JP4875531B2 - イオンビーム照射装置 - Google Patents
イオンビーム照射装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4875531B2 JP4875531B2 JP2007096138A JP2007096138A JP4875531B2 JP 4875531 B2 JP4875531 B2 JP 4875531B2 JP 2007096138 A JP2007096138 A JP 2007096138A JP 2007096138 A JP2007096138 A JP 2007096138A JP 4875531 B2 JP4875531 B2 JP 4875531B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ion beam
- capillary
- sample
- beam irradiation
- tip
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Description
本発明に係るイオンビーム照射装置は、試料にイオンビームを照射して、前記試料から放射される放射エネルギーを検出するイオンビーム照射装置であって、基端部から先端部に向かって先細となるように形成されて、その内周面側に到達した前記イオンビームを集光させるキャピラリーと、前記キャピラリーの外周面側および先端側を取り囲むとともに、前記試料と当接させられる先端が、前記キャピラリーの先端から前記試料の側に向かって所定距離離間するように構成されたキャピラリーガイドとを備えている。
また、キャピラリーガイドの先端とキャピラリーの先端とが、所定距離(例えば、1μm)離間するように構成されているので、キャピラリーガイドの先端を試料の表面に当接させる(押し付ける)だけでキャピラリーの先端と試料の表面との距離を知る(規定する)ことができて、より正確な分析を行うことができる。
図1は本実施形態に係るイオンビーム照射装置の要部概略構成図であり、図2は図1の要部拡大断面図である。
なお、7Liイオンビームを用いると水素の分布が分かり、15Nイオンビームを用いると重水素の分布が分かる。
また、キャピラリーガイド6の先端とキャピラリー5の先端とが、所定距離(例えば、1μm)L離間するように構成されているので、キャピラリーガイド6の先端を試料8の表面に当接させる(押し付ける)だけでキャピラリー5の先端と試料8の表面との距離を知る(規定する)ことができて、より正確な分析を行うことができる。
図3は、本発明の第2実施形態に係るイオンビーム照射装置の要部拡大断面図であり、図2と同様の図である。
本実施形態に係るイオンビーム照射装置21は、キャピラリー5とキャピラリーガイド6との間に形成された空間S内に、ヘリウム(He)ガスGを供給するガス供給手段22が設けられているという点で上述した第1実施形態のものと異なる。その他の構成要素については上述した第1実施形態のものと同じであるので、ここではそれら構成要素についての説明は省略する。
なお、上述した第1実施形態と同一の部材には同一の符号を付している。
その他の作用効果は、上述した第1実施形態のものと同じであるので、ここではその説明を省略する。
図4は、本発明の第3実施形態に係るイオンビーム照射装置の要部拡大断面図であり、図2および図3と同様の図である。
本実施形態に係るイオンビーム照射装置31は、キャピラリーガイド6に可視光導入窓(レーザー光導入窓)32が設けられているという点で上述した第1実施形態のものと異なる。その他の構成要素については上述した第1実施形態のものと同じであるので、ここではそれら構成要素についての説明は省略する。
なお、上述した第1実施形態と同一の部材には同一の符号を付している。
図5は、本発明の第4実施形態に係るイオンビーム照射装置の要部拡大断面図であり、図2から図4と同様の図である。
本実施形態に係るイオンビーム照射装置41は、上述した第2実施形態と第3実施形態とを組み合わせたものである。
また、キャピラリーガイド6の先端とキャピラリー5の先端とが、所定距離(例えば、1μm)L離間するように構成されているので、キャピラリーガイド6の先端を試料8の表面に当接させる(押し付ける)だけでキャピラリー5の先端と試料8の表面との距離を知る(規定する)ことができて、より正確な分析を行うことができる。
さらにまた、試料8の表面上に照射された可視光Laの位置と、試料8の表面に照射されるイオンビーム7の位置とが同じ(略同じ)とされ、試料8の表面に照射された可視光Laの位置にイオンビーム7が照射されることとなるので、イオンビーム7を試料8の所望位置に容易に照射することができ、分析作業の効率化を図ることができる。
図6は、本発明の第5実施形態に係るイオンビーム照射装置の要部拡大断面図であり、図2から図5と同様の図である。
本実施形態に係るイオンビーム照射装置51は、キャピラリーガイド6の先端と試料8の表面との当接を視覚的または聴覚的に知らせる(報知する)報知手段52が設けられているという点で上述した第4実施形態のものと異なる。その他の構成要素については上述した第4実施形態のものと同じであるので、ここではそれら構成要素についての説明は省略する。
なお、上述した第4実施形態と同一の部材には同一の符号を付している。
その他の作用効果は、上述した第4実施形態のものと同じであるので、ここではその説明を省略する。
また、キャピラリー5とキャピラリーガイド6との間に形成された空間S内に供給されるガスは、上述した実施形態ではヘリウムガスを用いているが、本発明はこれに限定されるものではなく、その他のガス(例えば、窒素ガス)を用いることもできる。
5 キャピラリー
6 キャピラリーガイド
7 イオンビーム
8 試料
21 イオンビーム照射装置
22 ガス供給手段
31 イオンビーム照射装置
32 可視光導入窓
41 イオンビーム照射装置
51 イオンビーム照射装置
52 報知手段
G ヘリウムガス
La 可視光
S 空間
Claims (4)
- 試料にイオンビームを照射して、前記試料から放射される放射エネルギーを検出するイオンビーム照射装置であって、
基端部から先端部に向かって先細となるように形成されて、その内周面側に到達した前記イオンビームを集光させるキャピラリーと、
前記キャピラリーの外周面側および先端側を取り囲むとともに、前記試料と当接させられる先端が、前記キャピラリーの先端から前記試料の側に向かって所定距離離間するように構成されたキャピラリーガイドとを備えていることを特徴とするイオンビーム照射装置。 - 前記キャピラリーと前記キャピラリーガイドとの間に形成された空間内に、ヘリウムガスを供給するガス供給手段が設けられていることを特徴とする請求項1に記載のイオンビーム照射装置。
- 前記キャピラリーガイドに可視光導入窓が設けられており、前記可視光導入窓を通して前記キャピラリーと前記キャピラリーガイドとの間に形成された空間内に可視光が入射させられ、前記キャピラリーガイド内で反射させられた後、前記キャピラリーガイドの先端から前記試料の表面に向けて前記可視光が照射されるように構成されていることを特徴とする請求項1または2に記載のイオンビーム照射装置。
- 前記キャピラリーガイドの先端と前記試料の表面との当接を視覚的または聴覚的に知らせる報知手段が設けられていることを特徴とする請求項1から3のいずれか一項に記載のイオンビーム照射装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007096138A JP4875531B2 (ja) | 2007-04-02 | 2007-04-02 | イオンビーム照射装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007096138A JP4875531B2 (ja) | 2007-04-02 | 2007-04-02 | イオンビーム照射装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008256388A JP2008256388A (ja) | 2008-10-23 |
JP4875531B2 true JP4875531B2 (ja) | 2012-02-15 |
Family
ID=39980108
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007096138A Expired - Fee Related JP4875531B2 (ja) | 2007-04-02 | 2007-04-02 | イオンビーム照射装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4875531B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5422327B2 (ja) * | 2009-09-30 | 2014-02-19 | 三菱重工業株式会社 | 金属キャピラリー製造装置、金属キャピラリー製造方法及び金属キャピラリー、並びに金属キャピラリーを備えたイオンビーム照射装置 |
JP2013020918A (ja) * | 2011-07-14 | 2013-01-31 | Hitachi High-Technologies Corp | 荷電粒子線装置 |
-
2007
- 2007-04-02 JP JP2007096138A patent/JP4875531B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2008256388A (ja) | 2008-10-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP0781992B1 (en) | Fluorescence X-ray analyzer | |
JP5712564B2 (ja) | ウィルス検出装置及びウィルス検出方法 | |
US9418767B2 (en) | X-ray focusing device | |
WO2004111624A3 (en) | Method and apparatus for implementing xanes analysis | |
JP4571892B2 (ja) | 高分子試料分析装置 | |
JP2005529341A5 (ja) | ||
MX2010009713A (es) | Sistema xrf teniendo bandas de energia de excitacion multiples en un paquete altamente alineado. | |
JP4875531B2 (ja) | イオンビーム照射装置 | |
AU2005233722B2 (en) | Device for the analysis of elements | |
JP5962855B2 (ja) | 蛍光x線分析装置 | |
KR20200046291A (ko) | 전자빔을 이용한 대기정화용 반응장치 및 이를 포함하는 대기정화장치 | |
JP5102549B2 (ja) | X線分析装置及びx線分析方法 | |
CN101258559A (zh) | X射线透镜组件及结合所述组件的x射线装置 | |
EP2116842B1 (en) | An X-ray fluorescence analyzer with gas-filled chamber | |
JP2009037910A5 (ja) | ||
JP2009300167A (ja) | アウトガス捕集装置および捕集方法 | |
JP3724424B2 (ja) | 蛍光x線分析装置 | |
JP4660799B2 (ja) | 高分子試料分析装置 | |
JP4937729B2 (ja) | 電子線・x線源装置およびエアロゾル分析装置 | |
US6590955B2 (en) | Open chamber-type X-ray analysis apparatus | |
CN101283413A (zh) | 屏蔽x-射线的装置和装入所述装置的x-射线设备 | |
JP2013175376A (ja) | 荷電粒子線装置及び荷電粒子線照射方法 | |
JP2011185739A (ja) | ナトリウム漏えい検出器、ナトリウム漏えい検出システムおよびナトリウム漏えい検出方法 | |
JP3958299B2 (ja) | イオンビーム分析装置 | |
JPH0815187A (ja) | 蛍光x線分析装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20091008 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20111028 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20111108 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20111125 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141202 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141202 Year of fee payment: 3 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |