JP4873726B2 - 酸化亜鉛薄膜の形成方法 - Google Patents
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)2などの有機金属ガスを用いることや、VI族源としてH2O、t−BuOH(ターシャリーブタノール)、i−PrOH(イソプロパノール)などの還元的性質を持つガスを原料とするMOCVD−ZnO薄膜の成長が試みられてきた(たとえば非特許文献1−2参照)が、それでも原子レベルで平坦で高品質なZnO薄膜を得ることは困難であった。
J.Crys.Growth 283,87(2005) Phys.Stat.Sol.(b)229,841(2002)
T1<T2
(T1は原料ガス供給時の温度、T2は原料ガスの供給停止時の温度)
の変更と連動させる。
ジアルキル亜鉛/O2として1/500〜1/5
とすることが考慮される。また、容量比としては、
ジアルキル亜鉛/O2=0.5〜300
キャリアガス中の水素ガス/ジアルキル亜鉛=5〜40
水素ガス(全体)/O2=50〜8000
の範囲が好適なものとして考慮される。
、基板上を通過した原料ガスはガスフローチャンネルに沿って排出されて再度基板まで還流しないようにすること等が考慮される。
T1<T2
(T1は原料ガス供給時の温度、T2は原料ガスの供給停止時の温度)
の変更と連動させることが有効でもある。
その上層の水素(H2)ガス(300sccm)の各々が導入されるようになっている。
そして導入されたガスは、仕切りのない基板(1)直前の領域で混ざるようになっている。
ル当りのZnO膜厚依存性を示し、図6は、ZnO薄膜の10Kで観測したフォトルミネッセンススペクトルを示している。
2 基板保持部
3 筒状体
4 直線状空間
5 レーザー光
6 ガス流通空間
7 フローチャンネル
Claims (5)
- ジアルキル亜鉛有機金属ガスと酸素との原料ガスのMOCVD(有機金属堆積法)による酸化亜鉛薄膜の成形方法であって、ジアルキル亜鉛有機金属ガスのキャリアガスとして水素含有ガスを用い、かつ、水素含有ガスからなる雰囲気形成ガスによって反応域を還元性雰囲気として、かつ、基板近傍において原料ガスと雰囲気形成ガスとが混ざるようにして、基板上に酸化亜鉛薄膜を成長させることを特徴とする酸化亜鉛薄膜の形成方法。
- 基板上を通過した原料ガスは再度基板まで還流しないようにすることを特徴とする請求項1に記載の酸化亜鉛薄膜の形成方法。
- 原料ガスを基板上に供給しながら、基板の加熱温度を変更することを特徴とする請求項1または2に記載の酸化亜鉛薄膜の形成方法。
- 原料ガスの基板上への供給とその停止の繰り返しを、基板の加熱温度の
T1<T2
(T1は原料ガス供給時の温度、T2は原料ガスの供給停止時の温度)の変更と連動させることを特徴とするとする請求項1または2に記載の酸化亜鉛薄膜の形成方法。 - レーザー源からのレーザー光の直接的照射により基板を加熱することを特徴とする請求項1から3のいずれかに記載の酸化亜鉛薄膜の形成方法。
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