JP4886246B2 - 酸化亜鉛系導電膜製造用のイオンプレーティング用ターゲットとその製法、および酸化亜鉛系導電膜の製法 - Google Patents
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Description
開空孔の容積率(O)=[{(Ww−W)/25℃での水の密度}/V]×100…(1)
閉空孔の容積率(C)=[(100−O)/100−W/(V・ρ)]×100…(2)
最大粒子径が110μm以下で平均粒子径が5μmであり、約900℃で3時間加熱焼成した酸化亜鉛粉末を、機械プレスにより圧力20MPaで予備成形した後、大気雰囲気下に1100℃で5時間焼結し、直径29mm×厚さ20mmの酸化亜鉛焼結体を製造した。
最大粒子径が75μm以下で平均粒子径が3μmであり、約650℃で3時間加熱焼成した酸化亜鉛系焼成粉末97質量部と、酸化ガリウム粉末(キシダ化学社製)3質量部を、ボールミルで十分混合した後、機械プレスにより圧力20MPaで予備成形した。次いで、大気雰囲気下に1100℃で3時間焼結して、直径30.5mm×厚さ20mmの酸化亜鉛系焼結体を得た。
最大粒子径が75μm以下で平均粒子径が4μmであり、約800℃で3時間加熱焼成した酸化亜鉛粉末97質量部と、酸化ガリウム粉末(キシダ化学社製)3質量部を、ボールミルで十分混合した後、機械プレスにより圧力20MPaで予備成形した。次いで、大気雰囲気下に1300℃で2時間焼結して、直径30.7mm×厚さ20mmの酸化亜鉛系焼結体を得た。
最大粒子径が250μm以下で平均粒子径が35μmであり、約950℃で3時間加熱焼成した酸化亜鉛粉末を使用し、機械プレスにより圧力20MPaで予備成形した後、大気雰囲気下に1100℃で5時間焼結して、直径31mm×厚さ20mmの酸化亜鉛焼結体を得た。
最大粒子径が250μm以下で平均粒子径が35μmであり、約950℃で3時間加熱焼成した酸化亜鉛粉末97質量部と、酸化ガリウム粉末(キシダ化学社製)3質量部を、ボールミルで十分混合した後、機械プレスにより圧力20MPaで予備成形した。次いで、大気雰囲気下に1100℃で3時間焼結して、直径32mm×厚さ20mmの酸化亜鉛系焼結体を得た。
最大粒子径が180μm以下で平均粒子径が31μmであり、約800℃で3時間加熱焼成した酸化亜鉛粉末97質量部と、酸化ガリウム粉末(キシダ化学社製)3質量部を使用し、ボールミルを用いて十分混合した後、機械プレスにより圧力20MPaで予備成形した。次いで、大気雰囲気下に1100℃で3時間焼結することにより、直径30.5mm×厚さ20mmの酸化亜鉛系焼結体を製造した。
Claims (6)
- 酸化亜鉛主体の焼結体からなり、外形から求められる体積に対する開空孔の割合が15〜40%であり、閉空孔の割合が3.0%以下であることを特徴とする酸化亜鉛系導電膜製造用のイオンプレーティング用ターゲット。
- 前記焼結体は、最大粒子径が150μm以下で平均粒子径が3〜30μmである酸化亜鉛系粉末を予備成形し焼結したものである請求項1に記載のターゲット。
- 前記焼結体は、酸化亜鉛含量が80質量%以上である酸化亜鉛系粉末を予備成形し焼結したものである請求項1または2に記載のターゲット。
- 前記酸化亜鉛系粉末は、3B族、4B族、7B族から選ばれる少なくとも1種の元素を0.003〜20質量%含有するものである請求項2または3に記載のターゲット。
- 前記請求項1〜4のいずれかに記載のイオンプレーティング用ターゲットを製造する方法であって、400〜1000℃で焼成されており、最大粒子径が150μm以下で平均粒子径が3〜30μmである酸化亜鉛系粉末を予備成形し、500〜1600℃で焼結することを特徴とする酸化亜鉛系導電膜製造用ターゲットの製法。
- 前記請求項1〜4のいずれかに記載のターゲットを使用し、イオンプレーティング法によって酸化亜鉛系導電膜を形成することを特徴とする酸化亜鉛系導電膜の製法。
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