JP4908234B2 - 蒸発源及び蒸着装置 - Google Patents
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Description
従来の蒸発源は、その熱源としてシーズヒータを用いている。このシーズヒータの熱は均熱板及び坩堝を介して有機EL材料である昇華材及び伝熱材としてのサーモボールに伝達されるようになっている。つまり、坩堝内には昇華材及びその昇華材に熱を伝えるためのサーモボールが収容されている。坩堝内にサーモボールを収容する理由は、昇華材が粉状の固体であって加熱されると所々昇華されていき、昇華された部分が空洞となると熱が伝わらなくなるため、その際に昇華材への伝熱をサーモボールによって補助するためである。
前述したように蒸発源の熱源として一般的なシーズヒータを用いると、ヒータから有機EL材料に熱を伝達するための坩堝、サーモボール、均熱板及びヒータ自身それぞれが熱容量を有するため、それらの熱容量の総量は非常に大きなものとなる。このため、ヒータの温度が変化してから有機EL材料の温度が変化するまでにかなりの時間が必要となる。このため、有機EL材料の温度を細かく制御する際に応答性よく制御することが困難となり、その結果、有機EL材料の温度を微調整しながら一定に保つことが困難となるから、有機EL薄膜の成膜速度を一定に保つことが困難であった。
前記容器に収容される蒸発材料又は昇華材料を直接加熱して蒸発又は昇華させるハロゲンヒータと
を具備することを特徴とする。
尚、容器は、例えば石英製である。
上述した蒸発源と、
前記蒸着源が収容された蒸着室と、
を具備することを特徴とする。
つまり、本発明に係る蒸着装置は、上述した蒸発源のいずれかを用いて基板に蒸着膜を成膜する装置である。
図1は、本発明の実施の形態による蒸発源100を用いた有機EL蒸着装置の構成を示す概念図である。この有機EL蒸着装置はフラットディスプレイパネルとなるガラス基板1に有機EL膜を蒸着するためのものであり、搬入用ロードロック10、蒸着室20及び搬出用ロードロック30をこの順に連結した構成である。搬入用ロードロック10と蒸着室20の間、及び蒸着室20と搬出用ロードロック30の間それぞれにはシャッター40が設置されている。
蒸発源100は、蒸発材料又は昇華材料の一例である有機EL材料4を収容する石英製の細長い容器102を備えている。この容器102は直方体の筐体の上面を取り除いた形状となっており、この上面は略長方形であって長辺の長さが短辺の長さの4倍以上となっている。このような細長い容器102とすることにより、大型の透明基板に蒸着膜を効率よく成膜することができる。容器102は石英製の支持治具110によって支持されている。このため、容器102を取り替えることにより蒸発源100の有機EL材料4を簡単に交換することができる。支持治具110は、直方体の筐体の上面を取り除き、かつ側面110b及び端面110cそれぞれの上端110aを外側に向けて折り曲げた形状となっている。支持治具110は、蒸発源のケース112に上から嵌め込まれている。ケース112は、直方体の筐体の上面を取り除いた形状であり、側面及び端面それぞれの上端が支持治具110の上端110aに当接することにより、支持治具110を支持している。
尚、容器102は、熱源からの輻射熱を有機EL材料4に直接伝える材質であれば石英製ではなくてもよい。
以下に巻密度の粗密の設け方の一例を示す。まず、フィラメント126の巻密度に変化がないハロゲンヒータ120a等を用いてガラス基板1に有機EL薄膜4aを成膜する。次いで、成膜された有機EL薄膜4aの膜厚のばらつきを測定する。次いで、有機EL薄膜4aの膜厚が厚い領域に対向する部分(例えばハロゲンヒータ120a等の長手方向において同じ位置にある部分)においてフィラメント126の巻密度を粗くし、膜厚が薄い領域に対向する部分においてフィラメント126の巻密度を密にする。
2…搬送ローラ
3…支持部材
4…有機EL材料
4a…有機EL薄膜
10…搬入用ロードロック
20…蒸着室
30…搬出用ロードロック
40…シャッター
100…蒸発源
102…容器
105…ヒータ
110…支持治具
110a…上端
110b…側面
110c…端面
112…ケース
120a〜120d…ハロゲンヒータ
126…フィラメント
Claims (5)
- 蒸発材料又は昇華材料が収容される細長い容器と、
前記容器の長手方向の一方の側面に該長手方向に沿って配置され、前記蒸発材料又は昇華材料を直接加熱して蒸発又は昇華させる第1のハロゲンヒータと、
前記容器の長手方向の他方の側面に該長手方向に沿って配置され、前記蒸発材料又は昇華材料を直接加熱して蒸発又は昇華させる第2のハロゲンヒータと、
を具備し、
前記第1及び第2のハロゲンヒータそれぞれのフィラメントの巻密度は、蒸着成膜される膜厚が略一定になるように前記長手方向において粗密が設けられていることを特徴とする蒸発源。 - 請求項1において、前記容器は石英製であることを特徴とする蒸発源。
- 請求項1又は2において、前記容器の底面に前記長手方向に沿って配置された第3のハロゲンヒータをさらに具備することを特徴とする蒸発源。
- 請求項1乃至3のいずれか一項において、前記容器内に収容された蒸発材料又は昇華材料の露出面が略長方形であり、前記略長方形の長辺の長さが短辺の4倍以上であることを特徴とする蒸発源。
- 基板に蒸着膜を成膜する蒸着装置であって、
請求項1乃至4のいずれか一項に記載の蒸発源と、
前記蒸発源が収容された蒸着室と、
を具備することを特徴とする蒸着装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006553019A JP4908234B2 (ja) | 2005-01-17 | 2006-01-17 | 蒸発源及び蒸着装置 |
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005009210 | 2005-01-17 | ||
JP2005009210 | 2005-01-17 | ||
PCT/JP2006/300506 WO2006075755A1 (ja) | 2005-01-17 | 2006-01-17 | 蒸発源及び蒸着装置 |
JP2006553019A JP4908234B2 (ja) | 2005-01-17 | 2006-01-17 | 蒸発源及び蒸着装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2006075755A1 JPWO2006075755A1 (ja) | 2008-06-12 |
JP4908234B2 true JP4908234B2 (ja) | 2012-04-04 |
Family
ID=36677774
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006553019A Expired - Fee Related JP4908234B2 (ja) | 2005-01-17 | 2006-01-17 | 蒸発源及び蒸着装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4908234B2 (ja) |
WO (1) | WO2006075755A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7092577B2 (ja) | 2018-06-28 | 2022-06-28 | キヤノントッキ株式会社 | 蒸発源及び蒸着装置 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61272368A (ja) * | 1985-05-28 | 1986-12-02 | Mitsubishi Electric Corp | 薄膜形成装置 |
JPH0313565A (ja) * | 1989-06-12 | 1991-01-22 | Hitachi Ltd | 真空蒸着装置 |
JP2002146516A (ja) * | 2000-11-07 | 2002-05-22 | Sony Corp | 有機薄膜の蒸着方法 |
KR100437768B1 (ko) * | 2001-09-13 | 2004-06-30 | 엘지전자 주식회사 | 박막증착장치 |
-
2006
- 2006-01-17 WO PCT/JP2006/300506 patent/WO2006075755A1/ja not_active Application Discontinuation
- 2006-01-17 JP JP2006553019A patent/JP4908234B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2006075755A1 (ja) | 2006-07-20 |
JPWO2006075755A1 (ja) | 2008-06-12 |
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