JPS62269048A - プリント基板検査装置 - Google Patents
プリント基板検査装置Info
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- JPS62269048A JPS62269048A JP11255986A JP11255986A JPS62269048A JP S62269048 A JPS62269048 A JP S62269048A JP 11255986 A JP11255986 A JP 11255986A JP 11255986 A JP11255986 A JP 11255986A JP S62269048 A JPS62269048 A JP S62269048A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/95—Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
- G01N21/956—Inspecting patterns on the surface of objects
- G01N21/95684—Patterns showing highly reflecting parts, e.g. metallic elements
-
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- G01N2021/95638—Inspecting patterns on the surface of objects for PCB's
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、プリント基板の配線面に光を照射しその基材
を励起して放出される蛍光を検出することにより配線パ
ターンを検査するプリント基板検査装置に関し、特にプ
リント基板のフォ１−レジストの種類によって異なる蛍
光スペクトルに対応して蛍光の検出光量を大きくできる
プリント基板検査装置に関する。
を励起して放出される蛍光を検出することにより配線パ
ターンを検査するプリント基板検査装置に関し、特にプ
リント基板のフォ１−レジストの種類によって異なる蛍
光スペクトルに対応して蛍光の検出光量を大きくできる
プリント基板検査装置に関する。
従来の技術
従来の蛍光検出方式のプリント基板検査装置は、第６図
に示すように、プリント基板１の配線面２に光４を照射
する光源５と、コリメータレンズ系６と、上記光源５か
ら発した光４のうち蛍光励起能力の大きい波長の光を選
別する励起光透過フィルタ７と、ダイクロイックミラー
８と、上記プリント基板１の配線面２からの反射光をカ
ントして該プリント基板１の基材３から発止する蛍光の
みを透過させる蛍光透過フィルタ９と、この蛍光透。
に示すように、プリント基板１の配線面２に光４を照射
する光源５と、コリメータレンズ系６と、上記光源５か
ら発した光４のうち蛍光励起能力の大きい波長の光を選
別する励起光透過フィルタ７と、ダイクロイックミラー
８と、上記プリント基板１の配線面２からの反射光をカ
ントして該プリント基板１の基材３から発止する蛍光の
みを透過させる蛍光透過フィルタ９と、この蛍光透。
過フィルタ９を透過した光を結像させる結像レンズ１０
と、この結像レンズ１０で結像された光を検出する受光
器１１とからなり、上記光源５からの励起光１２が上方
からノ、（材３に照射吸収さ４シ。
と、この結像レンズ１０で結像された光を検出する受光
器１１とからなり、上記光源５からの励起光１２が上方
からノ、（材３に照射吸収さ４シ。
この基材３から発生する蛍光を検出することにより、配
線面２の配線パターンを検査するようになっていた。な
お、第６図において、符号１３はプリント基板１を上面
にａ置固定する台板、符号１４は上記台板１３に連結さ
れた駆動軸、符号Ｍは駆動モータである。
線面２の配線パターンを検査するようになっていた。な
お、第６図において、符号１３はプリント基板１を上面
にａ置固定する台板、符号１４は上記台板１３に連結さ
れた駆動軸、符号Ｍは駆動モータである。
発明が解決しようとする問題点
しかし、このような従来のプリント基板検査装置におい
ては、上記励起光透過フィルタ７は、例えば波長４００
ｎｍ以下の紫色ないし紫外線のみを透過させる一般にブ
ルーフィルタと称される色フィルタであり、上記蛍光透
過フィルタ９は、例えば波長６００ｎｍ以上の黄色ない
し赤色のみを透過させる一般にイエローフィルタと称さ
れる色フィルタであり、それぞれの透過帯域は一定のと
ころに固定されていた。ところが、光源５からの励起光
１２をプリント基板１に照射してその基材３から発生す
る蛍光のスペクトルは、上記プリント基板１のフォトレ
ジストの種類によって変化する。このとき、一枚の蛍光
透過フィルタ９では各種のプリント基板１の蛍光スペク
トルに適合せず、上記プリント基板１から発生した蛍光
のスペクトルの波長領域が蛍光透過フィルタ９の透過イ
ＩＦ域とずれるーことがあった。従って、上記蛍光透過
フィルタ９を透過する蛍光量が少なくなり、蛍光の検出
先板が小さくなるものであった。このことがら、配線パ
ターンの検査の信頼性が低下すると共に、検査所要時間
が長くなるものであった。これに対して、従来は、透過
帯域の異なる複数枚の蛍光透過フィルタ９を用意してお
き、プリント基板１のフォトレジストの種類に応じてそ
の蛍光スペクトルに適合する蛍光透過フィルタ９にいち
いち取り換えていた。また、励起光透過フィルタ７も同
様に、プリント基板１のフォトレジストの種類に応じて
複数枚を用意して、いちいち取り換えていた。
ては、上記励起光透過フィルタ７は、例えば波長４００
ｎｍ以下の紫色ないし紫外線のみを透過させる一般にブ
ルーフィルタと称される色フィルタであり、上記蛍光透
過フィルタ９は、例えば波長６００ｎｍ以上の黄色ない
し赤色のみを透過させる一般にイエローフィルタと称さ
れる色フィルタであり、それぞれの透過帯域は一定のと
ころに固定されていた。ところが、光源５からの励起光
１２をプリント基板１に照射してその基材３から発生す
る蛍光のスペクトルは、上記プリント基板１のフォトレ
ジストの種類によって変化する。このとき、一枚の蛍光
透過フィルタ９では各種のプリント基板１の蛍光スペク
トルに適合せず、上記プリント基板１から発生した蛍光
のスペクトルの波長領域が蛍光透過フィルタ９の透過イ
ＩＦ域とずれるーことがあった。従って、上記蛍光透過
フィルタ９を透過する蛍光量が少なくなり、蛍光の検出
先板が小さくなるものであった。このことがら、配線パ
ターンの検査の信頼性が低下すると共に、検査所要時間
が長くなるものであった。これに対して、従来は、透過
帯域の異なる複数枚の蛍光透過フィルタ９を用意してお
き、プリント基板１のフォトレジストの種類に応じてそ
の蛍光スペクトルに適合する蛍光透過フィルタ９にいち
いち取り換えていた。また、励起光透過フィルタ７も同
様に、プリント基板１のフォトレジストの種類に応じて
複数枚を用意して、いちいち取り換えていた。
この場合は、部品点数が多くなると共に、検査の操作性
が低下するものであった。そこで、本発明はこのような
問題点を解決することを目的とする。
が低下するものであった。そこで、本発明はこのような
問題点を解決することを目的とする。
問題点を解決するための手段
上記の問題点を解決する本発明の手段は、プリント基板
の配線面に光を照射する光源と、この光源から発した光
のうち蛍光励起能力の大きい波長の光を選別する励起光
透過フィルタと、上記プリント基板の基材から発生する
蛍光のみを透過させる蛍光透過フィルタと、この蛍光透
過フィルタを透過した光を結像させる結像レンズと、こ
の結像レンズで結像された光を検出する受光器とを有す
るプリント基板検査装置において、上記励起光透過フィ
ルタまたは蛍光透過フィルタのいずれか一方または両方
を干渉フィルタとすると共に、その干渉フィルタを回動
可能として光の入射角を可変としたことによってなされ
る。
の配線面に光を照射する光源と、この光源から発した光
のうち蛍光励起能力の大きい波長の光を選別する励起光
透過フィルタと、上記プリント基板の基材から発生する
蛍光のみを透過させる蛍光透過フィルタと、この蛍光透
過フィルタを透過した光を結像させる結像レンズと、こ
の結像レンズで結像された光を検出する受光器とを有す
るプリント基板検査装置において、上記励起光透過フィ
ルタまたは蛍光透過フィルタのいずれか一方または両方
を干渉フィルタとすると共に、その干渉フィルタを回動
可能として光の入射角を可変としたことによってなされ
る。
実施例
以下、本発明の実施例を添付図面に基づいて詳細に説明
する。
する。
第１図は本発明によるプリント基板検査装置の実施例を
示す側面図である。このプリント基板検査装置は、プリ
ント基板の配線面に光を照射しその基材を励起して放出
される蛍光を検出することにより配線パターンを検査す
るもので、第１図において、台板１３の上面にプリント
基板１を載置固定し、この台板１３に連結された駆動軸
１４を駆動モータＭで駆動することにより、上記台板１
３をＸ−Ｙ方向の一方向または両方向に移動させるよう
になっている。なお、上記プリント基板１は、例えばガ
ラスエポキシ基材などの半透明の基材３の配線面２に銅
箔で配線パターンを形成したものである。
示す側面図である。このプリント基板検査装置は、プリ
ント基板の配線面に光を照射しその基材を励起して放出
される蛍光を検出することにより配線パターンを検査す
るもので、第１図において、台板１３の上面にプリント
基板１を載置固定し、この台板１３に連結された駆動軸
１４を駆動モータＭで駆動することにより、上記台板１
３をＸ−Ｙ方向の一方向または両方向に移動させるよう
になっている。なお、上記プリント基板１は、例えばガ
ラスエポキシ基材などの半透明の基材３の配線面２に銅
箔で配線パターンを形成したものである。
上記台板１３の一側端の上方近傍には、光源５が設けら
れている。この光源５は、上記台板１３の上面に載置固
定されたプリント基板１の配線面２に光を照射するもの
で、紫外線ないし近紫外線部に大きな分光強度をもつ例
えば超高圧水銀ランプからなる。そして、この光ｇ５か
ら射出された光４はコリメータレンズ系６に入り、平行
光束とされる。
れている。この光源５は、上記台板１３の上面に載置固
定されたプリント基板１の配線面２に光を照射するもの
で、紫外線ないし近紫外線部に大きな分光強度をもつ例
えば超高圧水銀ランプからなる。そして、この光ｇ５か
ら射出された光４はコリメータレンズ系６に入り、平行
光束とされる。
上記コリメータレンズ系６の後方には、励起光透過フィ
ルタ７が設けられている。この励起光透過フィルタ７は
、上記光源５がら発した光４のうち蛍光励起能力の大き
い波長の光を選別するもので、例えば波長４００ｎｍ以
下の紫色ないし紫外線のみを透過させるフィルタである
。従って、上記光１１７ｉ５から射出された光４は、こ
の励起光透過フィルタ７によって蛍光励起能力を有する
励起光１２のみが透過され、他の波長の光はカットされ
る。
ルタ７が設けられている。この励起光透過フィルタ７は
、上記光源５がら発した光４のうち蛍光励起能力の大き
い波長の光を選別するもので、例えば波長４００ｎｍ以
下の紫色ないし紫外線のみを透過させるフィルタである
。従って、上記光１１７ｉ５から射出された光４は、こ
の励起光透過フィルタ７によって蛍光励起能力を有する
励起光１２のみが透過され、他の波長の光はカットされ
る。
上記励起光透過フィルタフの後方には、ダイクロインク
ミラー８が設けられている。このダイクロイックミラー
８は、上記励起光１２を反射しその光路を９０度下方に
変更してプリント基板１の配線面２に励起光１２を照射
させるもので１例えば上記台板１３の上面に対して４５
度の角度をなして傾斜されている。そして、このダイク
ロイックミラー８で光路を９０度下方に変更された励起
光１２は、そのままプリント基板１の配線面２へ照射さ
れる。この励起光１２は、配線面２の配線パターンの部
分では反射され、基材３の部分では矢印Ａのように内部
に透過し、その間に上記基材３を局部的に励起する。こ
れにより、例えば波長６００ｎｍ近傍の蛍光を放出する
。
ミラー８が設けられている。このダイクロイックミラー
８は、上記励起光１２を反射しその光路を９０度下方に
変更してプリント基板１の配線面２に励起光１２を照射
させるもので１例えば上記台板１３の上面に対して４５
度の角度をなして傾斜されている。そして、このダイク
ロイックミラー８で光路を９０度下方に変更された励起
光１２は、そのままプリント基板１の配線面２へ照射さ
れる。この励起光１２は、配線面２の配線パターンの部
分では反射され、基材３の部分では矢印Ａのように内部
に透過し、その間に上記基材３を局部的に励起する。こ
れにより、例えば波長６００ｎｍ近傍の蛍光を放出する
。
上記プリント基板１の基材３から発生した蛍光と、配線
面２の配線パターンで反射した励起光とが合成された光
１５は、再びダイクロイックミラー８１ご入射する。こ
のダイクロイックミラー８は、ハーフミラ−であると共
に、上記基材３から発生した蛍光だけを透過し励起光１
２の反射成分はこれをすべて反射するものである。
面２の配線パターンで反射した励起光とが合成された光
１５は、再びダイクロイックミラー８１ご入射する。こ
のダイクロイックミラー８は、ハーフミラ−であると共
に、上記基材３から発生した蛍光だけを透過し励起光１
２の反射成分はこれをすべて反射するものである。
上記台板１３の上方にてダイクロイックミラー８の後方
には、蛍光透過フィルタ９が設けられている。この蛍光
透過フィルタ９は、上記ダイクロイックミラー８を僅か
に透過した励起光１２の反射成分及び背景雑音光を完全
に除去して上記プリント基板１の基材３から発生した蛍
光１６のみを透過させるもので１例えば波長６００ｎｍ
以上の黄色ないし赤色のみを透過させるフィルタである
。
には、蛍光透過フィルタ９が設けられている。この蛍光
透過フィルタ９は、上記ダイクロイックミラー８を僅か
に透過した励起光１２の反射成分及び背景雑音光を完全
に除去して上記プリント基板１の基材３から発生した蛍
光１６のみを透過させるもので１例えば波長６００ｎｍ
以上の黄色ないし赤色のみを透過させるフィルタである
。
従って、この蛍光透過フィルタ９によって、波長６００
ｎｍ未満の光はカットされ、蛍光１６のみが透過される
。
ｎｍ未満の光はカットされ、蛍光１６のみが透過される
。
上記蛍光透過フィルタ９の後方には、結像レンズ１０が
設けられている。この結像レンズ１０は、上記蛍光透過
フィルタ９を透過した蛍光１６を入射して配線パターン
像を結像するものである。そして、この結像レンズ１０
の後方には、受光器１１が設けられている。この受光器
１１は、上記結像レンズ１０で結像された光を入射し光
電変換して配線パターン像を検出するもので、例えば電
荷結合素子（ＣＣＤ）を直線状に配列した検出器である
。この受光器１１からの検出信号を処理することにより
、上記プリント基板１の配線面２の配線パターンを検査
することができる。
設けられている。この結像レンズ１０は、上記蛍光透過
フィルタ９を透過した蛍光１６を入射して配線パターン
像を結像するものである。そして、この結像レンズ１０
の後方には、受光器１１が設けられている。この受光器
１１は、上記結像レンズ１０で結像された光を入射し光
電変換して配線パターン像を検出するもので、例えば電
荷結合素子（ＣＣＤ）を直線状に配列した検出器である
。この受光器１１からの検出信号を処理することにより
、上記プリント基板１の配線面２の配線パターンを検査
することができる。
ここで、本発明においては、上記蛍光透過フィルタ９が
干渉フィルタからなると共に、その干渉フィルタを回動
可能として光の入射角が可変とされている。上記干渉フ
ィルタは、光の波長程度の厚さの透明ａ膜による干渉を
利用して所望の波長領域の光だけを通過または反射させ
るもので、ガラス板上に真空原着により半透明の銀の薄
膜の間に透明な誘電体の薄膜をはさんで形成され、また
は誘電体だけの多層膜を作って形成されている。
干渉フィルタからなると共に、その干渉フィルタを回動
可能として光の入射角が可変とされている。上記干渉フ
ィルタは、光の波長程度の厚さの透明ａ膜による干渉を
利用して所望の波長領域の光だけを通過または反射させ
るもので、ガラス板上に真空原着により半透明の銀の薄
膜の間に透明な誘電体の薄膜をはさんで形成され、また
は誘電体だけの多層膜を作って形成されている。
そして、その干渉フィルタからなる蛍光透過フィルタ９
は、第２図に示すように、その両側辺の中央部に設けら
れた支軸１７にプーリ１８が取り付けられ、該蛍光透過
フィルタ９の近傍には駆動モータ１９が設けられており
、この駆動モータ１９の回転軸に取り付けられたプーリ
２０と上記プーリ１８との間にはベルト２１が掛は回さ
れている。
は、第２図に示すように、その両側辺の中央部に設けら
れた支軸１７にプーリ１８が取り付けられ、該蛍光透過
フィルタ９の近傍には駆動モータ１９が設けられており
、この駆動モータ１９の回転軸に取り付けられたプーリ
２０と上記プーリ１８との間にはベルト２１が掛は回さ
れている。
従って、上記駆動モータ１９を駆動してプーリ１８を所
定方向へ回転することにより、上記蛍光透過フィルタ９
が矢印Ｂ、Ｃ方向に回動することとなる。これにより、
蛍光透過フィルタ９の光軸２２が光の入射方向りに対し
て適宜傾けられ、上記蛍光透過フィルタ９に対する光の
入射角θが可変となる。
定方向へ回転することにより、上記蛍光透過フィルタ９
が矢印Ｂ、Ｃ方向に回動することとなる。これにより、
蛍光透過フィルタ９の光軸２２が光の入射方向りに対し
て適宜傾けられ、上記蛍光透過フィルタ９に対する光の
入射角θが可変となる。
このように上記干渉フィルタからなる蛍光透過フィルタ
９に対する入射角θを可変としたのは、干渉フィルタの
分光特性が光の入射角θに応じて変化するからである。
９に対する入射角θを可変としたのは、干渉フィルタの
分光特性が光の入射角θに応じて変化するからである。
すなわち、第３図に示すように、入射角θ＝Ｏ度のとき
の干渉フィルタの分光特性を実線Ｅで表すと１例えば入
射角θ＝α（α＞Ｏ）のときの干渉フィルタの分光特性
は破線Ｆで表すように波長の短い方へ変化する。従って
、一枚の蛍光透過フィルタ９で、その入射角０を適宜変
化させることにより、透過帯域の異なる種々のフィルタ
を実現できる。
の干渉フィルタの分光特性を実線Ｅで表すと１例えば入
射角θ＝α（α＞Ｏ）のときの干渉フィルタの分光特性
は破線Ｆで表すように波長の短い方へ変化する。従って
、一枚の蛍光透過フィルタ９で、その入射角０を適宜変
化させることにより、透過帯域の異なる種々のフィルタ
を実現できる。
次に、このように構成されたプリント基板検査装置の使
用について説明する。まず、検査に先立ち、第２図に示
す駆動モータ１９を駆動して蛍光透過フィルタ９を矢印
Ｂ、Ｃ方向に回動し、透過光量が最大となる入射角θを
探す０例えば、あるプリント基板１において、それから
発生する蛍光のスペクトルの波長領域が第３図において
約６００〜７００ｎｍであるとすると、この場合は上記
蛍光透過フィルタ９の入射角θが０度のときの分光特性
Ｅが上記蛍光スペクトルの波長領域に合致するので、そ
の蛍光透過フィルタ９の入射角θは０度と決める。そし
て、第２図において入射角θ＝０度となるように蛍光透
過フィルタ９をセットし、第１図に示すようにプリント
基板１の配線面２に励起光１２を照射し、その配線パタ
ーンを検査する。次に、別の種類のプリント基板１にお
いては、それから発生する蛍光のスペクトルＧの波長領
域が第３図に示すように約４５０〜６００ｎｍであると
すると、この場合は上記蛍光透過フィルタ９の入射角θ
がαのときの分光特性Ｆが上記蛍光スペクトルＧの波長
領域に合致するので、その蛍光透過フィルタ９の入射角
θはαと決める。
用について説明する。まず、検査に先立ち、第２図に示
す駆動モータ１９を駆動して蛍光透過フィルタ９を矢印
Ｂ、Ｃ方向に回動し、透過光量が最大となる入射角θを
探す０例えば、あるプリント基板１において、それから
発生する蛍光のスペクトルの波長領域が第３図において
約６００〜７００ｎｍであるとすると、この場合は上記
蛍光透過フィルタ９の入射角θが０度のときの分光特性
Ｅが上記蛍光スペクトルの波長領域に合致するので、そ
の蛍光透過フィルタ９の入射角θは０度と決める。そし
て、第２図において入射角θ＝０度となるように蛍光透
過フィルタ９をセットし、第１図に示すようにプリント
基板１の配線面２に励起光１２を照射し、その配線パタ
ーンを検査する。次に、別の種類のプリント基板１にお
いては、それから発生する蛍光のスペクトルＧの波長領
域が第３図に示すように約４５０〜６００ｎｍであると
すると、この場合は上記蛍光透過フィルタ９の入射角θ
がαのときの分光特性Ｆが上記蛍光スペクトルＧの波長
領域に合致するので、その蛍光透過フィルタ９の入射角
θはαと決める。
そして、第２図において入射角θ＝αとなるように蛍光
透過フィルタ９をセットし、上述と同様に配線パターン
を検査すればよい。
透過フィルタ９をセットし、上述と同様に配線パターン
を検査すればよい。
第４図は本発明の第二の実施例を示す側面図である。こ
の実施例は、蛍光透過フィルタ９は従来の色フィルタの
ままとし、励起光透過フィルタ７を干渉フィルタとする
と共に、その干渉フィルタを第２図に示すと同様に回動
可能として光の入射角を可変としたものである。従って
、一枚の励起光透過フィルタ７で、その入射角を適宜変
化させることにより、透過帯域の異なる種々のフィルタ
を実現できる。この場合は、プリント基板１のフォトレ
ジストの種類によっては該プリント基板１の配線面２に
照射する励起光１２の波長領域によって発生する蛍光の
スペクトルが変化するときに、上記励起光透過フィルタ
フによって上記配線面２に照射する励起光１２の波長領
域を変化させ、これにより発生する蛍光スペクトルを蛍
光透過フィルタ９の透過帯域に合せることができる。従
って、蛍光の検出光景を大きくすることができる。
の実施例は、蛍光透過フィルタ９は従来の色フィルタの
ままとし、励起光透過フィルタ７を干渉フィルタとする
と共に、その干渉フィルタを第２図に示すと同様に回動
可能として光の入射角を可変としたものである。従って
、一枚の励起光透過フィルタ７で、その入射角を適宜変
化させることにより、透過帯域の異なる種々のフィルタ
を実現できる。この場合は、プリント基板１のフォトレ
ジストの種類によっては該プリント基板１の配線面２に
照射する励起光１２の波長領域によって発生する蛍光の
スペクトルが変化するときに、上記励起光透過フィルタ
フによって上記配線面２に照射する励起光１２の波長領
域を変化させ、これにより発生する蛍光スペクトルを蛍
光透過フィルタ９の透過帯域に合せることができる。従
って、蛍光の検出光景を大きくすることができる。
第５図は本発明の第三の実施例を示す側面図である。こ
の実施例は、蛍光透過フィルタ９及び励起光透過フィル
タフの両方を干渉フィルタとすると共に、それぞれの干
渉フィルタを第２図に示すと同様に回動可能として光の
入射角を可変としたものである。従って、それぞれ一枚
の蛍光透過フィルタ９及び励起光透過フィルタ７で、そ
れぞれの入射角を変化させることにより、透過帯域の異
なる種々のフィルタを実現できる。そして、この場合は
、上述の第一の実施例と第二の実施例を合せた効果を発
揮することができ、蛍光の検出光量をより大きくするこ
とができる。
の実施例は、蛍光透過フィルタ９及び励起光透過フィル
タフの両方を干渉フィルタとすると共に、それぞれの干
渉フィルタを第２図に示すと同様に回動可能として光の
入射角を可変としたものである。従って、それぞれ一枚
の蛍光透過フィルタ９及び励起光透過フィルタ７で、そ
れぞれの入射角を変化させることにより、透過帯域の異
なる種々のフィルタを実現できる。そして、この場合は
、上述の第一の実施例と第二の実施例を合せた効果を発
揮することができ、蛍光の検出光量をより大きくするこ
とができる。
なお、第２図においては、蛍光透過フィルタ９の支軸１
７及びプーリ１８を両側辺の中央部に設けだものとして
示したが、本発明はこれに限らず、上記支軸１７は蛍光
透過フィルタ９の一側端部に設け、これにプーリ１８を
取り付けてもよい。
７及びプーリ１８を両側辺の中央部に設けだものとして
示したが、本発明はこれに限らず、上記支軸１７は蛍光
透過フィルタ９の一側端部に設け、これにプーリ１８を
取り付けてもよい。
発明の効果
本発明は以上説明したように、励起光透過フィルタ７ま
たは蛍光透過フィルタ９のいずれか一方または両方を干
渉フィルタとすると共に、その干渉フィルタを回動可能
として光の入射角θを可変としたので、上記干渉フィル
タの分光特性が光の入射角θに応じて変化することを利
用し、一枚の励起光透過フィルタ７または蛍光透過フィ
ルタ９で、その入射角Ｏを適宜変化させることにより透
過ｉｊ′ｆ域の異なる種々のフィルタを実現できる。従
って、一枚の励起光透過フィルタ７または蛍光透過フィ
ルタ９であっても、プリント基板１のフォトレジストの
種類によって異なる蛍光スペクトルに適合させることが
でき、蛍光の検出光量を大きくすることができる。この
ことから、配線パターンの検査の（ａ顕性を向上できる
と共に、検査所要時間を短縮することができる。また、
励起光透過フィルタ７または蛍光透過フィルタ９は一枚
だけでよいので、部品点数を少なくしてコスト低下が図
れると共に、従来のようにフィルタをいちいち取り換え
る必要がないので、検査の操作性を向上することができ
る。さらに、プリント基板１の新製品について検査する
場合も、そのままの装置で励起光透過フィルタ７または
蛍光透過フィルタ９を回動して光の入射角０を変化させ
るだけで容易に対応することができる。
たは蛍光透過フィルタ９のいずれか一方または両方を干
渉フィルタとすると共に、その干渉フィルタを回動可能
として光の入射角θを可変としたので、上記干渉フィル
タの分光特性が光の入射角θに応じて変化することを利
用し、一枚の励起光透過フィルタ７または蛍光透過フィ
ルタ９で、その入射角Ｏを適宜変化させることにより透
過ｉｊ′ｆ域の異なる種々のフィルタを実現できる。従
って、一枚の励起光透過フィルタ７または蛍光透過フィ
ルタ９であっても、プリント基板１のフォトレジストの
種類によって異なる蛍光スペクトルに適合させることが
でき、蛍光の検出光量を大きくすることができる。この
ことから、配線パターンの検査の（ａ顕性を向上できる
と共に、検査所要時間を短縮することができる。また、
励起光透過フィルタ７または蛍光透過フィルタ９は一枚
だけでよいので、部品点数を少なくしてコスト低下が図
れると共に、従来のようにフィルタをいちいち取り換え
る必要がないので、検査の操作性を向上することができ
る。さらに、プリント基板１の新製品について検査する
場合も、そのままの装置で励起光透過フィルタ７または
蛍光透過フィルタ９を回動して光の入射角０を変化させ
るだけで容易に対応することができる。
第１図は本発明によるプリント基板検査装置の実施例を
示す側面図、第２図は蛍光透過フィルタを回動させる構
造の具体例を示す側面図、第３図は干渉フィルタの分光
特性が光の入射角に応じて変化する状態を示すグラフ、
第４図は本発明の第二の実施例を示す側面図、第５図は
茅三の実施例を示す側面図、第６図は従来のプリント基
板検査装置を示す側面図である。 １・・・プリント基板 ２・・配線面 ３・・・基 材 ５・・・光 源 ７・・・励起光透過フィルタ ８・・・ダイクロインクミラー ９・・・蛍光透過フィルタ １０・・・結像レンズ １１・・・受光器 １２・・・励起光 １６・・・蛍 光 １７・・・支 軸 １８．２０・・・プーリ １９・・・駆動モータ ２１・・・ベルト θ・・・入射角 出願人 日立電子エンジニアリング株式会社ｍｔ図 第３図 第４図
示す側面図、第２図は蛍光透過フィルタを回動させる構
造の具体例を示す側面図、第３図は干渉フィルタの分光
特性が光の入射角に応じて変化する状態を示すグラフ、
第４図は本発明の第二の実施例を示す側面図、第５図は
茅三の実施例を示す側面図、第６図は従来のプリント基
板検査装置を示す側面図である。 １・・・プリント基板 ２・・配線面 ３・・・基 材 ５・・・光 源 ７・・・励起光透過フィルタ ８・・・ダイクロインクミラー ９・・・蛍光透過フィルタ １０・・・結像レンズ １１・・・受光器 １２・・・励起光 １６・・・蛍 光 １７・・・支 軸 １８．２０・・・プーリ １９・・・駆動モータ ２１・・・ベルト θ・・・入射角 出願人 日立電子エンジニアリング株式会社ｍｔ図 第３図 第４図
Claims (1)
- プリント基板の配線面に光を照射する光源と、この光
源から発した光のうち蛍光励起能力の大きい波長の光を
選別する励起光透過フィルタと、上記プリント基板の基
材から発生する蛍光のみを透過させる蛍光透過フィルタ
と、この蛍光透過フィルタを透過した光を結像させる結
像レンズと、この結像レンズで結像された光を検出する
受光器とを有するプリント基板検査装置において、上記
励起光透過フィルタまたは蛍光透過フィルタのいずれか
一方または両方を干渉フィルタとすると共に、その干渉
フィルタを回動可能として光の入射角を可変としたこと
を特徴とするプリント基板検査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11255986A JPS62269048A (ja) | 1986-05-19 | 1986-05-19 | プリント基板検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11255986A JPS62269048A (ja) | 1986-05-19 | 1986-05-19 | プリント基板検査装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62269048A true JPS62269048A (ja) | 1987-11-21 |
Family
ID=14589703
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11255986A Pending JPS62269048A (ja) | 1986-05-19 | 1986-05-19 | プリント基板検査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62269048A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5442438A (en) * | 1988-12-22 | 1995-08-15 | Renishaw Plc | Spectroscopic apparatus and methods |
| US5510894A (en) * | 1988-12-22 | 1996-04-23 | Renishaw Plc | Spectroscopic apparatus and methods |
| US5578833A (en) * | 1991-10-01 | 1996-11-26 | Tadahiro Ohmi | Analyzer |
| JP2006292487A (ja) * | 2005-04-08 | 2006-10-26 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | ムラ検査装置およびムラ検査方法 |
| US8179526B2 (en) | 2007-01-25 | 2012-05-15 | Renishaw Plc | Spectroscopic apparatus with dispersive device for collecting sample data in synchronism with relative movement of a focus |
| US8305571B2 (en) | 2007-05-03 | 2012-11-06 | Renishaw Plc | Spectroscopic apparatus and methods |
| JP2018105664A (ja) * | 2016-12-26 | 2018-07-05 | 新電子株式会社 | コーティングの検査方法およびその装置 |
| WO2019179083A1 (zh) * | 2018-03-19 | 2019-09-26 | 华南理工大学 | 一种高效检测大面积微细电子器件的方法 |
-
1986
- 1986-05-19 JP JP11255986A patent/JPS62269048A/ja active Pending
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5442438A (en) * | 1988-12-22 | 1995-08-15 | Renishaw Plc | Spectroscopic apparatus and methods |
| US5510894A (en) * | 1988-12-22 | 1996-04-23 | Renishaw Plc | Spectroscopic apparatus and methods |
| US5689333A (en) * | 1988-12-22 | 1997-11-18 | Renishaw Plc | Spectroscopic apparatus and methods |
| US5578833A (en) * | 1991-10-01 | 1996-11-26 | Tadahiro Ohmi | Analyzer |
| JP2006292487A (ja) * | 2005-04-08 | 2006-10-26 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | ムラ検査装置およびムラ検査方法 |
| US8179526B2 (en) | 2007-01-25 | 2012-05-15 | Renishaw Plc | Spectroscopic apparatus with dispersive device for collecting sample data in synchronism with relative movement of a focus |
| US8305571B2 (en) | 2007-05-03 | 2012-11-06 | Renishaw Plc | Spectroscopic apparatus and methods |
| JP2018105664A (ja) * | 2016-12-26 | 2018-07-05 | 新電子株式会社 | コーティングの検査方法およびその装置 |
| WO2019179083A1 (zh) * | 2018-03-19 | 2019-09-26 | 华南理工大学 | 一种高效检测大面积微细电子器件的方法 |
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