JP4890227B2 - スチームトラップ - Google Patents
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Description
本発明は、蒸気配管系に発生するドレンを自動的に排出するスチームトラップに関し、特に弁部材が離着座して開閉する弁座部材の排出通路の内面に付着した流体中の異物を掃除できるものに関する。
従来のスチームトラップは、弁ケーシングで入口と弁室と出口を形成し、弁室を出口側に連通する排出通路を有する弁座部材を設け、弁室内に弁座部材に離着座して排出通路を開閉する弁部材を配置し、外部から進退操作可能な掃除部材を排出通路内に配置したもので、手動により掃除部材を進退せしめて弁座部材の排出通路の内面に付着した異物を掃除するものである。
上記従来のスチームトラップは、手動により掃除部材を進退せしめるものであるので、弁座部材の排出通路の内面に付着した異物を掃除するのに手間隙の掛かる問題点があった。
実公昭４９−３６７４７号公報
解決しようとする課題は、自動的に弁座部材の排出通路の内面に付着した異物を掃除できるようにすることである。
本発明は、弁ケーシングで入口と弁室と出口を形成し、弁室を出口側に連通する排出通路を有する弁座部材を設け、弁室内に弁座部材に離着座して排出通路を開閉する弁部材を配置し、排出通路内に掃除部材を配置したものにおいて、弁ケーシングと弁座部材の間に弁室を出口側に連通するバイパス通路を形成し、弁座部材に温度応動部材を連結し、温度応動部材の変形により、高温時に弁座部材を前進させてバイパス通路を閉じ、低温時に弁座部材を後退させてバイパス通路を開くと共に掃除部材により弁座部材の排出通路内面に付着した異物を掃除することを特徴とする。
本発明は、温度応動部材の変形により弁座部材を進退させ、掃除部材により弁座部材の排出通路の内面に付着した異物を掃除するものであるので、自動的に弁座部材の排出通路の内面に付着した異物を掃除できるという優れた効果を生じる。また、温度応動部材の変形により弁座部材を進退させ、低温時にバイパス通路を開くものであるので、蒸気送り始めの低温のドレンと空気を素早く排出できるという優れた効果を生じる。
本発明のスチームトラップは、弁ケーシングと弁座部材の間に弁室を出口側に連通するバイパス通路を形成し、弁座部材に温度応動部材を連結し、温度応動部材の変形により、高温時に弁座部材を前進させてバイパス通路を閉じ、低温時に弁座部材を後退させてバイパス通路を開くと共に掃除部材により弁座部材の排出通路内面に付着した異物を掃除するものである。そのため、スチームトラップが正常にドレンを排出していれば、温度応動部材が高温に保たれて弁座部材を前進させてバイパス通路を閉じている。そして、弁座部材の排出通路内面に異物が付着してドレンを排出できなくなると、温度応動部材が低温になり弁座部材を後退させてバイパス通路を開くと共に掃除部材により弁座部材の排出通路の内面に付着した異物を掃除する。
上記の技術的手段の具体例を示す実施例を説明する（図１参照）。本体１に蓋２を締結して弁ケーシングを形成し、内部に弁室４を形成する。本体１は入口５と出口通路６と出口７を有し、入口５は弁室４の上部に連通する。入口５と出口７は同一軸上に形成する。弁室４の下部の本体１に排出通路８を開けた弁座部材９を配置する。排出通路８は弁室４側端の小径の先端部８ａと、先端部８ａの下流の下流に向かって径の拡がったテーパー部８ｂと、テーパー部８ｂの下流の大径の後端部８ｃと、出口通路８に向けて開口する通孔８ｄとから成る。本体１と弁座部材９の間に弁室４を出口７側に連通するバイパス通路３を形成する。弁座部材９の肩部に前進したときに本体１に密接してバイパス通路３を閉じ、後退したときに本体１から離れてバイパス通路３を開く環状に突出したシール部１５を形成する。弁室４の下部は排出通路８及びバイパス通路３から出口通路６を介して出口７に連通する。弁室４内に弁座部材９の弁室側端面に離着座して排出通路８を開閉する弁部材としての中空球形のフロート１１を自由状態で配置する。フロート１１が排出通路８を閉じた位置で当接するフロート座１２をフロート１１の下方に設ける。
本体１に弁座部材９と同一軸上にプラグ１３をねじ結合する。プラグ１３に排出通路８の先端部８ａ方向に伸びる掃除部材１０を一体に形成する。掃除部材１０の外径は排出通路８の先端部８ａの内径よりも僅かに小径に形成する。弁座部材９とプラグ１３の間に一端を弁座部材９に固定し他端をプラグ１３に固定した温度応動部材としてのバイメタル１４を配置する。バイメタル１４は長い短冊状の板材をつる巻状にし更につる巻状にした二重つる巻型に形成する。パイメタル１４は高温時に伸張して弁座部材９を前進させてバイパス通路３を閉じ、低温時に収縮して弁座部材９を後退させてバイパス通路３を開くと共に掃除部材１０の先端を排出通路８の先端部８ａに貫通させ、掃除部材１０により排出通路８の先端部８ａの内面に付着した異物を掃除する。
蒸気送り始めは弁ケーシング内が低温であり、バイメタル１４は収縮して弁座部材９を後退させてバイパス通路３を開いている。また、液面に応じてフロート１１が浮上降下して弁座部材９に離着座して排出通路８を開閉する。これにより、低温のドレンと空気をバイパス通路３及び排出通路８から出口通路６を通して出口７に排出する。低温のドレンと空気が排出されて弁ケーシング内が高温になると、パイメタル１４は伸張して弁座部材９を前進させてバイパス通路３を閉じる。その後は液面に応じて浮上降下するフロート１１が弁座部材９に離着座して排出通路８を開閉する。排出通路８が開けられると弁室４内のドレンが排出通路８から出口通路６を通して出口７に排出され、排出通路８が閉じられると弁室４内の蒸気の漏出が防止される。
弁座部材９の排出通路８の先端部８ａ内面に異物が付着して正常にドレンを排出できなくなると、バイメタル１４が低温になり収縮して弁座部材９を後退させてバイパス通路３を開くと共に掃除部材１０の先端を排出通路８の先端部８ａに貫通させ、掃除部材１０により排出通路８の先端部８ａの内面に付着した異物を掃除する。
１ 本体
２ 蓋
３ バイパス通路
４ 弁室
５ 入口
７ 出口
８ 排出通路
８ａ 排出通路の先端部
９ 弁座部材
１０ 掃除部材
１１ フロート
１４ バイメタル
１５ シール部
２ 蓋
３ バイパス通路
４ 弁室
５ 入口
７ 出口
８ 排出通路
８ａ 排出通路の先端部
９ 弁座部材
１０ 掃除部材
１１ フロート
１４ バイメタル
１５ シール部
Claims (1)
- 弁ケーシングで入口と弁室と出口を形成し、弁室を出口側に連通する排出通路を有する弁座部材を設け、弁室内に弁座部材に離着座して排出通路を開閉する弁部材を配置し、排出通路内に掃除部材を配置したものにおいて、弁ケーシングと弁座部材の間に弁室を出口側に連通するバイパス通路を形成し、弁座部材に温度応動部材を連結し、温度応動部材の変形により、高温時に弁座部材を前進させてバイパス通路を閉じ、低温時に弁座部材を後退させてバイパス通路を開くと共に掃除部材により弁座部材の排出通路内面に付着した異物を掃除することを特徴とするスチームトラップ。
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP2006338523A JP4890227B2 (ja) | 2006-12-15 | 2006-12-15 | スチームトラップ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2006338523A JP4890227B2 (ja) | 2006-12-15 | 2006-12-15 | スチームトラップ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2008151221A JP2008151221A (ja) | 2008-07-03 |
| JP4890227B2 true JP4890227B2 (ja) | 2012-03-07 |
Family
ID=39653600
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| JP2006338523A Expired - Fee Related JP4890227B2 (ja) | 2006-12-15 | 2006-12-15 | スチームトラップ |
Country Status (1)
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2006
- 2006-12-15 JP JP2006338523A patent/JP4890227B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| JP2008151221A (ja) | 2008-07-03 |
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