JP4879511B2 - リソグラフィのための装置および方法 - Google Patents
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Description
向かい合った表面を有する第1の主要部分および第2の主要部分と、
前記主要部分間の間隔を調節するための手段と、
前記テンプレートおよび前記基板をお互いに平行に係合した状態で前記間隔内に支持するための支持手段であり、前記構造化された表面が、前記表面層に面する、前記支持手段と、
前記間隔内に放射線を放射するように工夫された放射線源と、
前記テンプレートまたは前記基板と係合するように工夫された可撓性隔膜からなる第1の壁を有し、前記第1の主要部の部分で定義される空洞と、
前記第1の主要部表面と前記可撓性隔膜の内部に配置されると共にはみ出して前記第1の主要部と前記可撓性隔膜を取り囲む密封部材であって、前記隔膜は接着剤により、あるいは前記密封部材に一体化されることにより前記密封部材と係合し、および/または前記第2の主要部表面からの逆圧力を適用するようにされた密封部材と、
調節可能な超過圧力を前記空洞内に存在する媒体に加えるための手段と、
前記間隔に面した表面を有するヒーター装置とを備え、
前記第1および第2の主要部が係合し、前記空洞が密封されたとき、前記可撓性隔膜は前記密封部材と前記第2の主要部表面との間にクランプされ、
前記隔膜が、所定の波長範囲にある前記放射線を透過し、前記放射線源が、前記隔膜の背後に配置され、
前記ヒーター装置が、エネルギー源に接続された加熱エレメントを備え、かつ、冷却源に接続された冷却エレメントを備えた、装置により達成される。
請求項1に記載のインプリント装置内に、前記テンプレートおよび前記基板を、構造化された表面が表面層に面するように、前記第2の主要部と可撓性隔膜の第1の面との間において、互いに平行に配置するステップと、
前記テンプレートまたは前記基板と直接に係合した状態で前記隔膜を配置するステップと、
前記隔膜の周辺部分において前記隔膜を前記第2の主要部と密封部材との間にクランプし、それによって、媒体のための空洞の周壁を規定するステップと、
前記インプリント装置内の、冷却源に接続された冷却エレメントを備えたヒーター装置によって前記表面層を加熱するステップと、
前記パターンを前記表面層にインプリントするために、超過圧力を前記隔膜の第1の面の反対側にある前記隔膜の第2の面に存在する前記媒体に加えるステップと、
前記表面層から気泡を抜き取るために、前記テンプレートと前記基板との間に負圧をかけるステップと、
前記表面層を凝固させるために、前記表面層を放射線に暴露するステップと、
前記表面層を放射線に暴露するステップの後に、前記ヒーター装置から熱を提供することによって前記表面層をベーキングするステップと、
を含む方法により達成される。
上記層を放射線に暴露する上記ステップの後に、上記ヒータ装置から熱を提供することによって上記層をベーキングするステップ、
をさらに含む。
上記テンプレートを介して上記層に放射線を放射するステップであり、上記テンプレートは、上記流体を重合させるのに使用できる所定の波長範囲にある放射線を透過する、上記放射するステップと、
上記ヒータ装置と直接に接触することによって上記基板を加熱するステップと、
を含む。
上記基板を介して上記層に放射線を放射するステップであり、上記基板は、上記流体を重合させるのに使用できる所定の波長範囲にある放射線を透過する、上記放射するステップと、
上記ヒータ装置と直接に接触することによって上記テンプレートを加熱するステップと、
を含んでもよい。
上記膜を介して上記層に放射線を放射するステップであり、上記膜は、上記流体を重合させるのに使用できる所定の波長範囲にある放射線を透過する、上記放射するステップ、
を含む。
上記膜と、上記媒体のための空洞の後壁を規定する上記膜と向かい合った透明な壁とを介して、上記層に放射線を放射するステップであり、上記後壁および上記膜が、上記流体を重合させるのに使用できる所定の波長範囲にある放射線を透過する、上記放射するステップ、
を含む。
100〜500nmの波長範囲内にある放射線を放射線源から放射するステップ、
を含む。
上記放射線源を空気冷却し、かつ、0.5〜10μsの範囲にあるパルス幅および1〜10パルス/秒の範囲にあるパルスレートを備えたパルス放射線を放射するステップ、
を含む。
上記基板を上記膜として使用するステップ、
を含む。
上記テンプレートおよび上記基板を上記停止部材と上記可撓性膜との間に配置する前に、上記基板と上記テンプレートとを互いにクランプするステップ、
を含む。
請求項1に記載のインプリント装置内に前記テンプレートおよび前記基板をお互いに平行に配置するステップであり、前記第2の主要部と可撓性隔膜の第1の面との間において、前記構造化された表面が、前記表面層に面する、前記配置するステップと、
前記インプリント装置内のヒーター装置によって前記表面層を加熱するステップと、
前記パターンを前記層にインプリントするために、超過圧力を前記第1の面の反対側にある隔膜の第2の面に存在する媒体に加えるステップと、
前記表面層から気泡を抜き取るために、前記テンプレートと前記基板との間に負圧をかけるステップと、
前記表面層の前記凸部間にある部分を凝固させるために、前記表面層を放射線に暴露するステップと、
前記表面層を放射線に暴露する前記ステップの後に、前記ヒーター装置から熱を提供することによって前記表面層をベーキングするステップ、
をさらに含む方法により達成される。
上記層を放射線に暴露する上記ステップの後に、上記ヒータ装置から熱を提供することによって上記層をベーキングするステップ、
をさらに含む。
Claims (24)
- 構造化された表面を有するテンプレートから放射線重合可能流体からなる表面層を備えた基板にパターンを転写するための装置であって、
向かい合った表面を有する第1の主要部分および第2の主要部分と、
前記主要部分間の間隔を調節するための手段と、
前記テンプレートおよび前記基板をお互いに平行に係合した状態で前記間隔内に支持するための支持手段であり、前記構造化された表面が、前記表面層に面する、前記支持手段と、
前記間隔内に放射線を放射するように工夫された放射線源と、
前記テンプレートまたは前記基板と係合するように工夫された可撓性隔膜からなる第1の壁を有し、前記第1の主要部の部分で定義される空洞と、
前記第1の主要部表面と前記可撓性隔膜の内部に配置されると共にはみ出して前記第1の主要部と前記可撓性隔膜を取り囲む密封部材であって、前記隔膜は接着剤により、あるいは前記密封部材に一体化されることにより前記密封部材と係合し、および/または前記第2の主要部表面からの逆圧力を適用するようにされた密封部材と、
調節可能な超過圧力を前記空洞内に存在する媒体に加えるための手段と、
前記間隔に面した表面を有するヒーター装置とを備え、
前記第1および第2の主要部が係合し、前記空洞が密封されたとき、前記可撓性隔膜は前記密封部材と前記第2の主要部表面との間にクランプされ、
前記隔膜が、所定の波長範囲にある前記放射線を透過し、前記放射線源が、前記隔膜の背後に配置され、
前記ヒーター装置が、エネルギー源に接続された加熱エレメントを備え、かつ、冷却源に接続された冷却エレメントを備えた、装置。 - 前記放射線源が、前記第1の主要部分内に配置され、第1の方向から前記間隔内に放射線を放射するように工夫され、前記ヒーター装置が、前記第2の主要部分内に配置され、前記第1の方向と反対の第2の方向から前記間隔へ向けられたヒーター装置の前記表面を有する、請求項1に記載の装置。
- 前記媒体が、気体からなる請求項1または2に記載の装置。
- 前記媒体が、空気からなる請求項1または2に記載の装置。
- 調節可能な超過圧力を加えるための前記手段が、圧力を1〜500バールに調節するように構成された、請求項1から4のいずれか一項に記載の装置。
- 前記隔膜が、前記密封部材から分離可能であり、かつ、前記第2の主要部分から圧力を加えることによって前記密封部材に係合するように工夫された、請求項1から4のいずれか一項に記載の装置。
- 前記隔膜、および、前記第1の主要部分の前記表面の少なくとも一部分が、所定の波長範囲にある前記放射線を透過し、前記放射線源が、前記第1の主要部分の前記表面の前記一部分の背後に配置された、請求項1に記載の装置。
- 前記第1の主要部分の前記表面の前記一部分が、石英、フッ化カルシウム、または、前記放射線を透過するその他の何らかの圧力安定材料から製造された、請求項1に記載の装置。
- 前記放射線源が、100〜500nmの波長範囲内に少なくとも存在する放射線を放射するように工夫された、請求項1または2に記載の装置。
- 前記放射線源が、0.5〜10μsのパルス幅および1〜10パルス/秒のパルスレートを備えたパルス放射線を放射するように工夫された、請求項1、2、9のいずれか一項に記載の装置。
- 前記隔膜が、ポリマー材料から製造された、請求項1、5、7のいずれか一項に記載の装置。
- 前記隔膜が、50〜1000mmの直径または幅を有する、請求項1、5、7,11のいずれか一項に記載の装置。
- 前記基板が、前記隔膜の役割をなす、請求項1から12のいずれか一項に記載の装置。
- 構造化された表面を有するテンプレートから、放射線重合可能流体からなる表面層を備えた基板にパターンを転写するための方法であって、
請求項1に記載のインプリント装置内に、前記テンプレートおよび前記基板を、構造化された表面が表面層に面するように、前記第2の主要部と可撓性隔膜の第1の面との間において、互いに平行に配置するステップと、
前記テンプレートまたは前記基板と直接に係合した状態で前記隔膜を配置するステップと、
前記隔膜の周辺部分において前記隔膜を前記第2の主要部と密封部材との間にクランプし、それによって、媒体のための空洞の周壁を規定するステップと、
前記インプリント装置内の、冷却源に接続された冷却エレメントを備えたヒーター装置によって前記表面層を加熱するステップと、
前記パターンを前記表面層にインプリントするために、超過圧力を前記隔膜の第1の面の反対側にある前記隔膜の第2の面に存在する前記媒体に加えるステップと、
前記表面層から気泡を抜き取るために、前記テンプレートと前記基板との間に負圧をかけるステップと、
前記表面層を凝固させるために、前記表面層を放射線に暴露するステップと、
前記表面層を放射線に暴露するステップの後に、前記ヒーター装置から熱を提供することによって前記表面層をベーキングするステップと、
を含む方法。 - 前記媒体が、気体からなる請求項14に記載の方法。
- 前記媒体が、空気からなる請求項14に記載の方法。
- 前記テンプレートを介して前記表面層に放射線を放射するステップであり、前記テンプレートが、前記流体を重合させるのに使用できる所定の波長範囲にある放射線を透過する、前記放射するステップと、
前記ヒーター装置と直接に接触することによって前記基板を加熱するステップと、
を含む、請求項14に記載の方法。 - 前記基板を介して前記層に放射線を放射するステップであり、前記基板が、前記流体を重合させるのに使用できる所定の波長範囲にある放射線を透過する、前記放射するステップと、
前記ヒーター装置と直接に接触することによって前記テンプレートを加熱するステップと、
を含む、請求項14に記載の方法。 - 前記隔膜を介して前記表面層に放射線を放射するステップであり、前記隔膜が、前記流体を重合させるのに使用できる所定の波長範囲にある放射線を透過する、前記放射するステップ、
を含む、請求項14、17、18のいずれか一項に記載の方法。 - 前記隔膜と、前記媒体のための空洞の後壁を規定する前記隔膜と向かい合った透明な壁とを介して、前記層に放射線を放射するステップであり、前記後壁および前記隔膜が、前記流体を重合させるのに使用できる所定の波長範囲にある放射線を透過する、前記放射するステップ、
を含む、請求項14、17から19のいずれか一項に記載の方法。 - 前記表面層を放射線に暴露するステップが、
100〜500nmの波長範囲内にある放射線を放射線源から放射するステップ、
を含む、請求項14から20のいずれか一項に記載の方法。 - 0.5〜10μsの範囲にあるパルス幅および1〜10パルス/秒の範囲にあるパルスレートを備えたパルス放射線を放射するステップ、
を含む、請求項21に記載の方法。 - 前記テンプレートおよび前記基板を前記停止部材と前記可撓性隔膜との間に配置する前に、前記基板と前記テンプレートとをお互いにクランプするステップ、
を含む、請求項14に記載の方法。 - テンプレートが、パターンを規定する凸部を含み、前記凸部が、その外端に、不透明層を有する、構造化された表面を有する前記テンプレートから放射線重合可能流体からなる表面層を備えた請求項14に記載の基板にパターンを転写するための方法であって、
請求項1に記載のインプリント装置内に前記テンプレートおよび前記基板をお互いに平行に配置するステップであり、前記第2の主要部と可撓性隔膜の第1の面との間において、前記構造化された表面が、前記表面層に面する、前記配置するステップと、
前記インプリント装置内のヒーター装置によって前記表面層を加熱するステップと、
前記パターンを前記層にインプリントするために、超過圧力を前記第1の面の反対側にある隔膜の第2の面に存在する媒体に加えるステップと、
前記表面層から気泡を抜き取るために、前記テンプレートと前記基板との間に負圧をかけるステップと、
前記表面層の前記凸部間にある部分を凝固させるために、前記表面層を放射線に暴露するステップと、
前記表面層を放射線に暴露する前記ステップの後に、前記ヒーター装置から熱を提供することによって前記表面層をベーキングするステップ、
をさらに含む方法。
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