JP4618720B2 - ムラ検査装置およびムラ検査方法 - Google Patents
ムラ検査装置およびムラ検査方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4618720B2 JP4618720B2 JP2005111561A JP2005111561A JP4618720B2 JP 4618720 B2 JP4618720 B2 JP 4618720B2 JP 2005111561 A JP2005111561 A JP 2005111561A JP 2005111561 A JP2005111561 A JP 2005111561A JP 4618720 B2 JP4618720 B2 JP 4618720B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical filter
- light
- filter
- film
- wavelength band
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000007689 inspection Methods 0.000 title claims description 108
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 18
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 297
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 124
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims description 39
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims description 26
- 238000005286 illumination Methods 0.000 claims description 10
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 8
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 8
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 3
- 239000010408 film Substances 0.000 description 150
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 29
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 11
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 10
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 10
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 8
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000012788 optical film Substances 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 1
- -1 refractive index Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 238000011179 visual inspection Methods 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Description
請求項3に記載の発明は、基板上に形成された膜の膜厚ムラを検査するムラ検査装置であって、主面上に光透過性の膜が形成されている基板を保持する保持部と、前記膜に向けて前記主面に沿う所定の方向に伸びる線状光を出射する光出射部と、前記膜にて反射された、または、前記膜を透過した後の光を受光して前記主面上の前記所定の方向に伸びる線状の照射領域からの光の強度分布を取得するセンサと、特定の波長帯の光を透過する干渉フィルタである光学フィルタと、前記光学フィルタとは異なる波長帯の光を透過する干渉フィルタであるもう1つの光学フィルタと、前記光学フィルタおよび前記もう1つの光学フィルタのうち前記光出射部から前記センサに至る光路上に配置されている一の光学フィルタを他の光学フィルタに切り替える光学フィルタ切替機構と、前記主面に沿うとともに前記所定の方向に垂直な移動方向に前記保持部を前記光出射部、前記センサ、前記光学フィルタおよび前記もう1つの光学フィルタに対して相対的に移動する移動機構とを備え、前記光学フィルタ切替機構が、前記光学フィルタが前記光路上に配置された状態において前記線状の照射領域が伸びる方向を向く軸を中心として前記光学フィルタを回動することにより、前記光学フィルタの前記光路に対する傾きを変更して前記光学フィルタの透過波長帯を短波長側にシフトするフィルタチルト機構と、前記もう1つの光学フィルタが前記光路上に配置された状態において前記線状の照射領域が伸びる方向を向く他の軸を中心として前記もう1つの光学フィルタを回動することにより、前記もう1つの光学フィルタの前記光路に対する傾きを前記光学フィルタとは個別に変更して前記もう1つの光学フィルタの透過波長帯を短波長側にシフトするもう1つのフィルタチルト機構とを備える。
2,2a ステージ
3 光出射部
9 基板
21 移動機構
41 ラインセンサ
51 光学フィルタ
51a 選択光学フィルタ
52 フィルタホイール
53 フィルタ回転モータ
55,55a フィルタ回転軸
56,56a フィルタチルト機構
90 光路
91 上面
92 膜
S11〜S17,S21〜S23,S231 ステップ
Claims (7)
- 基板上に形成された膜の膜厚ムラを検査するムラ検査装置であって、
主面上に光透過性の膜が形成されている基板を保持する保持部と、
前記膜に向けて前記主面に沿う所定の方向に伸びる線状光を出射する光出射部と、
前記膜にて反射された、または、前記膜を透過した後の光を受光して前記主面上の前記所定の方向に伸びる線状の照射領域からの光の強度分布を取得するセンサと、
前記光出射部から前記センサに至る光路上に配置されるとともに特定の波長帯の光を透過する干渉フィルタである光学フィルタと、
前記光学フィルタとは異なる波長帯の光を透過する干渉フィルタであるもう1つの光学フィルタと、
前記光学フィルタおよび前記もう1つの光学フィルタのうち前記光路上に配置されている一の光学フィルタを他の光学フィルタに切り替える光学フィルタ切替機構と、
前記光学フィルタが前記光路上に配置された状態において、前記線状の照射領域が伸びる方向を向く軸を中心として前記光学フィルタを回動することにより、前記光学フィルタの前記光路に対する傾きを変更して前記光学フィルタの透過波長帯を短波長側にシフトするフィルタチルト機構と、
前記もう1つの光学フィルタが前記光路上に配置された状態において、前記線状の照射領域が伸びる方向を向く他の軸を中心として前記もう1つの光学フィルタを回動することにより、前記もう1つの光学フィルタの前記光路に対する傾きを前記光学フィルタとは個別に変更して前記もう1つの光学フィルタの透過波長帯を短波長側にシフトするもう1つのフィルタチルト機構と、
前記主面に沿うとともに前記所定の方向に垂直な移動方向に前記保持部を前記光出射部、前記センサ、前記光学フィルタおよび前記もう1つの光学フィルタに対して相対的に移動する移動機構と、
を備えることを特徴とするムラ検査装置。 - 基板上に形成された膜の膜厚ムラを検査するムラ検査装置であって、
主面上に光透過性の膜が形成されている基板を保持する保持部と、
前記膜に向けて前記主面に沿う所定の方向に伸びる線状光を出射する光出射部と、
前記膜にて反射された、または、前記膜を透過した後の光を受光して前記主面上の前記所定の方向に伸びる線状の照射領域からの光の強度分布を取得するセンサと、
前記光出射部から前記センサに至る光路上に配置されるとともに特定の波長帯の光を透過する干渉フィルタである光学フィルタと、
前記光学フィルタとは異なる波長帯の光を透過する干渉フィルタであるもう1つの光学フィルタと、
前記光学フィルタおよび前記もう1つの光学フィルタのうち前記光路上に配置されている一の光学フィルタを他の光学フィルタに切り替える光学フィルタ切替機構と、
前記線状の照射領域が伸びる方向を向く軸を中心として前記光学フィルタおよび前記もう1つの光学フィルタを回動することにより、前記光学フィルタを前記もう1つの光学フィルタと共に傾け、前記光学フィルタが前記光路上に配置された状態において、前記光学フィルタの前記光路に対する傾きを変更して前記光学フィルタの透過波長帯を短波長側にシフトし、前記もう1つの光学フィルタが前記光路上に配置された状態において、前記もう1つの光学フィルタの前記光路に対する傾きを変更して前記もう1つの光学フィルタの透過波長帯を短波長側にシフトするフィルタチルト機構と、
を備えることを特徴とするムラ検査装置。 - 基板上に形成された膜の膜厚ムラを検査するムラ検査装置であって、
主面上に光透過性の膜が形成されている基板を保持する保持部と、
前記膜に向けて前記主面に沿う所定の方向に伸びる線状光を出射する光出射部と、
前記膜にて反射された、または、前記膜を透過した後の光を受光して前記主面上の前記所定の方向に伸びる線状の照射領域からの光の強度分布を取得するセンサと、
特定の波長帯の光を透過する干渉フィルタである光学フィルタと、
前記光学フィルタとは異なる波長帯の光を透過する干渉フィルタであるもう1つの光学フィルタと、
前記光学フィルタおよび前記もう1つの光学フィルタのうち前記光出射部から前記センサに至る光路上に配置されている一の光学フィルタを他の光学フィルタに切り替える光学フィルタ切替機構と、
前記主面に沿うとともに前記所定の方向に垂直な移動方向に前記保持部を前記光出射部、前記センサ、前記光学フィルタおよび前記もう1つの光学フィルタに対して相対的に移動する移動機構と、
を備え、
前記光学フィルタ切替機構が、
前記光学フィルタが前記光路上に配置された状態において前記線状の照射領域が伸びる方向を向く軸を中心として前記光学フィルタを回動することにより、前記光学フィルタの前記光路に対する傾きを変更して前記光学フィルタの透過波長帯を短波長側にシフトするフィルタチルト機構と、
前記もう1つの光学フィルタが前記光路上に配置された状態において前記線状の照射領域が伸びる方向を向く他の軸を中心として前記もう1つの光学フィルタを回動することにより、前記もう1つの光学フィルタの前記光路に対する傾きを前記光学フィルタとは個別に変更して前記もう1つの光学フィルタの透過波長帯を短波長側にシフトするもう1つのフィルタチルト機構と、
を備えることを特徴とするムラ検査装置。 - 請求項1ないし3のいずれかに記載のムラ検査装置であって、
前記センサが、前記膜にて反射された後の光を受光することを特徴とするムラ検査装置。 - 請求項4に記載のムラ検査装置であって、
前記光出射部からの光が、前記基板の前記主面に対して傾斜して入射することを特徴とするムラ検査装置。 - 請求項1ないし5のいずれかに記載のムラ検査装置であって、
前記膜が、前記基板の前記主面上に塗布液を塗布することにより形成されたものであることを特徴とするムラ検査装置。 - 基板上に形成された膜の膜厚ムラを検査するムラ検査方法であって、
a)主面上に光透過性の膜が形成されている基板を経由しつつ光出射部からセンサに至る光路上に配置されるとともに特定の波長帯の光を透過する干渉フィルタである光学フィルタを傾けて前記光学フィルタの前記光路に対する傾きを変更して前記光学フィルタの透過波長帯を短波長側にシフトする工程と、
b)前記主面に沿う移動方向に前記基板に対して相対的に移動する前記光出射部から、前記主面に沿うとともに前記移動方向に垂直な所定の方向に伸びる線状光を前記膜に向けて出射する工程と、
c)前記基板に対して前記光出射部と共に相対的に移動する前記センサにより、前記膜にて反射された、または、前記膜を透過した後の前記特定の波長帯の光を受光して前記主面上の前記所定の方向に伸びる線状の照射領域からの光の強度分布を繰り返し取得する工程と、
d)前記主面上における光の強度分布に基づいて膜厚ムラを仮検出する工程と、
e)前記光路上に配置されている前記光学フィルタを、前記光学フィルタとは異なる波長帯の光を透過する干渉フィルタであるもう1つの光学フィルタに切り替え、前記a)工程ないし前記d)工程を行う工程と、
f)前記d)工程にて仮検出された膜厚ムラ、および、前記e)工程にて仮検出された膜厚ムラに基づいて最終的な膜厚ムラを検出する工程と、
を備えることを特徴とするムラ検査方法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005111561A JP4618720B2 (ja) | 2005-04-08 | 2005-04-08 | ムラ検査装置およびムラ検査方法 |
TW095107391A TWI276775B (en) | 2005-03-31 | 2006-03-06 | Unevenness inspecting apparatus and unevenness inspecting method |
KR1020060029701A KR100767498B1 (ko) | 2005-03-31 | 2006-03-31 | 불균일 검사장치 및 불균일 검사방법 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005111561A JP4618720B2 (ja) | 2005-04-08 | 2005-04-08 | ムラ検査装置およびムラ検査方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006292487A JP2006292487A (ja) | 2006-10-26 |
JP4618720B2 true JP4618720B2 (ja) | 2011-01-26 |
Family
ID=37413218
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005111561A Expired - Fee Related JP4618720B2 (ja) | 2005-03-31 | 2005-04-08 | ムラ検査装置およびムラ検査方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4618720B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5203832B2 (ja) * | 2008-07-24 | 2013-06-05 | 東海旅客鉄道株式会社 | 膜厚測定方法 |
CN110208187B (zh) * | 2019-04-29 | 2024-03-19 | 吉林亚泰中科医疗器械工程技术研究院股份有限公司 | 一种用于滤光片和光纤自动同步更换的装置 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002267416A (ja) * | 2001-03-08 | 2002-09-18 | Olympus Optical Co Ltd | 表面欠陥検査装置 |
JP2002350117A (ja) * | 2001-05-29 | 2002-12-04 | Olympus Optical Co Ltd | 形状計測装置及び形状計測方法 |
JP2004125454A (ja) * | 2002-09-30 | 2004-04-22 | Jasco Corp | 近接場分光装置及び光ファイバプローブの作成方法 |
JP2004219108A (ja) * | 2003-01-09 | 2004-08-05 | Dainippon Printing Co Ltd | 着色膜の膜厚ムラ検査方法及び装置 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62269048A (ja) * | 1986-05-19 | 1987-11-21 | Hitachi Electronics Eng Co Ltd | プリント基板検査装置 |
JP2965731B2 (ja) * | 1991-03-29 | 1999-10-18 | 倉敷紡績株式会社 | 赤外線式測定装置 |
JPH0755561A (ja) * | 1993-08-12 | 1995-03-03 | Fujitsu Ltd | 光検知装置 |
JPH09222566A (ja) * | 1996-02-19 | 1997-08-26 | Olympus Optical Co Ltd | 調光装置 |
-
2005
- 2005-04-08 JP JP2005111561A patent/JP4618720B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002267416A (ja) * | 2001-03-08 | 2002-09-18 | Olympus Optical Co Ltd | 表面欠陥検査装置 |
JP2002350117A (ja) * | 2001-05-29 | 2002-12-04 | Olympus Optical Co Ltd | 形状計測装置及び形状計測方法 |
JP2004125454A (ja) * | 2002-09-30 | 2004-04-22 | Jasco Corp | 近接場分光装置及び光ファイバプローブの作成方法 |
JP2004219108A (ja) * | 2003-01-09 | 2004-08-05 | Dainippon Printing Co Ltd | 着色膜の膜厚ムラ検査方法及び装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2006292487A (ja) | 2006-10-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3995579B2 (ja) | 膜厚測定装置および反射率測定装置 | |
KR101793584B1 (ko) | 검사 장치 및 검사 방법 | |
JP4135603B2 (ja) | 2次元分光装置及び膜厚測定装置 | |
US20120224183A1 (en) | Interferometric metrology of surfaces, films and underresolved structures | |
KR20170097174A (ko) | 증착을 위한 모니터링 시스템 및 그 동작 방법 | |
JP2006284211A (ja) | ムラ検査装置およびムラ検査方法 | |
KR20020012133A (ko) | 표면검사장치 | |
JP5459944B2 (ja) | 表面形状測定装置および応力測定装置、並びに、表面形状測定方法および応力測定方法 | |
KR102513718B1 (ko) | 공정 변동에 대한 계측 민감도를 정량화하기 위한 스케일링 메트릭 | |
JP2008152065A (ja) | フォーカス制御方法 | |
KR20080070863A (ko) | 근적외선 스펙트럼 범위를 이용한 오버레이 메트롤러지 | |
JP2007057521A (ja) | ムラ検査装置およびムラ検査方法 | |
TW202204848A (zh) | 高靈敏度的基於影像的反射測量 | |
JP2006284212A (ja) | ムラ検査装置およびムラ検査方法 | |
JP5174697B2 (ja) | 欠陥検査装置 | |
JP4618720B2 (ja) | ムラ検査装置およびムラ検査方法 | |
EP0977029A1 (en) | Pattern inspecting apparatus | |
JP2006313143A (ja) | ムラ検査装置およびムラ検査方法 | |
JP4883762B2 (ja) | ムラ検査装置およびムラ検査方法 | |
JP2010048604A (ja) | 膜厚測定装置および膜厚測定方法 | |
JP2007101494A (ja) | 表面検査装置 | |
KR100767498B1 (ko) | 불균일 검사장치 및 불균일 검사방법 | |
JP2010107355A (ja) | 光学フィルタ調整方法およびムラ検査装置 | |
JP2005274156A (ja) | 欠陥検査装置 | |
JP2008139065A (ja) | 膜評価装置及び膜評価方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20071218 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100412 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100422 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100617 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100802 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100917 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20101022 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20101022 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131105 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4618720 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131105 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131105 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |