JP4867643B2 - ショットキーエミッタの製造方法 - Google Patents
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Description
まず、図6に示されるように、電解エッチングの手法によりエミッタ基材2の先端を鋭くとがらせる。図6で1,2,3として順に示されているのは電解エッチングの進行状態であり、その下の拡大図は電解エッチング完了後のエミッタ基材2の先端部分である。
s
ファセッティング処理は均一なエミッション分布を得るためにエミッタ基材2の先端部に平らな(100)面を形成するためのものである。
4 加熱用フィラメント
10 引出し電極
12 サプレッサ電極
Claims (3)
- <100>方位をもつ単結晶タングステンワイアからなるエミッタ基材に対して、その先端を電解エッチングにより鋭くとがらせる工程、前記エミッタ基材を真空中で加熱して付着物を脱離除去するとともに先端表面をなめらかにする工程、その後、酸化ジルコニウムをエミッタ基材中に拡散浸透させる工程、及びその後、エミッタ基材を真空中で加熱するとともにエミッタ基材の先端部に対向して配置した引出し電極とエミッタ基材との間に電界を印加して先端部に平らな(100)面を形成するファセッティング処理工程を含むショットキーエミッタの製造方法において、
前記ファセッティング処理工程ではエミッタ基材に対して前記引出し電極側が負電位になるように前記電界を印加することを特徴とするショットキーエミッタの製造方法。 - 前記電界は、そのときの処理温度においてエミッタ基材の先端部が結晶の熱平衡状態を維持しながら熱平衡結晶形状を変化させていくことのできる速度で電界強度を大きくしていく請求項1に記載のショットキーエミッタの製造方法。
- 前記ファセッティング処理工程では、エミッタ基材の側方にエミッタ基材に対して負の電位に設定されるべきサプレッサ電極を設けない請求項1又は2に記載のショットキーエミッタの製造方法。
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