JP4866056B2 - エポキシ樹脂組成物 - Google Patents

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本発明は、流動性等の成形性、耐湿性等の信頼性に優れた半導体装置用中空パッケージ形成用のエポキシ樹脂組成物に関する。
トランジスタ、IC、LSI等の半導体素子は、大気中の水分や微細な埃等によりその特性を損なう可能性がある為、従来より、セラミックによる気密封止や樹脂封止を行った上で使用されていたが、近年は、生産性やコスト等の面から樹脂を用いた封止が主流となっており、特にエポキシ樹脂をベースとした封止用樹脂組成物が広く用いられるようになっている。エポキシ樹脂は、各種樹脂の中でも電気特性、耐湿性、耐熱性、機械特性、インサート品との接着性等の諸特性において優れたバランスを有する。
厳しい光透過性レベルが要求されるCCD、MOS等の固体撮像素子においても樹脂封止化の流れが見られ、従来のセラミックによる気密封止から、エポキシ樹脂等により中空プラスチックパッケージを成形、半導体素子を収容後、これを気密封止する方式が普及しつつある。
CCD、MOS等の固体撮像素子搭載パッケージに求められる特性の中でも、中空パッケージ内への外部からの水分の浸入を防ぎ、パッケージ内部の結露を防止すること、すなわちパッケージの耐湿性は、パッケージの正常な動作を確保する上でも最も重要な特性の一つである。
CCDやMOS等のパッケージ耐湿性を高める手法としては、シリカゲルやゼオライト等の無機系吸湿剤を樹脂組成物に特定量添加する手法(例えば特許文献1参照)、特定の性状を有するゼオライトを樹脂組成物に添加する手法(例えば特許文献2)、特定の性状を有するシリカをエポキシ樹脂組成物に添加する手法(例えば特許文献3、特許文献4参照)、特定の構造を有するエポキシ樹脂と特定の構造を有するフェノール系硬化剤からなる樹脂組成物に無機系吸湿剤を添加する手法(例えば特許文献5参照)等の報告がある。
特許第2750254号公報 特許第3410173号公報 特許第2846551号 特許第3119104号公報 特許第3022135号公報
しかしながら、吸湿性能の高い無機系吸湿剤は比較的大きな比表面積を有することが多く、充分な耐湿性を得る為にこれらを多量に添加すると、流動性等の成形性の劣化を招き易い。逆に、流動性等の劣化を避ける為に無機系吸湿剤の添加を少量にすると、今度は耐湿性の確保が困難となる。上記手法は、このジレンマを必ずしも解決できていない。
本発明はかかる状況に鑑みなされたものであり、流動性等の成形性、耐湿性等の信頼性に優れた半導体装置用中空パッケージ形成用のエポキシ樹脂組成物を提供することを課題とする。
本発明者らは、上述の課題を解決するために鋭意検討を重ねた結果、エポキシ樹脂組成物に、2種以上の無機系吸湿剤を特定量添加することによって所期の目的が達成可能となることを見出し、本発明を完成するに至った。
本発明は以下に関する。
(1)半導体装置用中空パッケージ形成用のエポキシ樹脂組成物であって、(A)成分としてエポキシ樹脂、(B)成分としてフェノール系硬化剤、(C)成分としてシリカゲル、ゼオライト、非晶質アルミノ珪酸塩より選ばれる少なくとも1種の無機系吸湿剤、さらに(D)成分として溶融シリカ、結晶シリカ、合成シリカより選ばれる少なくとも1種の無機充填剤、を含有するエポキシ樹脂組成物において、(C)成分は、平均粒径0.1μm以上4μm以下かつ比表面積100m /g以上1000m /g以下の成分(C1)と、平均粒径が5μm以上50μm以下かつ比表面積が3m /g以上50m /g以下の成分(C2)の2成分よりなり、それらを添加重量比で(C1)/(C2)=1/100〜1/3の範囲で混合し、かつ(C1)成分+(C2)成分の重量比率が組成物全体の50重量%を超えてなるエポキシ樹脂組成物。
本発明によるエポキシ樹脂組成物は、流動性等の成形性、耐湿性等の信頼性に優れている。そのため、かかる樹脂組成物を用いて中空パッケージを作製することで、CCDやMOS等の固体撮像素子を搭載した電子部品装置に高い信頼性を与えることが可能であり、その工業的価値は高い。
以下、本発明の詳細について説明する。
本発明によるエポキシ樹脂組成物は、(A)エポキシ樹脂、(B)フェノール系硬化剤、(C)無機系吸湿剤及び(D)無機充填剤を必須の成分とするが、上記(A)〜()成分以外に、必要に応じて硬化促進剤、離型剤、及びカップリング剤、難燃剤等の各種添加剤を含んでもよい。以下、本発明によるエポキシ樹脂組成物を構成する各種成分について詳細に説明する。
(A)エポキシ樹脂
本発明では、封止用エポキシ樹脂組成物に一般に用いられているエポキシ樹脂を単独または併用して用いることができる。使用可能なエポキシ樹脂を例示すれば、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂をはじめとするフェノール、クレゾール、キシレノール、レゾルシン、カテコール、ビスフェノールA、ビスフェノールF等のフェノール類及び/又はα−ナフトール、β−ナフトール、ジヒドロキシナフタレン等のナフトール類とホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、ベンズアルデヒド、サリチルアルデヒド等のアルデヒド基を有する化合物とを酸性触媒下で縮合又は共縮合させて得られるノボラック樹脂をエポキシ化したもの、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、ビスフェノールA/D等のジグリシジルエーテル、アルキル置換又は非置換のビフェノールのジグリシジルエーテルであるビフェニル型エポキシ樹脂、フェノール類及び/又はナフトール類とジメトキシパラキシレン又はビス(メトキシメチル)ビフェニルとから合成されるフェノール・アラルキル樹脂やナフトール・アラルキル樹脂、ビフェニル・アラルキル樹脂等のエポキシ化物、スチルベン型エポキシ樹脂、ハイドロキノン型エポキシ樹脂、フタル酸、ダイマー酸等の多塩基酸とエピクロルヒドリンとの反応により得られるグリシジルエステル型エポキシ樹脂、ジアミノジフェニルメタン、イソシアヌル酸等のポリアミンとエピクロルヒドリンとの反応により得られるグリシジルアミン型エポキシ樹脂、シクロペンタジエンとフェノール類との共縮合樹脂のエポキシ化物であるジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、ナフタレン環を有するエポキシ樹脂、トリフェニルメタン型エポキシ樹脂、トリメチロールプロパン型エポキシ樹脂、テルペン変性エポキシ樹脂、硫黄原子を含むエポキシ樹脂、オレフィン結合を過酢酸等の過酸で酸化して得られる線状脂肪族エポキシ樹脂、脂環族エポキシ樹脂、及びこれらのエポキシ樹脂をシリコーン、アクリロニトリル、ブタジエン、イソプレン系ゴム、ポリアミド系樹脂等により変性したエポキシ樹脂などが挙げられる。
上記エポキシ樹脂の中でも、良好な流動性の確保といった観点からは、180℃におけるICI粘度が0.2Pa・s以下であるエポキシ樹脂を単独、または併用して用いることが好ましく、0.1Pa・s以下であるエポキシ樹脂を用いることが特に好ましい。このようなエポキシ樹脂の例として、例えばビフェニル型エポキシ樹脂であるYX−4000H(ジャパンエポキシレジン株式会社商品名、180℃におけるICI粘度0.01Pa・s)、ビスフェノールF型エポキシ樹脂であるYSLV−80XY(東都化成株式会社商品名、180℃におけるICI粘度0.01Pa・s)、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂であるEPICLON HP−7200(大日本インキ化学工業株式会社製商品名、180℃におけるICI粘度0.05Pa・s)、硫黄原子含有型エポキシ樹脂であるYSLV−120TE(東都化成株式会社商品名、180℃におけるICI粘度0.01Pa・s)、ビフェニル・アラルキル型エポキシとビフェノールのグリシジルエーテル化物の混合物であるCER−3000−L(日本化薬株式会社製商品名、180℃におけるICI粘度0.03Pa・s)等を、市場で入手可能なエポキシ樹脂の例として挙げることが可能である。なお、ここで「ICI粘度」とは、ICIコーンプレート回転粘度計で測定した値を意味するものとする。
(B)フェノール系硬化剤
本発明では、封止用エポキシ樹脂組成物に一般に使用されているフェノール系硬化剤を単独または併用して用いることができる。使用可能な(B)フェノール系硬化剤を例示すれば、フェノール、クレゾール、レゾルシン、カテコール、ビスフェノールA、ビスフェノールF、フェニルフェノール、アミノフェノール等のフェノール類及び/又はα−ナフトール、β−ナフトール、ジヒドロキシナフタレン等のナフトール類とホルムアルデヒド、ベンズアルデヒド、サリチルアルデヒド等のアルデヒド基を有する化合物とを酸性触媒下で縮合又は共縮合させて得られるノボラック型フェノール樹脂、フェノール類及び/又はナフトール類とジメトキシパラキシレン又はビス(メトキシメチル)ビフェニルとから合成されるフェノール・アラルキル樹脂、ナフトール・アラルキル樹脂、ビフェニル・アラルキル樹脂等のアラルキル型フェノール樹脂、ジシクロペンタジエン型フェノール樹脂、テルペン変性フェノール樹脂、トリフェニルメタン型フェノール樹脂などが挙げられる。
(A)成分のエポキシ樹脂と(B)成分のフェノール系硬化剤との当量比(すなわち、エポキシ樹脂中のエポキシ基数/硬化剤中のフェノール性水酸基数の比)は、特に制限されるものではない。しかし、それぞれの成分が過不足なく反応して組成物中に未反応のまま残らないようにするためには、上記当量比は好ましくは0.5〜2の範囲、より好ましくは0.6〜1.5の範囲とすることが好ましい。
(C)無機系吸湿剤
本発明では、良好な耐湿性を実現する為に、(C)無機系吸湿剤をエポキシ樹脂組成物全体の50重量%を超えて配合することが必要であり、流動性等の成形性との両立の観点からは、粒径や比表面積の異なる少なくとも2成分以上の無機系吸湿剤を配合することが必要である。無機系吸湿剤の例としては、シリカゲルやゼオライト、非晶質アルミノ珪酸塩等を挙げることが可能である。
なお本発明において、エポキシ樹脂組成物を用いたパッケージに求められる「耐湿性」とは、「長時間(例えば1000h)にわたり、高湿度環境下(例えば85℃/85%)でのチップ(本封止材とガラス等とにより気密封止されている)の正常動作を保証することが可能な程度」のものである。その為には、封止材自身が、長時間にわたり、「ある程度の量」の水分を吸収し続ける能力(パッケージ内部への水分の侵入を防ぐ能力)を有することが必要である。従って、ある時間における吸水率と、その時点での「可能水分吸収能力(吸水率との差)」が大きいほうが有利である。
耐湿性の観点からは、比表面積ができるだけ大きい無機系吸湿剤を添加することが好ましいが、比表面積の大きな無機系吸湿剤はエポキシ樹脂組成物の流動性等の劣化を招く傾向があり、これらとのバランスを考え本発明では、平均粒径0.1μm以上4μm以下、かつ、比表面積100m/g以上1000m/g以下である無機系吸湿剤(以下(C1)成分)と呼ぶ)を一つの成分として選択する。平均粒径が0.1μm未満であったり、比表面積が1000m/gを超える無機系吸湿剤を添加すると、流動性の低下を招く等、良好な成形性を得ることが困難となる傾向がある。逆に、平均粒径が4μmを超えるか、または比表面積が100m/g未満である無機系吸湿剤を選択した場合には、耐湿性が不充分となる傾向がある。(C1)成分としては、平均粒径0.5〜3μmかつ比表面積200〜800m/g程度のものを選択することがより好ましく、平均粒径0.5〜3μmかつ比表面積300〜700m/g程度のものを選択することが特に好ましい。なお、本発明における「平均粒径」、「比表面積」とは、それぞれ下記(1)、(2)の測定方法により得られた値を指す。
(1)平均粒径
測定装置:(株)堀場製作所製レーザ回折/散乱式粒度分布測定装置LA−920
分散媒:ヘキサメタリン酸ナトリウム0.2wt/vol%水溶液
相対屈折率:1.10
透過率:70〜90%
循環速度:7
超音波時間:3分
超音波強度:7
(2)比表面積
測定装置:ユアサアイオニクス株式会社製流動法BET一点法比表面積測定装置モノソーブ
キャリアガス:窒素/ヘリウム混合ガス1.5kg/cm、窒素ガス0.7kg/cm
試料脱気条件:200℃/30分
本発明ではさらに、良好な耐湿性を確保しつつ流動性等にも優れたエポキシ樹脂組成物を得る為に、平均粒径が5μm以上50μm以下、かつ、比表面積が3m/g以上50m/g以下の成分(以下(C2)成分と呼ぶ)を、上記(C1)成分と併用して用いる。(C2)成分についても(C1)成分と同様、平均粒径が5μm未満または比表面積が50m/gを超えるものを添加した場合には流動性等の成形性が、平均粒径が50μmを超えるかまたは比表面積が3m/g未満のものを添加した場合には耐湿性が、それぞれ不充分となる可能性がある。(C2)成分としては、平均粒径5〜30μmかつ比表面積5〜40m/g程度のものを選択することがより好ましく、平均粒径5〜20μmかつ比表面積5〜30m/g程度のものを選択することが特に好ましい。
(C1)成分と(C2)成分の添加重量比については、(C1)/(C2)=1/100〜1/3の範囲と、(C1)/(C2)=1/50〜1/5の範囲とすることが好ましく、(C1)/(C2)=1/30〜1/10の範囲とすることが特に好ましい。(C1)成分と(C2)成分は、化学的に同一であっても異なっていても良い。また、流動性等の観点から、第3の成分((C3)成分)を添加しても良い。(C3)成分を添加する場合には、平均粒径及び比表面積を(C2)成分と同様の範囲とした上で、(C2)成分と異なる平均粒径、または比表面積を有する成分を選択することが好ましい。(C3)成分の化学組成についても、(C1)成分や(C2)成分と同一であっても異なっていても良い。なお、この(C3)成分は、平均粒径及び比表面積の区分で言えば(C2)成分であり、本発明において(C)成分は平均粒径及び比表面積の区分において(C1)成分と(C2)成分とからなる。
(D)無機充填剤
本発明では、線膨張係数低減や強度向上等の為に(D)無機充填剤を配合することが好ましい。無機充填剤の例としては、例えば溶融シリカ、結晶シリカ、合成シリカ、アルミナ、ジルコン、珪酸カルシウム、炭酸カルシウム、チタン酸カリウム、炭化珪素、窒化珪素、窒化アルミ、窒化ホウ素、ベリリア、ジルコニア、ジルコン、フォステライト、ステアタイト、スピネル、ムライト、チタニア等の粉体、又はこれらを球形化したビーズ、ガラス繊維などが挙げられ、難燃効果のある水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム等の金属水酸化物を配合してもよい。
上記無機充填剤の中でも、流動性等の成形性、機械的強度向上等の観点から、本発明では、(D)成分溶融シリカ、結晶シリカ、合成シリカの少なくともいずれかとし、溶融シリカ、合成シリカの少なくともいずれかとすることが好ましく、球状溶融シリカ、または球状合成シリカの少なくともいずれかとすることが特に好ましい。(D)成分として、平均粒径が10μm以上50μm以下である球状溶融シリカ、または球状合成シリカ(以下(D1)成分とする)のいずれかを添加すると、流動性の点で特に効果的である。なお、本発明における結晶シリカ、溶融シリカ、又は合成シリカとは、天然シリカ、天然シリカを破砕後に溶射工程を経てガラス化したもの、又はシリコン単体あるいはテトラクロロシラン等を例とするシリコン化合物を出発物質として得られたシリカ(シリコンジオキサイド)を合成中又は合成後に溶射工程を経てガラス化したものを指し、「球状シリカ」とは、下記方法(3)により測定された球形度が0.70以上のシリカを指す。
(3)球形度
測定装置:FPIA‐2100
対象粒子径:45μm以上(JIS篩45μmにて篩上に残った粒子)
対象粒子数:200個
測定方法等:
1)(試料20g/純水80ml)+超音波3分間。
2)JIS篩(45μm)にて45μm以下の粒子を除く。
3)篩上の粒子1.0gにエチレングリコール50%溶液20mlを加え、超音波にて3分間分散。
4)分析装置にかけ、以下の式に従って球形度を求める。
(球形度)=(投影面積/粒子の投影周囲長と同じ円周を持つ円の面積)
本発明では、(D)成分として、さらに平均粒径が1μm以下の合成シリカ(以下(D2)成分とする)を添加すると、特に樹脂バリ低減に効果的である。平均粒径が1μm以下の合成シリカの例としては、SO−25R(株式会社アドマテックス社製商品名、平均粒径0.5μm)等の他、一次粒子が10〜30nm程度の平均粒径を有する「AEROSIL」シリーズ(日本アエロジル株式会社製商品名)等を挙げることが可能である。
(D1)成分と(D2)成分の添加重量比については、流動性と樹脂バリのバランスの観点から、(D)成分の全部を球状シリカとした上で、(D1)/(D2)=50/1〜3/1とすることが好ましく、(D1)/(D2)=40/1〜5/1とすることがより好ましく、(D1)/(D2)=30/1〜10/1とすることが特に好ましい。(D1)成分と(D2)成分の添加重量比が50/1より小さくなると((D1)成分が相対的に多くなり過ぎると)樹脂バリ低減効果が、(D1)成分と(D2)成分の添加重量比が3/1より大きくなると((D2)成分が相対的に多くなってくると)流動性が、それぞれ不充分となる可能性がある。
本発明による封止用エポキシ樹脂組成物には、成形時に良好な硬化性を得る為に、硬化促進剤を添加することが好ましい。硬化促進剤には、トリフェニルホスフィンやテトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレート等の有機リン化合物系硬化促進剤、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン−7等のアミン化合物系硬化促進剤、及びイミダゾール化合物系硬化促進剤等、封止用エポキシ樹脂組成物に一般に使用される硬化促進剤を単独または2種以上併用して特に制限なく用いることができるが、前記イミダゾール化合物系硬化促進剤、または下記一般式(I)で表されるホスフィン化合物と下記一般式(II)で示されるキノン化合物との付加反応物の少なくともいずれかを用いると、特に良好な硬化性を得ることが可能となる。
Figure 0004866056
(ここで、式(I)中のRは炭素数1〜12のアルキル基を示し、R及びRは、水素原子又は炭素数1〜12の炭化水素基を示し、それぞれ全てが同一でも異なっていてもよい。また、式(II)中のR〜Rは、水素原子又は炭素数1〜18の炭化水素基を示し、それぞれ全てが同一でも異なっていてもよい。RとRが結合して環状構造となっていてもよい。)
本発明では、樹脂成分と無機充填剤との接着性を高める目的で、封止用エポキシ樹脂組成物に一般に使用される公知のカップリング剤を添加してもよい。カップリング剤としては、特に限定するものではないが、例えば、エポキシシラン、メルカプトシラン、アミノシラン、アルキルシラン、ウレイドシラン、ビニルシラン等の各種シラン系化合物、チタン系化合物、アルミニウムキレート類、アルミニウム/ジルコニウム系化合物が挙げられ、それらを単独で使用しても又は2種以上を組み合わせて使用してもよい。
本発明では、成形金型からの円滑な脱型を目的として、封止用エポキシ樹脂組成物に一般に使用される公知の離型剤を添加してもよい。離型剤としては、特に限定されるものではないが、例えば、ステアリン酸やモンタン酸等の高級脂肪酸系ワックス、高級脂肪酸エステル系ワックス、高級脂肪酸アミド系ワックス、ポリエチレンが挙げられ、それらを単独で使用しても、又は2種以上を組み合わせて使用してもよい。
本発明では、上述の成分以外にも、カーボンブラック、有機染料、有機顔料、及び酸化チタン等の各種着色剤、イミダゾール、トリアゾール、テトラゾール、及びトリアジン等の各種接着付与剤、NBRゴム及びシリコーンゴム等の各種低応力剤等の添加剤、ブロム化エポキシ樹脂や三酸化アンチモン、有機リン系難燃剤、窒素系難燃剤等の各種難燃剤等
を、必要に応じて封止用エポキシ樹脂組成物に添加することが可能である。なお、添加可能な添加剤は上述の例示に限定されるものではなく、当技術分野において公知の各種添加物であっても良い。
本発明による封止用エポキシ樹脂組成物は、各種原材料を均一に分散混合できるのであれば、いかなる手法を用いても調製することが可能である。一般的な手法として、所定の配合量の原材料をミキサー等によって充分に混合した後、ミキシングロール、ニーダ、押出機等によって溶融混練を行い、次いで冷却し、粉砕する方法を挙げることができる。溶融混練は、複数の装置を用いて複数回行っても良いし、原材料の一部をミキシングロール等で混練後、ニーダや押出機等で原材料全体を再度混練する等の手法を採っても良い。なお、組成物は取り扱いを容易にするために、成形条件に合うような寸法及び重量でタブレット化してもよい。
本発明による封止用エポキシ樹脂組成物を用いて素子を封止する方法としては、低圧トランスファー成形法が最も一般的であるが、インジェクション成形法、圧縮成形法等の他の成形法を用いてもよい。封止用エポキシ樹脂組成物が、常温において液状又はペースト状となる場合、ディスペンス方式、注型方式、印刷方式等を適用することも可能である。
以下、実施例によって本発明をより具体的に説明するが、本発明の範囲は以下の実施例によって限定されるものではない。
(実施例1〜10、比較例1〜9)
以下、各実施例及び各比較例で使用した各種原材料を示す。
(A)エポキシ樹脂
エポキシ樹脂1:エポキシ当量192、融点105℃のビフェニル型エポキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン株式会社製、商品名「エピコート YX4000H」)。
エポキシ樹脂2:エポキシ当量200、融点70℃のオルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂(大日本インキ化学工業株式会社製、商品名「EPICLON N500P」)。
(B)硬化剤
硬化剤1:軟化点85℃、水酸基当量105のフェノールノボラック樹脂(明和化成株式会社製、商品名「H−100」)。
硬化剤2:軟化点70℃、水酸基当量175のフェノール・アラルキル樹脂(三井化学株会社製、商品名「ミレックスXL−225」)。
(C)無機系吸湿剤
C1成分:平均粒径3.5μm、比表面積600m/gのシリカゲル(水澤化学工業株式会社製、商品名「S−200」)。
C2成分:平均粒径10μm、比表面積5m/gの非晶質アルミノ珪酸塩(水澤化学工業株式会社製、商品名「AMT−100R」)。
C3成分:平均粒径7μm、比表面積15m/gのゼオライト(水澤化学工業株式会社製、商品名「シルトンJC−70」
(D)無機充填剤
D1成分:平均粒径12μm、比表面積5.0m/gの溶融球状シリカ(電気化学工業株式会社製、商品名「FB−105」)。
D2成分:平均粒径28μm、比表面積1.7m2/gの溶融球状シリカ(電気化学工業株式会社製商品名「FB−950」)。
D3成分:平均粒径0.5μm、比表面積6.5m/gの合成球状シリカ(株式会社アドマテックス社製、商品名「SO−25R」)。
D4成分:平均粒径12nm(一次粒子)、比表面積200m/gの合成シリカ(日本アエロジル株式会社製、商品名「AEROSIL200V」)。
(その他添加剤)
硬化促進剤1:2−フェニル−4−メチルイミダゾール
硬化促進剤2:下記一般式(1)でR〜Rがいずれも炭素数4のアルキル基(ブチル基)である化合物と、下記一般式(II)でR〜Rがいずれも水素である化合物(ベンゾキノン)の付加物
硬化促進剤3:トリフェニルホスフィン
離型剤:酸化型ポリエチレンワックス。
カップリング剤:γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(エポキシシラン)
着色剤:カーボンブラック(三菱化学株式会社製商品名MA−100)。
難燃剤:ブロム化エポキシ樹脂、三酸化アンチモン。
なお、(C)成分及び(D)成分の平均粒径、比表面積は、下記測定方法により得た値を用いた。
(1)平均粒径
測定装置:(株)堀場製作所製レーザ回折/散乱式粒度分布測定装置LA−920
分散媒:ヘキサメタリン酸ナトリウム0.2wt/vol%水溶液
相対屈折率:1.10
透過率:70〜90%
循環速度:7
超音波時間:3分
超音波強度:7
(2)比表面積
測定装置:ユアサアイオニクス株式会社製流動法BET一点法比表面積測定装置モノソーブ
キャリアガス:窒素/ヘリウム混合ガス1.5kg/cm、窒素ガス0.7kg/cm
試料脱気条件:200℃/30分
Figure 0004866056

(ここで、式(I)中のRは炭素数1〜12のアルキル基を示し、R及びRは、水素原子又は炭素数1〜12の炭化水素基を示し、それぞれ全てが同一でも異なっていてもよい。また、式(II)中のR〜Rは、水素原子又は炭素数1〜18の炭化水素基を示し、それぞれ全てが同一でも異なっていてもよい。RとRが結合して環状構造となっていてもよい。)
上述の各種原材料をそれぞれ下記表1及び表2に示す重量部で配合し、混練温度80℃、混練時間20分の条件下でロール混練を行い、実施例1〜10及び比較例1〜9に該当する封止用エポキシ樹脂組成物をそれぞれ調製した。
Figure 0004866056
Figure 0004866056
次に、調製した実施例及び比較例の各種封止用エポキシ樹脂成形材料を、以下の各試験により評価した。評価結果を下記表3及び表4に示した。なお、封止用エポキシ樹脂組成物の成形は、トランスファー成形機を用いて、金型温度180℃、成形圧力6.9MPa、硬化時間90秒の条件で行った。また、後硬化は175℃で6時間行った。
(1)スパイラルフロー(流動性・充填性の指標)
EMMI−1−66に順じてスパイラルフロー測定用金型を用いて、封止用エポキシ樹脂組成物を上記条件で成形し、流動距離(cm)を求めた。
(2)熱時硬度
中央部に直径30mm、深さ4mmのカル部分、及び、カル部分周縁より金型周縁部に向かって放射状に伸びる2μm、3μm、5μm、10μm、20μm、30μm、50μmの各厚みを有するスリット(スリット幅5mm)を持った三富金属株式会社製バリ金型を用いて、封止用エポキシ樹脂成形材料を上記条件で直径30mm×厚さ4mmの円板に成形し、成形後直ちに(トランスファプレスの下型が開き始めてから5秒後に金型を取リ出し、その直後に)成形品(金型中央部のカル部分)のショアD硬度を測定した。
(3)バリ長さ
(2)と同じ金型を用いて成形を行い、2〜50μmスリット上の樹脂長さ(バリ長さ)を測定した。50μmを除く5種スリット上の樹脂長さのうち、最大のものをバリ長さとした。
(4)耐湿性
φ50×3.0mmtの試験片を作製、後硬化の後、85℃/85%RH環境下に放置、放置500h後、1000h後の試験片の重量変化を測定し、下記式より吸水率を求めた。
(吸水率(%))=(W−W)×100/W
(ここで、W:試験片の初期重量、W:試験片の放置後の重量)
放置500h後の吸水率が大きく、放置500h後と放置1000h後の吸水率の差も大きい樹脂組成物を、耐湿性に優れる樹脂組成物と判断した。
Figure 0004866056
Figure 0004866056
表3及び表4から明らかなように、本発明による2種以上の(C)成分を含まない比較例1〜3は、耐湿性または流動性のいずれかに劣る(比較例8については、未硬化により測定不可)。また、2種以上の(C)成分を含んでいても、(C)成分の含有量が組成物全体の50重量%以下である比較例4,5は耐湿性に劣る(比較例6,7,9については硬化性不足、未硬化等により測定不可)。一方、2種以上の(C)成分を、その合計量が50重量%を超えて配合された実施例1〜10は、流動性や耐湿性に優れることがわかった。


Claims (1)

  1. 半導体装置用中空パッケージ形成用のエポキシ樹脂組成物であって、(A)成分としてエポキシ樹脂、(B)成分としてフェノール系硬化剤、(C)成分としてシリカゲル、ゼオライト、非晶質アルミノ珪酸塩より選ばれる少なくとも1種の無機系吸湿剤、さらに(D)成分として溶融シリカ、結晶シリカ、合成シリカより選ばれる少なくとも1種の無機充填剤、を含有するエポキシ樹脂組成物において、
    (C)成分は、平均粒径0.1μm以上4μm以下かつ比表面積100m /g以上1000m /g以下の成分(C1)と、平均粒径が5μm以上50μm以下かつ比表面積が3m /g以上50m /g以下の成分(C2)の2成分よりなり、それらを添加重量比で(C1)/(C2)=1/100〜1/3の範囲で混合し、かつ(C1)成分+(C2)成分の重量比率が組成物全体の50重量%を超えてなるエポキシ樹脂組成物。
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JPH01152151A (ja) * 1987-12-09 1989-06-14 Sumitomo Bakelite Co Ltd エポキシ樹脂組成物
JPH07107123B2 (ja) * 1988-03-17 1995-11-15 住友ベークライト株式会社 エポキシ樹脂組成物
JP3022135B2 (ja) * 1994-01-26 2000-03-15 信越化学工業株式会社 エポキシ樹脂組成物
JP3611383B2 (ja) * 1995-12-14 2005-01-19 住友ベークライト株式会社 電子部品封止用樹脂組成物
JP4614214B2 (ja) * 1999-12-02 2011-01-19 信越化学工業株式会社 半導体装置素子用中空パッケージ
JP2005054131A (ja) * 2003-08-07 2005-03-03 Mitsubishi Rayon Co Ltd 吸着性シリカ充填材及びその製造方法並びに封止用樹脂組成物
JP2006265370A (ja) * 2005-03-24 2006-10-05 Sumitomo Bakelite Co Ltd 光半導体封止用エポキシ樹脂組成物及び光半導体装置
JP2007092002A (ja) * 2005-09-30 2007-04-12 Hitachi Chem Co Ltd エポキシ樹脂組成物及びそれを用いた半導体装置用中空パッケージ、並び半導体部品装置

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