JP4903542B2 - ガラスセラミック - Google Patents
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- C03C10/00—Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition
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Description
SiO2 10−50
B2 O3 5−40
P2 O5 25−75
清澄剤 ≦5
不純物 ≦1
M32 O3 、M52 O5 及びM4O2 の群から選ばれた少なくとも1つの成分が0.1−10重量%、
ここで、M3はランタノイド、イットリウム、鉄、アルミニウム、ガリウム、インジウム及びタリウムの群から選ばれた1つの元素であり、ここで、M5はバナジウム、ニオブ及びタンタルの群から選ばれた1つの元素であり、ここで、M4はチタン、ジルコニウム、ハフニウム及びセリウムの群から選ばれた1つの元素である。
SiO2 10−50
B2 O3 5−40
P2 O5 25−75
清澄剤 <5
不純物 <1
M32 O3 、M52 O5 及びM4O2 の群から選ばれた少なくとも1つの成分が0.1−10重量%、
その場合、M3はランタノイド、イットリウム、鉄、アルミニウム、ガリウム、インジウム及びタリウムの群から選ばれた1つの元素であり、その場合、M5はバナジウム、ニオブ及びタンタルの群から選ばれた1つの元素であり、その場合、M4はチタン、ジルコニウム、ハフニウム及びセリウムの群から選ばれた1つの元素であって、
その後主としてBPO4 からなる結晶相が生成するまで、上記基材ガラスをセラミック化にするための熱処理に付する。
ここでは、この基質の熱膨張を種々の被覆物に適合させることができるので、この基質は明らかに有利に半導体材料で被覆するのにとくに適している。
また、この発明に係るガラスセラミックは、GaAsで被覆するのに適しており、従って太陽電池の製造に使用することができて有利である。
しかし、少なくとも1重量%のM32 O3 、M52 O5 及び/又はM4O2 を添加することが好ましい。
とくに良好な化学的安定性がこれらの特徴によって達成される。
このガラスセラミック中に含まれている燐は、結晶相の内部に圧倒的に結合されている。
この発明に係るガラスセラミックは、セラミック化のプログラムを適当に選択することによって透明、半透明又は不透明の材料として製造することができる。
これらの性質は、とくに光学的性質が特別の役割を果たす時にとくに有利である。
そのような透明なガラスセラミックは、1.5と1.6との間の屈折率nd を持ち、65と68との間のアッベ数νd を持っていることを特徴とするものである。
この発明に係るガラスセラミックの耐酸性は、DIN 12116により測定された重量損失で定義すると、多くて15mg/dm2 であり、好ましくは多くて12mg/dm2 である。
この発明に係るガラスセラミックの別の利点は、その低い誘電率(1MHzでε<4.5)である。これは、電子部品用の基質として使用するときに有利である。
当業者によく知られているセラミック化方法の使用による温度勾配の中で、透明なガラスセラミックを製造するための理想的な結晶化温度を決定した。
実施例1は、La2 O3 の添加による積極的な効果を示し、La2 O3 はとくにNaOH水溶液に対する耐薬品性を顕著に改良した結果をもたらしている。Nb2 O5 (実施例2)の添加は、これに対して耐酸性の実質的な改良を示している。
適用できる最高温度は、約1200℃までの値にまで上昇させることができるが、少なくともセラミック化温度と同じ高さの温度である。
Claims (23)
- 次の組成物(重量%)を溶融することによって作られたガラスセラミック、
SiO2 10−50
B2O3 5−40
P2O5 25−75
清澄剤 ≦5
不純物 ≦1
M32O3、Nb 2 O 5 及びM4O2の群から選ばれた少なくとも1つの成分が0.1−10重量%、
ここで、M3はランタノイド及びアルミニウムの群から選ばれた1つの元素であり、ここで、M4はチタン及びジルコニウムの群から選ばれた1つの元素である。 - 圧倒的にBPO4からなる結晶相を持った請求項1に記載のガラスセラミック。
- M32O3、Nb 2 O 5 及びM4O2の群から選ばれた少なくとも1つの成分を少なくとも0.5重量%含んでいる、請求項1又は2に記載のガラスセラミック。
- M32O3、Nb 2 O 5 及びM4O2の群から選ばれた少なくとも1つの成分を少なくとも1重量%含んでいる、請求項1−3の何れか1つの項に記載のガラスセラミック。
- M32O3、Nb 2 O 5 及びM4O2の群から選ばれた成分の合計量が多くて5重量%である、請求項1−4の何れか1つの項に記載のガラスセラミック。
- M32O3、Nb 2 O 5 及びM4O2の群から選ばれたそれぞれ1つの成分を多くて5重量%含んでいる、請求項1−5の何れか1つの項に記載のガラスセラミック。
- 成分のP2O5とB2O3が1:1と1:2の間のモル比で含まれている、請求項1−6の何れか1つの項に記載のガラスセラミック。
- アルカリ金属の酸化物を実質的に含まない、請求項1−7の何れか1つの項に記載のガラスセラミック。
- 20℃と700℃との間の温度範囲内で、4.5から8.5×10−6/Kまでの熱膨張係数を持っている、請求項1−8の何れか1つの項に記載のガラスセラミック。
- 少なくとも800℃まで熱に対して安定である、請求項1−9の何れか1つの項に記載のガラスセラミック。
- 光学的に透明であって、好ましくは可視光線(380nm−780nm)に対し少なくとも50%の透明度を持っている、請求項1−10の何れか1つの項に記載のガラスセラミック。
- 透明度を損なわないで少なくとも800℃まで熱に対して安定である、請求項1−11の何れか1つの項に記載のガラスセラミック。
- 1.5と1.6との間の屈折率ndを持っている、請求項11又は12に記載のガラスセラミック。
- 65と80との間のアッベ数νdを持っている、請求項11−13の何れか1つの項に記載のガラスセラミック。
- DIN 12116による重量減が多くて15mg/dm2の耐酸性を持った、請求項1−14の何れか1つの項に記載のガラスセラミック。
- DIN/ISO 695による重量減が多くて350mg/dm2の耐アルカリ性を持った、請求項1−15の何れか1つの項に記載のガラスセラミック。
- 下記の組成(重量%)を持ったガラス基材を最初に溶融し、その後圧倒的にBPO4からなる結晶相が生成されるまで、セラミック化のために上記ガラス基材を熱処理に付する、ガラスセラミックの製造方法、
SiO2 10−50
B2O3 5−40
P2O5 25−75
清澄剤 ≦5
不純物 ≦1
M32O3、Nb 2 O 5 及びM4O2の群から選ばれた少なくとも1つの成分が0.1−10重量%、
ここで、M3はランタノイド及びアルミニウムの群から選ばれた1つの元素であり、ここで、M4はチタン及びジルコニウムの群から選ばれた1つの元素である。 - 好ましくは少なくとも800℃までの温度に耐える被覆用基質としての、請求項1−16の何れか1つの項に記載のガラスセラミックの使用。
- 基質の熱膨張が被覆材の熱膨張に適合している、請求項18に記載の使用。
- 半導体材料で被覆するための基質としての請求項18又は19に記載のガラスセラミックの使用。
- 請求項1−16の何れか1つの項に記載のガラスセラミックで作られた少なくとも1つの基質を持っている、半導体部品、光電池部品及び光学部品の群から選ばれた部品。
- 請求項1−16の何れか1つの項に記載のガラスセラミックで作られた少なくとも1つの基質を持ち、その基質を半導体部品で被覆するか、又は光学部品に付加して、半導体部品、光電池部品及び光学部品の群から選ばれた部品を製造する方法。
- アルカリ金属の酸化物の全含有量が最大0.5重量%である、請求項1−16の何れか1つの項に記載のガラスセラミック。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102005058759.3 | 2005-12-05 | ||
DE102005058759A DE102005058759B4 (de) | 2005-12-05 | 2005-12-05 | Glaskeramik, Verfahren zur Herstellung einer Glaskeramik und deren Verwendung |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007153735A JP2007153735A (ja) | 2007-06-21 |
JP4903542B2 true JP4903542B2 (ja) | 2012-03-28 |
Family
ID=38047729
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006327015A Expired - Fee Related JP4903542B2 (ja) | 2005-12-05 | 2006-12-04 | ガラスセラミック |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7592278B2 (ja) |
JP (1) | JP4903542B2 (ja) |
DE (1) | DE102005058759B4 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7450813B2 (en) * | 2006-09-20 | 2008-11-11 | Imra America, Inc. | Rare earth doped and large effective area optical fibers for fiber lasers and amplifiers |
WO2009120330A2 (en) * | 2008-03-25 | 2009-10-01 | Corning Incorporated | Substrates for photovoltaics |
EP2374034A1 (en) | 2008-12-04 | 2011-10-12 | Imra America, Inc. | Highly rare-earth-doped optical fibers for fiber lasers and amplifiers |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3519445A (en) * | 1967-11-06 | 1970-07-07 | Corning Glass Works | Al2o3-p2o5-b2o3 glass-ceramic articles and methods |
SU386858A1 (ru) * | 1971-07-16 | 1973-06-21 | Стекло | |
JPS608985B2 (ja) * | 1979-08-10 | 1985-03-07 | 富士写真フイルム株式会社 | 結晶化ガラスおよびその製造方法 |
DE3204625C2 (de) * | 1982-02-10 | 1986-07-10 | Schott Glaswerke, 6500 Mainz | Alumosilico-Phosphat-Brillenglas mit einer Abbezahl über 46, mit einem Brechungsindex über 1,56 und einer sehr niedrigen Dichte |
US4576920A (en) * | 1985-05-23 | 1986-03-18 | Corning Glass Works | B2 O3 --P2 O5 --SiO2 glass-ceramics |
US4833104A (en) * | 1987-11-27 | 1989-05-23 | Corning Glass Works | Glass-ceramic substrates for electronic packaging |
US4784977A (en) * | 1988-03-11 | 1988-11-15 | Corning Glass Works | Hydrogen-containing gas-ceramics |
JPH04160054A (ja) * | 1990-10-23 | 1992-06-03 | Onoda Cement Co Ltd | 低温焼結性低誘電率セラミックスの製造法 |
JPH10291835A (ja) * | 1997-04-17 | 1998-11-04 | S Ii C Kk | 情報記録ディスク基板用結晶化ガラス及びその製造方法 |
JP2001342036A (ja) * | 2000-03-31 | 2001-12-11 | Ngk Insulators Ltd | ガラス材料並びに結晶化ガラス製品及び結晶化ガラス材料の製造方法 |
US6753280B2 (en) * | 2001-06-21 | 2004-06-22 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Ultraviolet/infrared absorbent green glass |
US6927186B2 (en) * | 2002-12-04 | 2005-08-09 | Guardian Industries Corp. | Glass composition including sulfides having low visible and IR transmission |
JP4183514B2 (ja) * | 2003-01-16 | 2008-11-19 | Hoya株式会社 | 情報記録媒体用基板、情報記録媒体およびその製造方法、ならびに情報記録装置 |
DE10346197B4 (de) * | 2003-09-30 | 2006-02-16 | Schott Ag | Glaskeramik, Verfahren zur Herstellung einer solchen und Verwendung |
-
2005
- 2005-12-05 DE DE102005058759A patent/DE102005058759B4/de not_active Expired - Fee Related
-
2006
- 2006-12-04 US US11/633,679 patent/US7592278B2/en active Active
- 2006-12-04 JP JP2006327015A patent/JP4903542B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE102005058759B4 (de) | 2009-11-05 |
JP2007153735A (ja) | 2007-06-21 |
DE102005058759A1 (de) | 2007-06-06 |
US7592278B2 (en) | 2009-09-22 |
US20070142199A1 (en) | 2007-06-21 |
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