JP4883056B2 - 面位置検出装置、露光装置、および露光方法 - Google Patents
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Description
前記第1反射面および前記第2反射面を通過した光束の偏光成分による相対的な位置ずれを補償するための位置ずれ補償部材を備え、
前記位置ずれ補償部材は、
前記第1反射面と前記第2反射面との間の光路中に配置されて、入射光線の偏光方向を変化させるための位相部材をさらに備えていることを特徴とする面位置検出装置を提供する。
前記投射系は、第1反射面を備え、
前記受光系は、第2反射面を備え、
前記投射系の前記第1反射面および前記受光系の前記第2反射面を通過した光束の偏光成分による相対的な位置ずれを補償するために入射光線の偏光方向を変化させるための位相部材をさらに備えていることを特徴とする面位置検出装置を提供する。
前記所定のパターン面または前記感光性基板の被露光面の前記投影光学系に対する面位置を、前記被検面の面位置として検出するための第1形態または第2形態の面位置検出装置と、
前記面位置検出装置の検出結果に基づいて、前記所定のパターン面または前記感光性基板の被露光面を前記投影光学系に対して位置合わせするための位置合わせ手段とを備えていることを特徴とする露光装置を提供する。
第1形態または第2形態の面位置検出装置を用いて、前記所定のパターン面または前記感光性基板の被露光面の前記投影光学系に対する面位置を、前記被検面の面位置として検出する検出工程と、
前記検出工程での検出結果に基づいて、前記所定のパターン面または前記感光性基板の被露光面を前記投影光学系に対して位置合わせする位置合わせ工程とを含むことを特徴とする露光方法を提供する。
第1形態または第2形態の面位置検出装置を用いて、前記所定のパターン面または前記感光性基板の被露光面の前記投影光学系に対する面位置を、前記被検面の面位置として検出する検出工程と、
前記検出工程での検出結果に基づいて、前記所定のパターン面または前記感光性基板の被露光面を前記投影光学系に対して位置合わせする位置合わせ工程と、
前記露光工程を経た前記感光性基板を現像する現像工程とを含むことを特徴とするデバイス製造方法を提供する。
2 コンデンサーレンズ
3 偏向プリズム
4,5 投射光学系
6,9 ペンタプリズム
7,8 ひし形プリズム
10,11 集光光学系
12 振動ミラー
13 アオリ補正プリズム
14a、14b リレー光学系
15 受光部
16 ミラー駆動部
17 位置検出部
18 補正量算出部
19 ノマルスキープリズム(第1補償素子)
20 ビームディスプレーサー(第2補償素子)
21 ウェハホルダ
22 ホルダ保持機構
23 ホルダ駆動部
31 1/2波長板(位相部材)
32,33 偏光解消素子
IL 照明系
R レチクル
RH レチクルホルダ
PL 投影光学系
W ウェハ
Claims (8)
- 第1反射面を介して被検面上に斜め方向から光束を投射する投射系と、前記被検面で反射された光束を第2反射面を介して受光する受光系とを備え、該受光系の出力に基づいて前記被検面の面位置を検出する面位置検出装置において、
前記第1反射面および前記第2反射面を通過した光束の偏光成分による相対的な位置ずれを補償するための位置ずれ補償部材を備え、
前記位置ずれ補償部材は、前記第1反射面と前記第2反射面との間の光路中に配置されて、入射光線の偏光方向を変化させるための位相部材を含むことを特徴とする面位置検出装置。 - 前記位相部材は、1/2波長板またはファラデーローテーターを有することを特徴とする請求項1に記載の面位置検出装置。
- 前記投射系は、前記被検面上に所定パターンの一次像を形成するための投射光学系を有し、
前記受光系は、前記被検面で反射された光束を集光して前記所定パターンの二次像を形成するための集光光学系と、該集光光学系を介して形成される前記所定パターンの二次像を検出するための検出部とを有し、
前記検出部の出力に基づいて前記被検面の面位置を検出することを特徴とする請求項1または2に記載の面位置検出装置。 - 前記投射系は、前記第1反射面とほぼ平行に位置決めされた第3反射面を備え、
前記受光系は、前記第2反射面とほぼ平行に位置決めされた第4反射面を備えていることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の面位置検出装置。 - 前記投射系は、入射光束の光路をほぼ平行移動させるための2以上の内面反射面を含む投射側プリズム部材を備え、
前記受光系は入射光束の光路をほぼ平行移動させるための2以上の内面反射面を含む受光側プリズム部材を備え、
前記投射側プリズム部材は前記第1反射面を含み、
前記受光側プリズム部材は前記第2反射面を含んでいることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の面位置検出装置。 - 投影光学系を介して所定のパターンを感光性基板上へ投影露光する露光装置において、
前記所定のパターン面または前記感光性基板の被露光面の前記投影光学系に対する面位置を、前記被検面の面位置として検出するための請求項1乃至5のいずれか1項に記載の面位置検出装置と、
前記面位置検出装置の検出結果に基づいて、前記所定のパターン面または前記感光性基板の被露光面を前記投影光学系に対して位置合わせするための位置合わせ手段とを備えていることを特徴とする露光装置。 - 投影光学系を介して所定のパターンを感光性基板上へ投影露光する露光方法において、
請求項1乃至5のいずれか1項に記載の面位置検出装置を用いて、前記所定のパターン面または前記感光性基板の被露光面の前記投影光学系に対する面位置を、前記被検面の面位置として検出する検出工程と、
前記検出工程での検出結果に基づいて、前記所定のパターン面または前記感光性基板の被露光面を前記投影光学系に対して位置合わせする位置合わせ工程とを含むことを特徴とする露光方法。 - 投影光学系を介して所定パターンを感光性基板上に投影露光する露光工程と、
請求項1乃至5のいずれか1項に記載の面位置検出装置を用いて、前記所定のパターン面または前記感光性基板の被露光面の前記投影光学系に対する面位置を、前記被検面の面位置として検出する検出工程と、
前記検出工程での検出結果に基づいて、前記所定のパターン面または前記感光性基板の被露光面を前記投影光学系に対して位置合わせする位置合わせ工程と、
前記露光工程を経た前記感光性基板を現像する現像工程とを含むことを特徴とするデバイス製造方法。
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