば、第2の粒子画像P2’の倍率M2に対する第1の粒子画像P1’の倍率M1の比率は、1以上で、1.0358以下の範囲であってもよいが、本開示はこれらに限定しない。本実施形態では、第1の粒子画像P1’の倍率M1は、第2の粒子画像P2’の倍率M2と略同一である。したがって、第1の粒子画像P1’および第2の粒子画像P2’は、第1の粒子P1と第2の粒子P2との間のサイズ関係を、より正確に示し得る。例えば、第1の粒子P1のサイズと第2の粒子P2のサイズとが、実質的に同じである場合、第1の粒子P1および第2の粒子P2が、流路20内のどこに位置するかにかかわらず、第1の粒子画像P1’のサイズおよび第2の粒子画像P2’のサイズも実質的に同じである。したがって、本開示の光学撮像システム1は、より正確に、粒子を分析し、粒径を測定し得る。第1の粒子画像P1’の倍率M1および第2の粒子画像P2’の倍率M2は、3.8447以上で、3.982253以下の範囲であればよいが、本開示はこれらに限定しない。
要約すると、本開示の光学撮像システムは、コリメート光源およびテレセントリックレンズを用いて、平行ビームを流路に投影し、テレセントリックレンズによって像が作られる前に、平行ビームを流路に通過させ、これにより、光学撮像システムの被写界深度を改善し、流路内の粒子の画像をより鮮明にし得る。さらに、本開示の光学撮像システムは、画像倍率に対する粒子位置の影響をさらに低減し、それにより、流路内の粒子の情報を、より正確にカウントし、分析し得る。
本開示の光学撮像システムは、流体試料検査技術に適用されてもよい。
1:光学撮像システム
10,10a,10b:コリメート光源
12:点光源
14:コリメートレンズ
20:流路
20A,20B:流路の端部
22:マイクロ流体チップ
30:テレセントリックレンズ
40:流体ポンプ
42:収容空洞
50:円偏光子
60:画像検知装置
I:平行ビーム
I’ :発散ビーム
P,P1,P2:粒子
P1’,P2’ :粒子画像
L:流体
D:被写界深度
D1,D2:距離
IP:撮像面
IM:画像
R1:内径
RL:ビーム径
θ:ビーム角度

Claims (13)

  1. 粒子の画像を提示するように構成される光学撮像システムであって、
    平行ビームを放射するように構成されるコリメート光源と、
    前記平行ビームの伝送路上に配置され、前記粒子が通過し得るように構成される流路と、
    前記平行ビームの前記伝送路上に配置されるテレセントリックレンズであって、前記平行ビームが、前記テレセントリックレンズに伝送される前に、前記流路を通過し、前記テレセントリックレンズが、前記平行ビームを撮像面上に収束させるように構成される、テレセントリックレンズと
    前記平行ビームの前記伝送路上に配置される円偏光子と、
    を備え
    前記平行ビームが、前記円偏光子を通って前記テレセントリックレンズに伝送される前に、前記流路を通過する、光学撮像システム。
  2. 前記平行ビームのビーム角度が、-5度以上で、5度以下の範囲である、請求項1に記載の光学撮像システム。
  3. 前記コリメート光源が、点光源と、コリメートレンズと、を備える、請求項1に記載の光学撮像システム。
  4. 前記平行ビームと前記流路との間の挟角が、-5度以上で、5度以下の範囲である、請求項1に記載の光学撮像システム。
  5. 前記平行ビームによって照射される前記流路の一部が、前記テレセントリックレンズの被写界深度内に位置する、請求項1に記載の光学撮像システム。
  6. 前記流路における前記平行ビームのビーム径が、前記流路の内径よりも大きい、請求項1に記載の光学撮像システム。
  7. 前記流路における前記平行ビームのビーム径が、10ミリメートル以上で、80ミリメートル以下の範囲である、請求項1に記載の光学撮像システム。
  8. 前記流路の内径が、0.1ミリメートル以上で、1ミリメートル以下の範囲である、請求項1に記載の光学撮像システム。
  9. 前記コリメート光源と前記流路との間の距離が、100ミリメートル以上で、500ミリメートル以下の範囲である、請求項1に記載の光学撮像システム。
  10. 前記粒子が、流体に混合され、前記粒子が前記流路を通過するように、前記流体を動かすように構成される流体ポンプを、前記光学撮像システムがさらに備える、請求項1に記載の光学撮像システム。
  11. 前記流体の流量が、0.3ml/分以上で、3ml/分以下の範囲になるように、前記流体ポンプが、前記流路と協働する、請求項10に記載の光学撮像システム。
  12. 前記粒子のサイズが、1マイクロメートル以上で、100マイクロメートル以下の範囲である、請求項1に記載の光学撮像システム。
  13. 前記光学撮像システムが、前記撮像面上に配置される画像検知装置をさらに備える、請求項1に記載の光学撮像システム。
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