JP4884072B2 - 複素環誘導体ならびにその殺虫剤としての使用方法 - Google Patents
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Description
[1]一般式(2)
Zは−C(=G 1 )Q 1 、−C(=G 1 )G 2 R 3 、または−SO 2 Q 1 (式中、G 1 、G 2 は酸素原子を示し、
Q 1 、R 3 は、C1−C6アルキル基、C1−C6ハロアルキル基、フェニル基、あるいは同一または異なっていても良く、1以上のハロゲン原子により置換されている置換フェニル基、ピリジル基、あるいは同一または異なっていてもよく、1以上のハロゲン原子により置換されている置換ピリジル基を示す。)を示す。
G 3 は酸素原子を示す。
R 1 、R 2 はそれぞれ独立して、水素原子、またはC1−C4アルキル基を示す。
Xは同一または異なっていても良く、水素原子、またはC1−C3アルキル基を示し、
nは0から3の整数を示す。
Q 2 は下記一般式(3)
で表される化合物。
「Ca−Cb(a、bは1以上の整数を表す)」との表記は、例えば、「C1−C3」とは炭素原子数が1〜3個であることを意味し、「C2−C6」とは炭素原子数が2〜6個であることを意味し、「C1−C4」とは炭素原子数が1〜4個であることを意味する。
「n−」とはノルマルを意味し、「i−」はイソを意味し、「s−」はセカンダリーを意味し、「t−」はターシャリーを意味する。
「C2−C6アルキニル基」とは例えば、プロパルギル、1−ブチン−3−イル、1−ブチン−3−メチル−3−イルなどの炭素鎖の中に三重結合を有する炭素原子数2〜6個のアルキニル基を示す。
Hetとして好ましくは、フリル基、チエニル基、チアゾリル基、ピロリル基である。
Xとして好ましくは、水素原子、ハロゲン原子、C1−C3アルキル基であり、さらに好ましくは、水素原子、フッ素原子、メチル基である。
nとして好ましくは、0、1、2であり、さらに好ましくは、0もしくは1である。
ピリジル基、あるいは、ハロゲン原子、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基、C2−C4アルケニル基、C2−C4ハロアルケニル基、C2−C4アルキニル基、C2−C4ハロアルキニル基、C3−C8シクロアルキル基、C3−C8ハロシクロアルキル基、C1−C3アルコキシ基、C1−C3ハロアルコキシ基、C1−C3アルキルチオ基、C1−C3ハロアルキルチオ基、C1−C3アルキルスルフィニル基、C1−C3ハロアルキルスルフィニル基、C1−C3アルキルスルホニル基、C1−C3ハロアルキルスルホニル基、C1−C4アルキルアミノ基、ジC1−C4アルキルアミノ基、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、C1−C4アルキルカルボニル基、C1−C4アルキルカルボニルオキシ基、C1−C4アルコキシカルボニル基、アセチルアミノ基から選択される1以上の同一または異なっていても良い置換基を有するピリジル基であり、
さらに好ましくは、
フェニル基、
フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メチル基、トリフルオロメチル基、メトキシ基、トリフルオロメトキシ基、メチルチオ基、メチルスルフィニル基、メチルスルホニル基、トリフルオロメチルチオ基、トリフルオロメチルスルフィニル基、トリフルオロメチルスルホニル基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、シアノ基、ニトロ基から選択される1から3個の同一または異なっていても良い置換基を有する置換フェニル基、
ピリジル基、
フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メチル基、トリフルオロメチル基、メトキシ基、トリフルオロメトキシ基、メチルチオ基、メチルスルフィニル基、メチルスルホニル基、トリフルオロメチルチオ基、トリフルオロメチルスルフィニル基、トリフルオロメチルスルホニル基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、シアノ基、ニトロ基から選択される1から2個の同一または異なっていても良い置換基を有するピリジル基である。
その中で、
Y1、Y5として好ましくは、それぞれ、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基、2−ブチル基、メトキシ基、トリフルオロメトキシ基、トリフルオロメチル基、メチルチオ基、メチルスルフィニル基、メチルスルホニル基、トリフルオロメチルチオ基、トリフルオロメチルスルフィニル基、トリフルオロメチルスルホニル基、シアノ基であり、
Y6、Y9として、それぞれ、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基、2−ブチル基、メトキシ基、トリフルオロメトキシ基、トリフルオロメチル基、メチルチオ基、メチルスルフィニル基、メチルスルホニル基、トリフルオロメチルチオ基、トリフルオロメチルスルフィニル基、トリフルオロメチルスルホニル基、シアノ基であり、
Y2、Y4、Y7として好ましくは、水素原子、ハロゲン原子、メチル基であり、さらに好ましくは、水素原子であり、
Y3, Y8として好ましくは、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロ−n−プロピル基、ヘプタフルオロ−i−プロピル基、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−クロロ−2−プロピル基、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−ブロモ−2−プロピル基、1,1,2,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−クロロ−n−プロピル基、1,1,2,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−ブロモ−n−プロピル基、1,1,2,3,3,3−ヘキサフルオロ−1−ブロモ−2−プロピル基、ノナフルオロ−n−ブチル基、ノナフルオロ−2−ブチル基、ノナフルオロ−i−ブチル基、
トリフルオロメトキシ基、ペンタフルオロエトキシ基、1,1,2,2−テトラフルオロエトキシ基、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−i−プロピルオキシ基、ヘプタフルオロ−n−プロピルオキシ基、ヘプタフルオロ−i−プロピルオキシ基、1,1,2,3,3,3−ヘキサフルオロ−n−プロピルオキシ基、ノナフルオロ−2−ブチルオキシ基、トリフルオロメチルチオ基、ペンタフルオロエチルチオ基、1,1,2,2−テトラフルオロエチルチオ基、ヘプタフルオロ−n−プロピルチオ基、ヘプタフルオロ−i−プロピルチオ基、1,1,2,3,3,3−ヘキサフルオロ−n−プロピルチオ基、ノナフルオロ−n−ブチルチオ基、ノナフルオロ−2−ブチルチオ基、トリフルオロメチルスルフィニル基、ペンタフルオロエチルスルフィニル基、1,1,2,2−テトラフルオロエチルスルフィニル基、ヘプタフルオロ−n−プロピルスルフィニル基、ヘプタフルオロ−i−プロピルスルフィニル基、1,1,2,3,3,3−ヘキサフルオロ−n−プロピルスルフィニル基、ノナフルオロ−n−ブチルスルフィニル基、ノナフルオロ−2−ブチルスルフィニル基、トリフルオロメチルスルホニル基、ペンタフルオロエチルスルホニル基、1,1,2,2−テトラフルオロエチルスルホニル基、ヘプタフルオロ−n−プロピルスルホニル基、ヘプタフルオロ−i−プロピルスルホニル基、1,1,2,3,3,3−ヘキサフルオロ−n−プロピルスルホニル基、ノナフルオロ−n−ブチルスルホニル基、ノナフルオロ−2−ブチルスルホニル基であり、さらに好ましくは、ヘプタフルオロ−i−プロピル基、ノナフルオロ−2−ブチル基、1,1,2,3,3,3−ヘキサフルオロ−n−プロピルオキシ基、1,1,2,3,3,3−ヘキサフルオロ−n−プロピルチオ基、1,1,2,3,3,3−ヘキサフルオロ−n−プロピルスルフィニル基、1,1,2,3,3,3−ヘキサフルオロ−n−プロピルスルホニル基である。
E2はC1−C4アルキル基を示し、R6はC3−C8シクロアルキル基、シアノ基、同一または異なっていても良く、ハロゲン原子、C1−C6ハロアルキル基、C1−C6ハロアルコキシ基、C1−C6ハロアルキルチオ基、C1−C6ハロアルキルスルフィニル基、C1−C6ハロアルキルスルホニル基、シアノ基、ニトロ基から選択される1以上の置換基を有する置換フェニル基、ピリジル基、ハロゲン原子、C1−C6ハロアルキル基、C1−C6ハロアルコキシ基から選択される1以上の置換基を有する置換ピリジル基、チエニル基、テトラヒドロフリル基であることを示す。)である。
一般式(1)で表される化合物は以下に記載する製造方法1〜10の方法で製造することができる。以下に本発明の化合物の代表的な製造方法を示し、それに従うことにより本発明の化合物の製造が可能であるが、製造方法経路は以下に示す製造方法に限定されるものではない。
製造方法1
一般式(5)で表されるニトロ基、脱離基を有する5員環の複素環誘導体と一般式(6)で表される芳香族アミン誘導体を溶媒中もしくは無溶媒で反応させることにより、一般式(7)で表されるニトロ基を有する5員環の複素環カルボン酸アミド誘導体を製造することができる。本工程では塩基を用いることもできる。
一般式(7)で表されるニトロ基を有する5員環の複素環カルボン酸アミド誘導体は、還元反応により、一般式(8)で表されるアミノ基を有する5員環の複素環カルボン酸アミド誘導体に導くことができる。還元反応としては水素添加反応を用いる方法と金属化合物(例えば、塩化第一スズ(無水物)、鉄粉、亜鉛粉など)を用いる方法を例示することできる。
一般式(8)で表される5員環の複素環カルボン酸アミド誘導体と一般式(9)で表される化合物を溶媒中で反応させることにより、一般式(10)で表される本発明化合物を製造することができる。本工程では塩基を用いることもできる。
一般式(10)で表される化合物と、一般式(11)で表される脱離基を有する化合物を溶媒中もしくは無溶媒で反応させることにより、一般式(1)で表される本発明化合物を製造することができる。一般式(11)で表される化合物としては、ヨウ化メチル、ヨウ化エチル、臭化n−プロピル、クロロメチル メチルエーテルなどの置換アルキルハライド類、塩化アセチル、塩化クロロアセチル、塩化ベンゾイルなどのカルボン酸ハライド類、プロパルギルブロミドなどの不飽和アルキルハライド類、クロロギ酸メチル、クロロギ酸2−クロロエチル、クロロギ酸フェニル、クロロギ酸ベンジルなどのクロロギ酸エステル類、塩化N,N−ジメチルカルバモイルなどのカルバミン酸ハライド類、メタンスルホニルクロリド、トリフルオロメタンスルホニルクロリド、トシル酸クロリドなどのスルホン酸ハライド類、クロログリオキシル酸メチル、クロログリオキシル酸エチルなどのクロログリオキシル酸エステル類、クロロトリメチルシランまたはtert−ブチルクロロジメチルシランなどを例示することができる。また、本工程では適当な塩基もしくは溶媒を用いることが可能であり、その塩基もしくは溶媒としては、1−(i)に例示したものを用いることができる。反応温度、反応時間などについても、1−(i)の例示に従うことができる。
製造方法2
一般式(12)で表されるアミノ基を有するカルボン酸類を出発原料として、1−(iii)に記載の条件に従い、一般式(9)で表される化合物と反応させることにより、一般式(14)で表されるカルボン酸類を製造することができる。
一般式(13)で表される化合物を塩化チオニル、オキザリルクロリド、ホスゲン、オキシ塩化リン、五塩化リン、三塩化リン、臭化チオニル、三臭化リン、ジエチルアミノ硫黄トリフルオリドなどと反応させるという公知の常法により、一般式(14)で表される化合物を製造することができる。
一般式(15)で表される化合物と一般式(6)で表される化合物とを、1−(i)に記載の条件に従い反応させることにより、一般式(16)で表される化合物を製造することができる。
一般式(14)で表される化合物を、1−(i)に記載の縮合剤を用いる条件、もしくは混合酸無水物法を用いる条件に従い、一般式(6)で表される化合物と反応させることにより、一般式(1)で表される化合物を製造することができる。
製造方法3
Synthesis p.463(1993)やSynthesis p.829(1984)などに記載の公知の条件に従い、一般式(15)で表される化合物とローソン試薬とを反応させることにより、一般式(16)で表される化合物を製造することができる。溶媒、反応温度などの条件は、文献記載のものに限定されることはない。
一般式(16)で表される化合物と一般式(9)で表される化合物とを、1−(iii)に記載の条件に従い反応させることにより、一般式(17)で表される化合物を製造することができる。
製造方法4
一般式(18)で表される化合物から、3−(i)に記載の条件に従って、一般式(19)及び一般式(20)で表される化合物を製造することができる。溶媒、反応温度などの条件は、文献記載のものに限定されることはない。これら2つの化合物は、シリカゲルカラムクロマトグラフィーなどの公知の分離精製技術により、分離精製することが可能である。
製造方法5
一般式(22)で表される化合物は、一般式(21)で表される化合物をジアゾ化し、ジアゾニウム塩と金属塩を反応させることで合成することができる。
また、ジアゾ化剤と金属塩と溶媒を同時に入れて反応させることも可能である。
一般式(22)で表される化合物を塩化チオニル、オキザリルクロリド、ホスゲン、オキシ塩化リン、五塩化リン、三塩化リン、臭化チオニル、三臭化リン、ジエチルアミノ硫黄トリフルオリドなどと反応させるという公知の常法により、一般式(23)で表される化合物を製造することができる。
一般式(23)で表される化合物と一般式(6)で表される化合物とを、1−(i)に記載の条件に従い反応させることにより、一般式(24)で表される化合物を製造することができる。
例えば、J.Org.Chem.p.280(1958)に記載の条件に従うことにより、アンモニアを使用してアミノ化反応を行い、一般式(25)で表される化合物を製造することが可能であるが、反応溶媒などの条件は文献記載のものに限定されることは無く、適宜反応の進行を著しく阻害しない不活性溶媒を使用すればよく、反応温度、反応時間についても、反応の進行に応じて、適宜選択すれば良い。また、アミノ化剤としては、アンモニアのほかに、メチルアミン、エチルアミン、ヒドロキシルアミン、O−メチルヒドロキシルアミンなどを示すこともできる。
一般式(25)で表される化合物と一般式(9)で表される化合物とを、1−(iii)に記載の条件に従い反応させることにより、一般式(1)で表される化合物を製造することができる。
製造方法6
一般式(26)で表される化合物を溶媒中、塩基を用いて、反応剤と反応させて、一般式(27)で表される化合物を製造することができる。
製造方法7
一般式(8)で表される化合物を溶媒中、アルデヒド類またはケトン類と反応させ、触媒を添加し、水素雰囲気下で反応させることにより、一般式(28)で表される化合物を製造することができる。
反応圧力は1気圧から100気圧の範囲でそれぞれ適宜選択すればよい。
一般式(22)で表される化合物を溶媒中で、アルデヒド類またはケトン類と反応させて、還元剤を処理することにより、一般式(50)で表される化合物を製造することができる。
一般式(22)で表される化合物を溶媒中、または無溶媒でホルミル化剤と反応させ、添加剤を処理することにより、一般式(28)において、R1がメチル基である化合物を製造することができる。
製造方法8
Tetrahedron Lett. p.3789(1999)などに記載の公知の条件に従い、一般式(8)で表される化合物と一般式(29)で表される化合物とを反応させることにより、一般式(30)で表される化合物を製造することができる。溶媒、反応温度などの条件は、文献記載のものに限定されることはない。
一般式(30)で表される化合物と一般式(11)で表される化合物とを、1−(iv)に記載の条件に従い反応させることにより、一般式(31)で表される化合物を製造することができる。
製造方法9
9−(i): 一般式(32) → 一般式(33)
一般式(33)で表される化合物を、2−(ii)に記載の条件に従い反応させることにより、一般式(33)で表される化合物を製造することができる。
一般式(33)で表される化合物と一般式(6)で表される化合物とを、1−(i)に記載の条件に従い反応させることにより、一般式(34)で表される化合物を製造することができる。
一般式(34)で表される化合物を、1−(i)に記載の縮合剤を用いる条件、もしくは混合酸無水物法を用いる条件に従い、一般式(6)で表される化合物と反応させることにより、一般式(34)で表される化合物を製造することができる。
製造方法10
一般式(35)で表される化合物を、1−(iv)に記載の条件に従い反応させることにより、一般式(1)で表される化合物を製造することができる。
また、Heterocycles p.159(1988)などに記載の公知の条件に従い、一般式(35)で表される化合物とN−クロロこはく酸イミドあるいはN−ブロモこはく酸イミドを反応させることにより、一般式(1)中R1あるいはR2が塩素原子あるいは臭素原子である化合物を製造することができる。
5−ベンズアミド−N−{(2,6−ジメチル−4−ヘプタフルオロイソプロピル)フェニル}フラン−2−カルボン酸アミド(化合物番号4−1)の製造
N−{(2,6−ジメチル−4−ヘプタフルオロイソプロピル)フェニル}−2−ニトロフラン−5−カルボン酸アミドの製造
5−ニトロフラン−2−カルボン酸2.5g、DMF0.1gをトルエン15mlに装入し、塩化チオニル2.32gを添加し、80℃で1時間加熱した後、還流下2時間反応した。減圧下溶媒を留去し、粗酸クロリドを得た。
1H NMR(CDCl3) δ2.36 (6H, s), 7.37 (2H, s), 7.41 (1H, d, J =3.7Hz), 7.45 (1H, d, J =3.7Hz), 7.87 (1H, brs).
2−アミノ−N−{(2,6−ジメチル−4−ヘプタフルオロイソプロピル)フェニル}フラン−5−カルボン酸アミドの製造
N−{(2,6−ジメチル−4−ヘプタフルオロイソプロピル)フェニル}−2−ニトロフラン−5−カルボン酸アミド1.11g、10%パラジウムカーボン0.1gをジオキサン20mlに装入し、室温、常圧で水素添加反応を3時間行った。窒素置換した後、パラジウムカーボンを濾過した。これ以上の精製をせず、濾液を次の反応に用いた。
5−ベンズアミド−N−{(2,6−ジメチル−4−ヘプタフルオロイソプロピル)フェニル}フラン−2−カルボン酸アミド(化合物番号4−1)の製造
実施例1−2で得られたジオキサン溶液の半量に、THF5mlとピリジン90mgを加えた。次いで、THF1mlに混合した塩化ベンゾイル0.15gを滴下装入し、室温で5時間撹拌した。反応溶液に酢酸エチル20mlを加え、5%塩酸水溶液、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で順次洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下で留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=3:2)で精製することにより、目的物0.15g(収率17%、対ニトロ体)を褐色固体として得た。
1H-NMR(DMSO-d6) δ 2.29(6H, s), 6.63(1H, d, J = 3.4Hz), 7.44(2H, s), 7.48-7.56(3H, m), 7.60-7.64(1H, m), 8.02-8.05(2H, m), 9.75(1H, s), 11.78(1H, s).
5−[N−[(2,6−ジメチル−4−ヘプタフルオロイソプロピル)フェニル]カルバモイル]フラン−2−イル−カルバミン酸 2,2,2−トリクロロエチルエステル(化合物番号4−66)の製造
実施例1−2で得られたジオキサン溶液の半量に、ピリジン0.21g、クロロギ酸2,2,2−トリクロロエチル 0.22gを加え、1時間攪拌した。酢酸エチル20mlを装入後、水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=10:1→6:4)にて精製し、目的物0.11gをアモルファスとして得た(収率18%、対ニトロ体)。
1H NMR(CDCl3) δ2.26 (6H, s), 4.98 (2H, s), 6.29 (1H, d, J =3.6Hz), 7.35-7.43 (3H, m), 9.70 (1H, s), 11.4 (1H, brs).
5−[N−[(2,6−ジメチル−4−ヘプタフルオロイソプロピル)フェニル]カルバモイル]チオフェン−2−イル−カルバミン酸 2,2,2−トリクロロエチルエステル(化合物番号1−66)の製造
5−ニトロチオフェン−2−カルボン酸エチルエステルと4−ニトロチオフェン−2−カルボン酸エチルエステルからなる混合物の製造
濃硝酸12mlを5℃に冷却し、濃硫酸12mlを滴下した。内温を10℃以下に保ちながら、チオフェン−2−カルボン酸エチル5.07gを30分かけて滴下した後、室温で2時間攪拌した。氷水に排出した後、析出した固体を濾過した。得られた固体を酢酸エチルに溶解させ、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去し、得られた固体をヘキサンで洗浄することで、目的物である5−ニトロチオフェン−2−カルボン酸エチルエステルと4−ニトロチオフェン−2−カルボン酸エチルエステルからなる混合物4.03gを得た。5−ニトロチオフェン−2−カルボン酸エチルエステルと4−ニトロチオフェン−2−カルボン酸エチルエステルの混合比は1:1であった。
5−ニトロチオフェン−2−カルボン酸と4−ニトロチオフェン−2−カルボン酸からなる混合物の製造
5−ニトロチオフェン−2−カルボン酸エチルエステルと4−ニトロチオフェン−2−カルボン酸エチルエステルの比が1:1からなる混合物4.03g、水酸化ナトリウム1.6gを水15ml、メタノール15mlの混合液に加え、室温で2時間攪拌した。水排出後、濃塩酸でpH1に調整し、酢酸エチルで抽出した。飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=1:1)にて精製することで、5−ニトロチオフェン−2−カルボン酸と4−ニトロチオフェン−2−カルボン酸からなる混合物 0.26gを得た。5−ニトロチオフェン−2−カルボン酸と4−ニトロチオフェン−2−カルボン酸の混合比は1:3であった。
N−[(2,6−ジメチル−4−ヘプタフルオロイソプロピル)フェニル]−4−ニトロチオフェン−2−カルボン酸アミドとN−[(2,6−ジメチル−4−ヘプタフルオロイソプロピル)フェニル]−5−ニトロチオフェン−2−カルボン酸アミドの製造
5−ニトロチオフェン−2−カルボン酸と4−ニトロチオフェン−2−カルボン酸からなる混合物(混合比1:3) 0.25gをトルエン5mlに装入し、DMF 1滴、塩化チオニル0.5mlを加え、還流下、1時間攪拌した。室温まで冷却後、減圧下溶媒を留去し粗酸クロリド体を得た。2,6−ジメチル−4−ヘプタフルオロイソプロピルアニリン0.41g、ピリジン0.23gをTHF 5mlに装入し、先に得られた酸クロを加え、1時間攪拌した。酢酸エチルを加え、水、5%塩酸水溶液、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で順次洗浄した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=10:1→6:4)にて精製し、N−[(2,6−ジメチル−4−ヘプタフルオロイソプロピル)フェニル]−5−ニトロチオフェン−2−カルボン酸アミドを90mg、N−[(2,6−ジメチル−4−ヘプタフルオロイソプロピル)フェニル]−4−ニトロチオフェン−2−カルボン酸アミドを0.19g、それぞれ固体として得た。
・N−[(2,6−ジメチル−4−ヘプタフルオロイソプロピル)フェニル]−5−ニトロチオフェン−2−カルボン酸アミド:1H NMR(CDCl3) δ2.35 (6H, s), 7.37 (2H, s), 7.42 (1H, brs), 7.57 (1H, d, J =4.4Hz), 7.93 (1H, d, J =4.4Hz).
・N−[(2,6−ジメチル−4−ヘプタフルオロイソプロピル)フェニル]−4−ニトロチオフェン−2−カルボン酸アミド:1H NMR(CDCl3) δ2.34 (6H, s), 7.37 (2H, s), 7.52 (1H, brs), 8.15 (1H, d, J =1.2Hz), 8.51 (1H, d, J =1.2Hz).
5−アミノ−N−[(2,6−ジメチル−4−ヘプタフルオロイソプロピル)フェニル]チオフェン−2−カルボン酸アミドの製造
N−[(2,6−ジメチル−4−ヘプタフルオロイソプロピル)フェニル]−5−ニトロチオフェン−2−カルボン酸アミド0.09g、塩化スズ(II)0.19gをメタノール3mlに装入し、濃塩酸3mlを加え60℃で2時間攪拌した。室温まで冷却後、炭酸カリウム水溶液で中和し、析出した固形物を濾過した。酢酸エチルで抽出後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し得られた残渣をそのまま次の反応に用いた。
5−[N−[(2,6−ジメチル−4−ヘプタフルオロイソプロピル)フェニル]カルバモイル]チオフェン−2−イル−カルバミン酸 2,2,2−トリクロロエチルエステル(化合物番号1−66)の製造
実施例3−4で得られた残渣に、ピリジン47mg、THF3mlを装入した後、クロロギ酸2,2,2−トリクロロエチル 46mgを加え、1時間室温で攪拌した。水に排出した後、酢酸エチルで抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=8:2→6:4)にて精製し、目的物40mg を固体として得た(収率34%、対ニトロ体).
1H NMR(CDCl3) δ2.34 (6H, s), 4.86 (2H, s), 6.69 (1H, brs), 7.12 (1H, brs), 7.34 (2H, s), 7.52 (1H, brs), 7.78 (1H, brs).
2−[N−[(2,6−ジメチル−4−ヘプタフルオロイソプロピル)フェニル]カルバモイル]チオフェン−3−イル−カルバミン酸 2,2,2−トリクロロエチルエステル(化合物番号3−66)の製造
実施例3−3で合成したN−[(2,6−ジメチル−4−ヘプタフルオロイソプロピル)フェニル]−4−ニトロチオフェン−2−カルボン酸アミド0.19g、塩化スズ(II)0.33gをエタノール4mlに装入し、濃塩酸4mlを加え60℃で2時間攪拌した。室温まで冷却後、炭酸カリウム水溶液で中和し、析出した固形物を濾過した。酢酸エチルで抽出後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=7:3→3:7)にて精製し、目的物0.14gを固体として得た(収率80%)。
2−[N−[(2,6−ジメチル−4−ヘプタフルオロイソプロピル)フェニル]カルバモイル]チオフェン−4−イル−カルバミン酸 2,2,2−トリクロロエチルエステル(化合物番号3−66)の製造
4−アミノ−N−[(2,6−ジメチル−4−ヘプタフルオロイソプロピル)フェニル]チオフェン−2−カルボン酸アミド0.14g、ピリジン54mgをTHF3mlに装入し、クロロギ酸2,2,2−トリクロロエチル 80mgを加え、1時間室温で攪拌した。水に排出した後、酢酸エチルで抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=8:2→7:3)にて精製し、目的物 0.1g をアモルファスとして得た(収率50%).
1H NMR(CDCl3) δ2.35 (6H, s), 4.85 (2H, s), 7.22 (1H, brs), 7.28 (1H, brs), 7.35 (2H, s), 7.41 (1H, s), 7.46 (1H, s).
2−ベンズアミド−N−[(2,6−ジメチル−4−ヘプタフルオロイソプロピル)フェニル]チオフェン−4−カルボン酸アミド(化合物番号2−1)の製造
N−[(2,6−ジメチル−4−ヘプタフルオロイソプロピル)フェニル]−2−ニトロチオフェン−4−カルボン酸アミドの製造
2−ニトロチオフェン−4−カルボン酸 1.0gをトルエン10mlに装入し、DMF 0.1g、塩化チオニル0.89gを加え、還流下、1時間攪拌した。室温まで冷却後、減圧下、溶媒と余分な塩化チオニルを減圧下留去し粗酸クロリドを得た。2,6−ジメチル−4−ヘプタフルオロイソプロピルアニリン1.48g、ピリジン0.62gをTHF10mlに装入し、先に得られた酸クロを添加し、1時間攪拌した。酢酸エチルを加え、水、5%塩酸水溶液、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で順次洗浄した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=10:1→7:3)にて精製し、目的物1.7gを白色固体として得た(収率73%、対アニリン)。
2−アミノ−N−[(2,6−ジメチル−4−ヘプタフルオロイソプロピル)フェニル]チオフェン−2−カルボン酸アミドの製造
N−[(2,6−ジメチル−4−ヘプタフルオロイソプロピル)フェニル]−2−ニトロチオフェン−4−カルボン酸アミド0.54g、塩化スズ(II)0.94gをメタノール6mlに装入し、濃塩酸6mlを添加し、60℃で2時間攪拌した。室温まで冷却後、水を加え炭酸カリウムで反応液を中和した。酢酸エチルを装入後、セライト濾過し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。無水硫酸ナトリウムを濾過し、濾液をそのまま次の反応に用いた。
2−ベンズアミド−N−[(2,6−ジメチル−4−ヘプタフルオロイソプロピル)フェニル]チオフェン−4−カルボン酸アミド(化合物番号2−1)の製造
実施例5―2で得られた溶液の半量に、ピリジン0.10g、ベンゾイルクロリド 87mgを加え、1時間攪拌した。酢酸エチルを装入後、水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=10:1→7:3)にて精製し、目的物0.11gをアモルファスとして得た(収率35%、対ニトロ体)。
1H-NMR(DMSO-d6) δ 2.36(6H, s), 7.33(2H, s), 7.45-7.60(3H, m), 7.75(1H, s), 7.79(1H, d, J = 1.5Hz), 8.05(2H, d, J = 7.3Hz), 9.52(1H, s), 11.5(1H, broad-s).
4−[N−[(2,6−ジメチル−4−ヘプタフルオロイソプロピル)フェニル]カルバモイル]チオフェン−2−イル−カルバミン酸 2,2,2−トリクロロエチルエステル(化合物番号2−66)の製造
実施例5―2で得られた溶液の半量に、ピリジン0.10g、クロロギ酸2,2,2−トリクロロエチル 0.13gを加え、1時間攪拌した。酢酸エチルを装入後、水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=10:1→7:3)にて精製し、目的物0.12gをアモルファスとして得た(収率33%、対ニトロ体)。
1H NMR(CDCl3) δ2.37 (6H, s), 4.87 (2H, s), 7.11 (1H, brs), 7.17 (1H, brs), 7.35 (2H, s), 7.49 (1H, brs), 7.56 (1H, brs).
N−[(2,6−ジメチル−4−ヘプタフルオロイソプロピル)フェニル]−2−(N−メチルベンズアミド)チアゾール−5−カルボン酸アミド(化合物番号10−13)の製造
2−アミノチアゾール−5−カルボン酸の製造
2−アミノチアゾール−5−カルボン酸エチルエステル5.0g(29.1mmol)を水40mlに懸濁させ、NaOH 2.32gを装入し、室温で3時間攪拌した。50℃で2時間加熱した後、室温まで冷却し、濃塩酸を加え、pHを約1に調整した。析出した固体を濾取することで目的物3.76gを固体として得た(収率:90%)。
2−クロロチアゾール−5−カルボン酸の製造
2−アミノチアゾール−5−カルボン酸3.5g、塩化銅(II)4.90gをアセトニトリル50mlに装入し、亜硝酸イソアミル3.70gを添加した後、70℃で2時間攪拌した。室温まで冷却した後、固体分を濾過し、濾液を減圧下溶媒を留去した。得られた残渣を酢酸エチルに溶解させ、5%塩酸水溶液、飽和食塩水で順次洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去し、得られた残渣をヘキサンでスラッジングすることで目的物 3.3gを固体として得た(収率:83%)。
2−クロロ−N−[2,6−ジメチル−4−ヘプタフルオロイソプロピル]フェニル] チアゾール−5−カルボン酸アミドの製造
2−クロロチアゾール−5−カルボン酸 1.0g、DMF 1滴をトルエン10mlに装入し、塩化チオニル 0.87gを添加した後、還流下2時間攪拌した。この時、除々に溶解したが、固形物が残存していた。室温まで冷却後、減圧下溶媒を留去し、得られた残渣をTHF5mlに懸濁させA液とした。2,6−ジメチル−4−ヘプタフルオロイソプロピルアニリン1.5g、ピリジン0.45gを溶解させたTHF8mlにA液を添加し、室温で2時間攪拌した。水に排出後、酢酸エチルで抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(N−ヘキサン:酢酸エチル=10:1→7:3)にて精製し、目的物1.3gを固体として得た(収率:49%)。
1H-NMR(CDCl3) δ 2.31(6H, s), 7.35(2H, s), 8.08(1H, s).
2−メチルアミノ−N−[(2,6−ジメチル−4−ヘプタフルオロイソプロピル)フェニル]チアゾール−5−カルボン酸アミドの製造
2−クロロ−N−[2,6−ジメチル−4−ヘプタフルオロイソプロピル]フェニル] チアゾール−5−カルボン酸アミド1.0gをアセトニトリル 10mlに装入し、40%メチルアミンメタノール溶液1.0g(13.1mmol)を添加し、60℃で3時間攪拌した。減圧下溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=7:3→1:1)にて精製し、目的物0.63gを固体として得た(収率63%)。
1H-NMR(CDCl3) δ 2.32(6H, s), 3.01(3H, s), 5.94(1H, broad-s), 7.00(1H, broad-s), 7.33(2H, s), 7.72(1H, broad-s).
N−[(2,6−ジメチル−4−ヘプタフルオロイソプロピル)フェニル]−2−(N−メチルベンズアミド)チアゾール−5−カルボン酸アミド(化合物番号10−13)の製造
2−メチルアミノ−N−[(2,6−ジメチル−4−ヘプタフルオロイソプロピル)フェニル]チアゾール−5−カルボン酸アミド0.20g、ピリジン73mgをTHF 3mlに装入し、ベンゾイルクロリド 72mgを添加し、室温で30分攪拌した。50℃で2時間攪拌した後、ベンゾイルクロリド0.15gを追加し、50℃で4時間攪拌した。室温まで冷却後、酢酸エチルを添加し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=3:1→1:1)にて精製することで、目的物 0.23gを固体として得た(収率:92%)。
1H-NMR(CDCl3) δ 2.35(6H, s), 3.72(3H, s), 7.20(1H, broad-s), 7.35(2H, s), 7.50-7.58(5H, m), 8.21(1H, broad-s).
N−[(2,6−ジメチル−4−ヘプタフルオロイソプロピル)フェニル]−2−(N−メチルベンズアミド)チアゾール−4−カルボン酸アミド(化合物番号11−13)の製造
2−アミノチアゾール−4−カルボン酸の製造
2−アミノ−チアゾール−4−カルボン酸エチルエステル 5.0gを水50mlに装入し、水酸化ナトリウム2.32gを添加した後、室温で3時間攪拌した。濃塩酸でpH1に調整した後、析出した結晶を濾過し、減圧下乾燥することで目的物4.28gを固体として得た(収率100%)。
2−クロロチアゾール−4−カルボン酸の製造
2−アミノチアゾール−4−カルボン酸3.78gを濃塩酸70mlとジオキサン40mlの混合溶液に懸濁し、0℃まで冷却した。亜硝酸ナトリウム 2.72gを水10mlに溶解させ、内温を5℃以下に保ちながら滴下した。0〜5℃で1時間攪拌した後、塩化銅(I) 3.86gを分割装入し、室温で8時間攪拌後、室温で3日間放置した。水を装入した後、酢酸エチルで3回抽出した後、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、得られた残渣をヘキサンでスラッジングすることで目的物 1.20gを固体として得た(収率:28%)。
1H-NMR(DMSO-d6) δ 8.44(1H, s), 13.3(1H, broad-s).
2−クロロ−N−[(2,6−ジメチル−4−ヘプタフルオロイソプロピル)フェニル] チアゾール−4−カルボン酸アミドの製造
2−クロロチアゾール−4−カルボン酸1.10gをトルエン10mlに装入し、DMF 1滴、塩化チオニル1.20gを添加した後、80℃で1時間、100℃で1時間攪拌した。室温まで冷却後、減圧下溶媒を留去し、得られた残渣をヘキサンでスラッジングし、酸クロ体1.10gを白色固体として得た。2,6−ジメチル−4−ヘプタフルオロイソプロピルアニリン0.60g、ピリジン0.25gを溶解させたTHF5mlに、先に合成した酸クロ体0.42gを添加し、室温下、1時間攪拌した。酢酸エチルを装入後、5%塩酸水溶液、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、得られた残渣をヘキサンでスラッジングすることで、目的物0.61gを固体として得た(収率:68%)。
1H-NMR(CDCl3) δ 2.35(6H, s), 7.35(2H, s), 8.14(1H, s), 8.53(1H, broad-s).
2−メチルアミノ−N−[(2,6−ジメチル−4−ヘプタフルオロイソプロピル)フェニル]チアゾール−4−カルボン酸アミドの製造
2−クロロ−N−[(2,6−ジメチル−4−ヘプタフルオロイソプロピル)フェニル] チアゾール−4−カルボン酸アミド 0.90gに40%メチルアミンメタノール溶液5mlを装入し、室温で3日間放置した。減圧下溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(N−ヘキサン:酢酸エチル=8:2→1:1)にて精製することで、目的物0.62gを固体として得た(収率:69%)。
1H-NMR(CDCl3) δ 2.35(6H, s), 4.12(3H,d,J=5.3)、5.11(1H,d,J=5.3)、7.33(2H,s)、7.45(1H,s)、8.61(1H, broad-s).
N−[(2,6−ジメチル−4−ヘプタフルオロイソプロピル)フェニル]−2−(N−メチルベンズアミド)チアゾール−4−カルボン酸アミド(化合物番号11−13)の製造
2−メチルアミノ−N−[(2,6−ジメチル−4−ヘプタフルオロイソプロピル)フェニル]チアゾール−4−カルボン酸アミド0.28g、ピリジン0.10gをTHF 5mlに装入し、ベンゾイルクロリド 0.098gを装入し、室温で30分攪拌後、50℃で2時間攪拌した。ベンゾイルクロリド0.20gを追加し、50℃で2時間攪拌した。室温まで冷却後、酢酸エチルを添加した後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(N−ヘキサン:酢酸エチル=10:1→3:1)にて精製することで、目的物0.23gを固体として得た(収率:66%)。
1H-NMR(CDCl3) δ 2.38(6H, s), 3.72(3H, s), 7.36(2H, s), 7.50-7.61(5H, m), 8.00(1H, s), 8.69(1H, broad-s).
N−(2,6−ジメチル−4−ヘプタフルオロイソプロピル)フェニル−4−ベンズアミド−1−メチル−1H−ピロール−2−カルボン酸アミド(化合物番号9−1)の製造
1−メチル−4−ニトロ−1H−ピロール−2−カルボン酸エチルの製造
DMF10mlに60%水素化ナトリウム0.78gを加えた溶液に、DMF10mlに溶解した4−ニトロピロール−2−カルボン酸エチル3.0gを滴下装入した。室温で1時間撹拌した後、DMF5mlに溶解したヨウ化メチル2.77gを滴下装入した。さらに室温で3時間撹拌した後、反応溶液に酢酸エチルを装入し、次いで水を装入した。有機相を分取し、水で1回洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下で留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=3:1→2:1)で精製することにより、目的物2.50g(収率77%)を白色固体として得た。
1H-NMR(CDCl3) δ 1.37(3H, t, J = 7.3Hz), 3.99(3H, s), 4.32(2H, q, J = 7.3Hz), 7.42(1H, d, J = 2.0Hz), 7.59(1H, d, J = 2.0Hz).
1−メチル−4−ニトロ−1H−ピロール−2−カルボン酸の製造
1−メチル−4−ニトロピロール−2−カルボン酸エチル2.50gをTHF10ml−水10mlの混合溶媒に加え、5℃で撹拌した。次いで、水酸化ナトリウム0.76g(18.9mmol)を装入し、室温に戻して6時間撹拌した。反応液に酢酸エチルを加えて、水相を分取後、2N塩酸でpH1にした。析出した固体を濾集し、減圧下50℃で乾燥することにより、目的物2.01gを白色固体として得た(収率94%)。
1H-NMR(DMSO-d6) δ 3.92(3H, s), 7.26(1H, d, J = 2.0Hz), 8.23(1H, d, J = 2.0Hz), 13.16(1H, broad).
N−(2,6−ジメチル−4−ヘプタフルオロイソプロピル)フェニル−1−メチル−4−ニトロ−1H−ピロール−2−カルボン酸アミドの製造
1−メチル−4−ニトロ−1H−ピロールカルボン酸1.0g、DMF0.1mlをトルエン10mlに加えた溶液に、塩化チオニル3.0gを装入し、90℃で1.5時間撹拌した。反応溶液を減圧下で濃縮し得られた残渣をTHF5mlに溶解したものを、2,6−ジメチル−4−ヘプタフルオロイソプロピルアニリン1.70gとピリジン0.56gをTHF15mlに加えた溶液に滴下装入した。70℃で5時間撹拌した後、室温に戻してから酢酸エチルと1N塩酸を加えて有機相を分取した。飽和重曹水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下で留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=4:1)で精製することにより、目的物1.76gを白色固体として得た(収率72%)。
1H-NMR(DMSO-d6) δ 2.28(6H, s), 3.93(3H, s), 7.43(2H, s), 7.67(1H, d, J = 2.0Hz), 8.25(1H, d, J = 2.0Hz), 9.89(1H, s).
N−(2,6−ジメチル−4−ヘプタフルオロイソプロピル)フェニル−4−アミノ−1−メチル−1H−ピロール−2−カルボン酸アミドの製造
N−(2,6−ジメチル−4−ヘプタフルオロイソプロピル)フェニル 1−メチル−4−ニトロ−1H−ピロール−2−カルボン酸アミド1.60g(3.62mmol)、10%Pd−C 0.1gをメタノール20mlに加え、室温常圧下で水素添加反応を行った。触媒を濾去した後、溶媒を減圧下で留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=1:4)で精製することにより、目的物0.61gを褐色油状物として得た(収率41%)。
1H-NMR(CDCl3) δ 2.32(6H, s), 2.98(2H, broad), 3.85(3H, s), 6.32(1H, s), 6.37(1H, d, J = 2.0Hz), 7.13(1H, s), 7.32(2H, s).
N−(2,6−ジメチル−4−ヘプタフルオロイソプロピル)フェニル−4−ベンズアミド−1−メチル−1H−ピロール−2−カルボン酸アミド(化合物番号9−1)の製造
N−(2,6−ジメチル−4−ヘプタフルオロイソプロピル)フェニル 4−アミノ−1−メチル−1H−ピロール−2−カルボン酸アミド0.20g、ピリジン0.05gをTHF5mlに加えた溶液に、塩化ベンゾイル68mgを加え、室温で2時間撹拌した。反応溶液に、酢酸エチルと1N塩酸を加えて有機相を分取した。飽和重曹水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下で留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=3:2)で精製することにより、目的物0.13gを淡褐色アモルファスとして得た(収率52%)。
1H-NMR(CDCl3) δ 2.33(6H, s), 3.94(3H, s), 6.92(1H, broad), 7.16(1H, s), 7.28(1H, d, J = 1.5Hz), 7.34(2H, s), 7.46-7.57(3H, m), 7.82-7.86(3H, m).
一般式(1)で表される本発明化合物20部、ソルポール355S(東邦化学工業製、界面活性剤)10部、キシレン70部、以上を均一に攪拌混合して乳剤を得た。
一般式(1)で表される本発明化合物10部、アルキルナフタレンスルホン酸ナトリウム2部、リグニンスルホン酸ナトリウム1部、ホワイトカーボン5部、珪藻土82部、以上を均一に攪拌混合して水和剤を得た。
一般式(1)で表される本発明化合物0.3部、ホワイトカーボン0.3部を均一に混合し、クレー99.2部、ドリレスA(三共製)0.2部を加えて、均一に粉砕混合し、粉剤を得た。
一般式(1)で表される本発明化合物2部、ホワイトカーボン2部、リグニンスルホン酸ナトリウム2部、ベントナイト94部、以上を均一に粉砕混合後、水を加えて混練し、造粒乾燥して粒剤を得た。
一般式(1)で表される本発明化合物20部およびポリビニルアルコールの20%水溶液5部を十分攪拌混合した後、キサンタンガムの0.8%水溶液75部を加えて、再び攪拌混合してフロアブル剤を得た。
さらに、本発明の一般式(1)で表される化合物が優れた殺虫活性を有することを明確にするために、以下に試験例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
ハスモンヨトウ(Spodoptera litura)に対する殺虫試験
試験化合物を所定濃度に希釈した薬液にキャベツ葉片を30秒間浸漬し風乾後、7cmのポリエチレンカップに入れハスモンヨトウ2齢幼虫を放虫した。25℃恒温室にて放置し、6日後に生死虫数を調査した。1区5匹2連制で行った。
その結果、1000ppmにおいて、化合物番号2−1、2−66、4−1、9−1、9−7、9−66、11−14、11−16、11−19、11−33、11−42、11−66が70%以上の死虫率を示した。
コナガ(Plutella xylostella)に対する殺虫試験
試験化合物を所定濃度に希釈した薬液にキャベツ葉片を30秒間浸漬し風乾後、7cmのポリエチレンカップに入れコナガ2齢幼虫を放虫した。25℃恒温室にて放置し、6日後に生死虫数を調査した。1区5匹2連制で行った。
その結果、1000ppmにおいて、2−1、2−66、4−1、9−1、9−7、9−66、11−14、11−16、11−19、11−33、11−42、11−66が70%以上の死虫率を示した。
Claims (4)
- 一般式(2)
(式中、A、E、Dは互いに独立して炭素原子、窒素原子、酸素原子および硫黄原子のいずれかであり、これらと結合する炭素原子と共にピロリル基、チアゾリル基またはフリル基を構成する。
Zは−C(=G1)Q1、−C(=G1)G2R3、または−SO2Q1(式中、G1、G2は酸素原子を示し、
Q1、R3は、C1−C6アルキル基、C1−C6ハロアルキル基、フェニル基、あるいは同一または異なっていても良く、1以上のハロゲン原子により置換されている置換フェニル基、ピリジル基、あるいは同一または異なっていてもよく、1以上のハロゲン原子により置換されている置換ピリジル基を示す。)を示す。
G3は酸素原子を示す。
R1、R2はそれぞれ独立して、水素原子、またはC1−C4アルキル基を示す。
Xは同一または異なっていても良く、水素原子、またはC1−C3アルキル基を示し、
nは0から3の整数を示す。
Q2は下記一般式(3)
(式中、Y1、Y5は同一または異なっていても良く、ハロゲン原子、C1−C4アルキル基、またはC1−C4ハロアルキル基を示し、Y3はヘプタフルオロイソプロピル基を示し、Y2、Y4は水素原子を示す。)を示す。)
で表される化合物。 - 一般式(2)において、Zが−C(=G1)Q1、または−C(=G1)G2R3である請求項1に記載の化合物。
- 一般式(2)において、Aが硫黄原子でありEが窒素原子でありDが炭素原子であるか、Aが窒素原子でありEが硫黄原子でありDが炭素原子であるか、AとEが炭素原子でありDが窒素原子であるか、もしくはAとDが炭素原子でありEが酸素原子である請求項2に記載の化合物。
- 請求項1から請求項3の何れか一項に記載の化合物を有効成分として含有することを特徴とする殺虫剤。
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