JP4883762B2 - ムラ検査装置およびムラ検査方法 - Google Patents
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Description
2,2a ステージ
3,3a 光出射部
5 波長帯切替機構
8 制御部
9 基板
21 移動機構
31 ハロゲンランプ
31a,31b 光源要素
32 石英ロッド
41 ラインセンサ
51 光学フィルタ
51a 選択光学フィルタ
52 フィルタホイール
53 フィルタ回転モータ
61 偏光子
62 偏光子移動機構
72 出力補正部
75 補正情報取得部
76 補正情報記憶部
90 ミラー
91 上面
92 膜
135 規格化曲線
S11〜S17,S21〜S25,S31〜S38,S41〜S47,S251,S411,S471 ステップ
Claims (15)
- 基板上に形成された膜の膜厚ムラを検査するムラ検査装置であって、
主面上に光透過性の膜が形成されている基板を保持する保持部と、
前記膜に向けて光を出射する光出射部と、
前記膜にて反射された、または、前記膜を透過した後の特定の波長帯の光を複数の受光素子にて受光して前記主面からの前記特定の波長帯の光の強度分布を出力するセンサと、
前記特定の波長帯または前記光出射部から前記センサに至る光学系の状態に対応する光学条件を複数の光学条件の間で切り替える光学条件切替手段と、
前記センサの各受光素子に対して前記複数の光学条件にそれぞれ関連づけられた複数の補正情報を記憶する補正情報記憶部と、
前記複数の補正情報から前記光学条件切替手段にて選択された光学条件に関連づけられた前記各受光素子の補正情報を選択し、前記センサからの出力に基づいて生成された前記基板の上面の2次元画像である元画像の各画素の値を前記補正情報に基づいて補正することにより補正済画像を生成する出力補正部と、
前記補正済画像に対して前記膜の膜厚変動に起因する画素の値の差を強調する処理を行って強調画像を生成する強調処理部と、
前記強調画像に基づいて前記膜の膜厚ムラを検出するムラ検出部と、
を備えることを特徴とするムラ検査装置。 - 請求項1に記載のムラ検査装置であって、
前記光出射部が複数の波長帯の光を含む光を出射し、
前記光学条件切替手段が、
前記複数の波長帯の光を選択的にそれぞれ透過する複数の光学フィルタと、
前記複数の光学フィルタのうち前記光出射部から前記センサに至る光路上に配置される一の光学フィルタを他の光学フィルタに切り替えることにより前記特定の波長帯を変更する光学フィルタ切替機構と、
を備え、
前記複数の光学条件が、前記複数の波長帯のそれぞれを前記特定の波長帯とする光学条件を含むことを特徴とするムラ検査装置。 - 請求項1に記載のムラ検査装置であって、
前記光学条件切替手段が、
偏光子と、
前記偏光子を前記光出射部から前記センサに至る光路上の位置と前記光路から離れた位置との間で移動する偏光子移動機構と、
を備え、
前記複数の光学条件が、前記偏光子が前記光路上に配置されている状態に対応する光学条件、および、前記偏光子が前記光路上から退避している状態に対応する光学条件を含むことを特徴とするムラ検査装置。 - 請求項1に記載のムラ検査装置であって、
前記光出射部が、複数の光源要素から互いに異なる複数の波長帯の光を個別に出射可能であり、
前記光学条件切替手段が、前記光出射部を制御して出射される光の波長帯を切り替えることにより前記特定の波長帯を変更し、
前記複数の光学条件が、前記複数の波長帯のそれぞれを前記特定の波長帯とする光学条件を含むことを特徴とするムラ検査装置。 - 請求項1ないし4のいずれかに記載のムラ検査装置であって、
前記複数の補正情報のそれぞれが、前記センサの前記各受光素子からの出力値を変換する2次以上の関数であることを特徴とするムラ検査装置。 - 請求項1ないし4のいずれかに記載のムラ検査装置であって、
前記複数の補正情報のそれぞれが、前記センサの前記各受光素子からの出力値を変換するルックアップテーブルであることを特徴とするムラ検査装置。 - 請求項1ないし6のいずれかに記載のムラ検査装置であって、
前記センサが、前記膜にて反射された後の前記特定の波長帯の光を受光することを特徴とするムラ検査装置。 - 請求項7に記載のムラ検査装置であって、
前記基板の前記主面に沿う所定の移動方向に前記保持部を前記光出射部および前記センサに対して相対的に移動する移動機構をさらに備え、
前記光出射部が、
光源と、
前記光源からの光を前記移動方向に垂直な線状光に変換して前記主面へと導く光学系と、
を備え、
前記センサが、前記線状光の前記基板上における照射領域にて反射された前記特定の波長帯の光の強度分布を前記保持部の移動に同期して繰り返し取得するラインセンサであることを特徴とするムラ検査装置。 - 請求項1ないし6のいずれかに記載のムラ検査装置であって、
前記複数の補正情報を取得する補正情報取得部をさらに備え、
前記補正情報取得部が、
膜厚ムラの影響を受けない環境下にて前記光出射部から光を出射し、露光量を変更しつつ前記特定の波長の光を前記センサにて受光して複数の出力を取得する工程と、
前記複数の出力に基づいて、前記センサの前記各受光素子からの出力値を露光量に対応する値へと変換する補正情報を求める工程と、
前記複数の光学条件のそれぞれにおいて、前記複数の出力を取得する工程と前記補正情報を求める工程とを繰り返す工程と、
を実行することを特徴とするムラ検査装置。 - 請求項9に記載のムラ検査装置であって、
前記センサが、前記膜にて反射された後の前記特定の波長帯の光を受光し、
前記膜厚ムラの影響を受けない環境において、前記保持部が基板に代えてミラーまたは拡散板を保持することを特徴とするムラ検査装置。 - 請求項10に記載のムラ検査装置であって、
前記基板の前記主面に沿う所定の移動方向に前記保持部を前記光出射部および前記センサに対して相対的に移動する移動機構をさらに備え、
前記光出射部が、
光源と、
前記光源からの光を前記移動方向に垂直な線状光に変換して前記主面へと導く光学系と、
を備え、
前記センサが、前記線状光の前記基板上における照射領域にて反射された前記特定の波長帯の光の強度分布を前記保持部の移動に同期して繰り返し取得するラインセンサであることを特徴とするムラ検査装置。 - 請求項11に記載のムラ検査装置であって、
前記複数の出力を取得する工程において、一の露光量に対して前記ミラーまたは前記拡散板を移動しつつ複数の仮出力の取得が繰り返され、前記複数の仮出力から前記一の露光量に対応する最終の出力が求められることを特徴とするムラ検査装置。 - 請求項9ないし12のいずれかに記載のムラ検査装置であって、
前記補正情報を求める工程において、前記各受光素子からの前記複数の出力に対応する複数の出力値のうち所定の上限値と下限値との間の出力値のみが利用されることを特徴とするムラ検査装置。 - 請求項9ないし13のいずれかに記載のムラ検査装置であって、
前記補正情報を求める工程において、前記複数の出力に基づいて前記露光量に対応する値と前記各受光素子からの出力値との関係を示す近似曲線が求められ、前記各受光素子からの前記複数の出力に対応する複数の出力値から前記近似曲線との残差が閾値よりも大きい出力値が除かれた上で前記補正情報が取得されることを特徴とするムラ検査装置。 - 基板上に形成された膜の膜厚ムラを検査するムラ検査方法であって、
ムラ検査に利用される光の波長帯または光学系の状態に対応する光学条件を複数の光学条件から選択する工程と、
基板の主面に形成されている光透過性の膜に向けて光を出射する工程と、
前記膜にて反射された、または、前記膜を透過した後の特定の波長帯の光を複数の受光素子にて受光して前記主面からの前記特定の波長帯の光の強度分布をセンサから出力する工程と、
前記センサの各受光素子に対して前記複数の光学条件にそれぞれ関連づけられた複数の補正情報から、選択された前記光学条件に関連づけられた前記各受光素子の補正情報を選択し、前記センサからの出力に基づいて生成された前記基板の上面の2次元画像である元画像の各画素の値を補正することにより補正済画像を生成する工程と、
前記補正済画像に対して前記膜の膜厚変動に起因する画素の値の差を強調する処理を行って強調画像を生成する工程と、
前記強調画像に基づいて前記膜の膜厚ムラを検出する工程と、
を備えることを特徴とするムラ検査方法。
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