JP4884676B2 - 電気錫メッキ方法 - Google Patents
電気錫メッキ方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4884676B2 JP4884676B2 JP2005009569A JP2005009569A JP4884676B2 JP 4884676 B2 JP4884676 B2 JP 4884676B2 JP 2005009569 A JP2005009569 A JP 2005009569A JP 2005009569 A JP2005009569 A JP 2005009569A JP 4884676 B2 JP4884676 B2 JP 4884676B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- tin
- rate
- plating solution
- plating
- tank
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000007747 plating Methods 0.000 title claims description 80
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 66
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 27
- 229910001432 tin ion Inorganic materials 0.000 claims description 113
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 30
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 30
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 25
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 25
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 25
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 claims description 20
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 14
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 claims description 12
- 238000007664 blowing Methods 0.000 claims description 9
- 238000012935 Averaging Methods 0.000 claims description 7
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 5
- 230000036962 time dependent Effects 0.000 claims description 4
- 230000032683 aging Effects 0.000 claims description 2
- 230000004069 differentiation Effects 0.000 claims description 2
- 230000029087 digestion Effects 0.000 claims description 2
- 230000011218 segmentation Effects 0.000 claims 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 36
- 239000010802 sludge Substances 0.000 description 33
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 7
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 7
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 5
- 238000000638 solvent extraction Methods 0.000 description 5
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 3
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 3
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 3
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 2
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010907 mechanical stirring Methods 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 230000008719 thickening Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D21/00—Processes for servicing or operating cells for electrolytic coating
- C25D21/12—Process control or regulation
- C25D21/14—Controlled addition of electrolyte components
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/30—Electroplating: Baths therefor from solutions of tin
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Automation & Control Theory (AREA)
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Description
これにメッキ液中のH+ が反応し、Sn2+が生成する。 SnO+2H+ → Sn2++H2 O
しかし、溶存酸素の量が過剰になるとSnOが酸素と反応してSnO2 となり、このSnO2 は不溶性のため、メッキ液中でスラッジとなる。
SnO+1/2O2 → SnO2
これらの問題を解決するため、発明者らは鋭意開発を進めた結果、メッキ槽の錫イオン濃度を管理範囲内に収めつつ、錫スラッジの発生を最小限に抑えるプロセスコンピュータ連動による錫イオン濃度の予測制御システムを提供することにある。
(1)金属錫溶解槽とメッキ液循環槽との間で酸素を溶存させたメッキ液を循環させながら金属錫を溶解し、メッキ液循環槽と電解メッキ槽との間でメッキ液を循環して不溶性電極を用いる電気錫メッキ方法において、通板スケジュールから錫イオン消費予定速度の経時変化を求める工程、該消費予定速度の経時変化と同等に錫イオン生成速度の経時変化を求める工程、前記錫イオン生成速度を、該錫イオン生成速度が増加する期間で各々区分化し、区分化内の錫イオン生成速度を平均化する工程、該平均化した錫イオン生成速度になるように前記金属錫溶解槽への酸素吹き込み量を調整する工程を含むことを特徴とする電気錫メッキ方法。
図1は、本発明の実施に係る装置の全体概略図である。この図に示すように、金属錫溶解槽1で、金属錫供給装置2から開閉弁7を介して供給された金属錫粒子3をメッキ液循環槽4との間でメッキ液を循環させながら、酸素吹込みパイプ11から酸素を吹込み、金属錫を溶解する。一方、電解メッキ槽5とメッキ液循環槽4との間ではメッキ液を循環させながら、不溶性電極9を用いてストリップ10に電気錫メッキを行なうように構成されている。また、メッキ液循環槽4と電解メッキ槽5との間、またはメッキ液循環槽4と金属錫溶解槽1との間には、ポンプ6あるいは開閉弁7を設けたメッキ液循環パイプ8が接続されている。
(錫スラッジ生成速度)∝(酸素吹込み量)2
(錫イオン生成速度) ∝(酸素吹込み量)
故に、(錫スラッジ生成速度)∝ (錫イオン生成速度)2
となり、錫イオン生成において、錫スラッジ生成を抑えるには、下記式より錫イオン消費期間中の平均の錫イオン消費予定速度を錫イオン生成速度とすればよいことが判る。
ここで、錫イオン生成速度:x+xi
平均錫イオン消費予定速度:x
スラッジ生成速度:y
ところが、錫イオン濃度はメッキ製品の光沢の良否と密接な関係があり、一般に錫イオン濃度は一定の狭い範囲に保つことが必要である。
図2は、本発明の実施例による錫イオン消費予定速度、錫イオン生成速度、錫イオン濃度および錫スラッジ生成速度の経時変化を示す図である。図2(a)は時間と錫イオン消費予測速度との関係を示す。図2(b)は時間と錫イオン生成速度との関係を示す。図2(c)は時間と錫イオン濃度との関係を示す。また、図2(d)は時間と錫スラッジ生成速度との関係を示している。この図に示すように、下記(1)〜(5)の手順により、どの期間の錫イオン消費予定速度を平均化するかを決め、錫イオン生成速度(経時変化)を決定する。
(3)前記図2(a)の錫イオン消費予定速度の経時変化と前記図2(b)の平均化された錫イオン生成速度の経時変化より、錫イオン濃度の経時変化を図2(c)に示すように計算する。
(4)平均化する期間の錫イオン濃度が、管理目標上下限を超えるまで、平均化された錫イオン生成速度が増加する期間で各々再度平均化する。
(5)錫イオン消費予定速度の経時変化と前記再平均化された錫イオン生成速度の経時変化より、錫イオン濃度の経時変化の計算を繰り返す。
(6)上記(5)で平均化する期間の錫イオン濃度が、管理目標上下限を超えなかったケースの錫イオン生成速度の経時変化を錫イオン生成速度の経時変化計画値(図2b)とする。
[図2] 本発明の実施例による錫イオン消費予定速度、錫イオン生成速度、錫イオン濃度および錫スラッジ生成速度の経時変化を示す図である。
[図3] 従来による錫イオン消費予定速度、錫イオン生成速度、錫イオン濃度および錫スラッジ生成速度の経時変化を示す図である。
2 金属錫供給装置
3 金属錫粒子
4 メッキ液循環槽
5 電解メッキ槽
6 ポンプ
7 開閉弁
8 メッキ液循環パイプ
9 不溶性電極
10 ストリップ
11 パイプ
12 錫イオン濃度計
特許出願人 新日本製鐵株式会社
代理人 弁理士 椎 名 彊 他1
Claims (2)
- 金属錫溶解槽とメッキ液循環槽との間で酸素を溶存させたメッキ液を循環させながら金属錫を溶解し、メッキ液循環槽と電解メッキ槽との間でメッキ液を循環して不溶性電極を用いる電気錫メッキ方法において、
通板スケジュールから錫イオン消費予定速度の経時変化を求める工程、該消費予定速度の経時変化と同等に錫イオン生成速度の経時変化を求める工程、前記錫イオン生成速度を、該錫イオン生成速度が増加する期間で各々区分化し、区分化内の錫イオン生成速度を平均化する工程、該平均化した錫イオン生成速度になるように前記金属錫溶解槽への酸素吹き込み量を調整する工程を含むことを特徴とする電気錫メッキ方法。 - 金属錫溶解槽とメッキ液循環槽との間で酸素を溶存させたメッキ液を循環させながら金属錫を溶解し、メッキ液循環槽と電解メッキ槽との間でメッキ液を循環して不溶性電極を用いる電気錫メッキ方法において、
通板スケジュールから錫イオン消費予定速度の経時変化を求める工程、該消費予定速度の経時変化と同等に錫イオン生成速度の経時変化を求める工程、前記錫イオン生成速度を、該錫イオン生成速度が増加する期間で各々区分化し、区分化内の錫イオン生成速度を平均化する工程、平均化した錫イオン生成速度が増加する期間でさらに各々区分化することと、区分化内の錫イオン生成速度の平均化とを繰返す工程、錫の生成速度に応じた各々の錫イオン濃度が管理目標上下限値を超えない平均化した錫イオン生成速度を選択する工程、該選択した平均化した錫イオン生成速度になるように前記金属錫溶解槽への酸素吹き込み量を調整する工程を含むことを特徴とする電気錫メッキ方法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005009569A JP4884676B2 (ja) | 2004-08-05 | 2005-01-17 | 電気錫メッキ方法 |
CN2005800261212A CN1993502B (zh) | 2004-08-05 | 2005-08-02 | 电镀锡方法 |
PCT/JP2005/014113 WO2006013855A2 (ja) | 2004-08-05 | 2005-08-02 | 電気錫メッキ方法 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004228957 | 2004-08-05 | ||
JP2004228957 | 2004-08-05 | ||
JP2005009569A JP4884676B2 (ja) | 2004-08-05 | 2005-01-17 | 電気錫メッキ方法 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010276074A Division JP5592770B2 (ja) | 2004-08-05 | 2010-12-10 | 電気錫メッキ方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006070358A JP2006070358A (ja) | 2006-03-16 |
JP4884676B2 true JP4884676B2 (ja) | 2012-02-29 |
Family
ID=35787521
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005009569A Active JP4884676B2 (ja) | 2004-08-05 | 2005-01-17 | 電気錫メッキ方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4884676B2 (ja) |
WO (1) | WO2006013855A2 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1993502B (zh) * | 2004-08-05 | 2011-04-20 | 新日本制铁株式会社 | 电镀锡方法 |
JP2009249642A (ja) * | 2008-04-01 | 2009-10-29 | Nippon Steel Engineering Co Ltd | 電気錫メッキ方法 |
JP5711595B2 (ja) * | 2011-04-18 | 2015-05-07 | 新日鉄住金エンジニアリング株式会社 | 錫充填方法 |
CN109097815B (zh) * | 2018-08-06 | 2019-10-25 | 奈电软性科技电子(珠海)有限公司 | 一种电路板电镀的自动控制方法 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2762839B2 (ja) * | 1992-04-23 | 1998-06-04 | 日本鋼管株式会社 | 錫めっき方法 |
JPH10219499A (ja) * | 1997-02-13 | 1998-08-18 | Nippon Steel Corp | 錫溶解方法 |
-
2005
- 2005-01-17 JP JP2005009569A patent/JP4884676B2/ja active Active
- 2005-08-02 WO PCT/JP2005/014113 patent/WO2006013855A2/ja active Application Filing
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2006013855A2 (ja) | 2006-02-09 |
JP2006070358A (ja) | 2006-03-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5592770B2 (ja) | 電気錫メッキ方法 | |
JP4884676B2 (ja) | 電気錫メッキ方法 | |
JPS5830393B2 (ja) | キンゾクデンカイセキシユツノホウホウトソウチ | |
JP2006316328A (ja) | 2層フレキシブル銅張積層板の製造方法 | |
US4906340A (en) | Process for electroplating metals | |
US7288180B2 (en) | Electric current control method and apparatus for use in gas generators | |
WO2019026578A1 (ja) | 電解銅めっき用陽極、及びそれを用いた電解銅めっき装置 | |
JP4262178B2 (ja) | 電気錫メッキ方法 | |
KR100558129B1 (ko) | 전해질내의 물질의 농도를 조절하는 방법 및 장치 | |
JP4718879B2 (ja) | 電気錫メッキ方法 | |
USRE34191E (en) | Process for electroplating metals | |
JP2006206961A (ja) | フィルム状物への連続銅めっき装置および方法 | |
JPS6141799A (ja) | 電気錫メツキ浴への錫イオン補給法 | |
JP4242248B2 (ja) | 不溶性陽極を使用する錫めっき方法 | |
JP3262635B2 (ja) | めっき液への亜鉛イオンの供給方法 | |
JP2009249642A (ja) | 電気錫メッキ方法 | |
JPH02122084A (ja) | 過酸化水素水−硫酸系エッチング液における銅濃度制御法 | |
Lee et al. | Evaluating and monitoring nucleation and growth in copper foil | |
JPS5941488A (ja) | 鉄系電気メツキ浴濃度の自動制御方法 | |
KR800000028B1 (ko) | 전기주석 도금방법 | |
JP2005226139A (ja) | 表面平滑化銅箔及びその製造方法 | |
JPH0931699A (ja) | 不溶性陽極を用いた電気錫めっき方法 | |
JP2007204779A (ja) | 電解液の濃度均質化方法及び電解槽 | |
JP4718985B2 (ja) | 電気錫メッキ方法 | |
JPH0776438B2 (ja) | Fe系合金電気メッキ装置のpH制御装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20061106 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20061211 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20071009 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20101012 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20101210 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20111101 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20111110 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20111206 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20111207 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141216 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 4884676 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141216 Year of fee payment: 3 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141216 Year of fee payment: 3 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141216 Year of fee payment: 3 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313115 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |