JP6066627B2 - 位置検出装置、およびそれを用いたリソグラフィー装置並びにデバイスの製造方法 - Google Patents
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Description
屈折率が1.0より小さく、かつ、消衰係数が0.0より大きい物質と、屈折率が1.0より大きく、かつ、消衰係数が0.5より大きい物質の少なくとも一方の物質を含む。
屈折率n < 1.0 かつ 消衰係数k ≧ 0.0
または、屈折率n ≧ 1.0 かつ 消衰係数k ≧ 0.5
となる性質を有する反射部材22を備える。図6は、裏面に反射部材22を備えた場合の反射ミラー15に入射および反射ミラー15から反射する光束の、XZ断面の光路図を示す。
実施形態に係る物品の製造方法は、例えば、半導体デバイス等のマイクロデバイスや微細構造を有する素子等の物品を製造するのに好適である。該製造方法は、物体(例えば、感光材を表面に有する基板)上に上記のリソグラフィー装置を用いてパターン(例えば潜像パターン)を形成する工程と、当該工程でパターンを形成された物体を処理する工程(例えば、現像工程)とを含みうる。さらに、該製造方法は、他の周知の工程(酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等)を含みうる。本実施形態の物品の製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能・品質・生産性・生産コストの少なくとも1つにおいて有利である。
13 第2レンズ群
17 第1レンズ群
15 反射ミラー
22 反射部材
Claims (10)
- マークを検出するための光学系を有するマーク検出装置であって、
前記光学系は、
前記マークからの光が屈折する正の屈折力を有するレンズと、
前記マークからの光が内部を通る透明な部材のある面を反射面として前記マークからの光を反射する反射部とを備え、
前記マークからの光が収束状態または発散状態で前記反射面に入射する光学系であって、
前記反射部は前記反射面に反射部材を備え、前記反射部材は、
屈折率が1.0より小さく、かつ、消衰係数が0.0より大きい物質と、
屈折率が1.0より大きく、かつ、消衰係数が0.5より大きい物質の少なくとも一方の物質を含むことを特徴とするマーク検出装置。 - 前記物質は、Ag、Al、Cu、またはAuを含む、請求項1に記載のマーク検出装置。
- 前記レンズは、前記マーク側から順に、正の屈折力を有する第1レンズ群と、第2レンズ群を有し、該第1レンズ群と、第2レンズ群の間に前記反射部が設けてあることを特徴とする請求項1に記載のマーク検出装置。
- 前記反射面は、前記光に含まれる互いに前記反射面に入射する角度が異なる光線を反射することを特徴とする、請求項1乃至3のいずれか1項に記載のマーク検出装置。
- 前記反射部材がない前記反射面に入射する前記光に含まれる光線の入射角度の違いによる反射位相の差よりも、前記反射部材を備える前記反射面に入射する前記光に含まれる光線の入射角度の違いによる反射位相の差が小さいことを特徴とする、請求項1乃至4のいずれか1項に記載のマーク検出装置。
- 前記反射面に対する前記光学系の光軸の角度は、45度であることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載のマーク検出装置。
- 前記マークからの光を検出する検出素子を備え、
前記反射部材がない前記反射面で反射した光が、前記検出素子で検出される前記マークからの信号の非対称性よりも、前記反射部材を備える前記反射面で反射した光が、前記検出素子で検出される前記マークからの信号の非対称性が低減されることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載のマーク検出装置。 - 前記反射部は、前記マークからの光が入射する入射面と、前記反射面と、前記入射面から入射し前記反射面で反射した光が射出する射出面からなり、断面形状が三角形状であることを特徴とする請求項1乃至7のいずれか1項に記載のマーク検出装置。
- 原版に形成されたパターンを基板に転写するリソグラフィー装置であって、
前記基板を保持し、移動可能である基板保持部と、
前記基板保持部に保持されている前記基板に形成されているマークを検出するマーク検出装置とを備え、
前記マーク検出装置は、請求項1乃至8のいずれか1項に記載のマーク検出装置であることを特徴とするリソグラフィー装置。 - 請求項9に記載のリソグラフィー装置を用いたデバイスの製造方法であって、
前記リソグラフィー装置を使用してパターンを基板に転写する工程と、
転写された基板を現像する工程と、
を備えることを特徴とするデバイスの製造方法。
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