JP4863536B2 - 安定な遊離ラジカルを発生する基を有するゴムから得られた耐衝撃性芳香族ビニルポリマー - Google Patents

安定な遊離ラジカルを発生する基を有するゴムから得られた耐衝撃性芳香族ビニルポリマー Download PDF

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Description

【0001】
【発明が属する技術分野】
本発明は耐衝撃性芳香族ビニルポリマーの組成物すなわち芳香族ビニルポリマーのマトリクスとゴム粒子とで構成される組成物の製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
上記ゴム粒子は従来法では種々の形態(morphorogies)をしており、例えば下記(1)〜(4)の形態をしていた:
(1)「サラミ」型の形態(ゴム粒子が芳香族ビニルポリマーの一般にほぼ球形で非同心円状の「多数の吸蔵物(occlusions)」を含むということを意味する)
(2)「迷路」型の形態(ゴム粒子が芳香族ビニルポリマーの細長くて湾曲した一般に非球形かつ非対称な「多数の吸蔵物」を含むということを意味する)
(3)「オニオン」型の形態(ゴム粒子がほぼ球形で且つその周りに同心円状に互いに内包された芳香族ビニルポリマーの「多数の吸蔵物」を含むということを意味する)
(4)「カプセル」型の形態(ゴム粒子が一般にほぼ球形で且つ芳香族ビニルポリマーの単一の吸蔵物を含むということを意味する)
【0003】
「サラミ」「迷路」および「オニオン」の形態は「多層吸蔵物(multi-occlusions)」の形態とよぶことができ、これらは一般にカプセルよりわずかに大きい。
これらの形態は芳香族ビニルポリマー組成物の耐衝撃性および光沢度に影響を与え、光沢度に対する影響は「サラミ」、「迷路」、「オニオン」、次いで「カプセル」の順で大きくなる。
一般に、粒子の吸蔵物含有率が高ければ高いほど粒子は大きくなる。従って、ゴムの粒径は一般に「カプセル」、次いで「迷路」または「オニオン」、次いで「サラミ」の順で大きい。耐衝撃性芳香族ビニルポリマー組成物の光沢度が組成物に含まれるゴムの粒径を小さくすることによって高くなるのはこのためと考えられる。
目標とする特性、特に耐衝撃性および光沢度に応じて、同じ材料の異なる形態を有する粒子を組み合わせることができ、例えばカプセル/「多数の吸蔵物」比を調節することができる。特に、ゴム粒子が主としてカプセルで構成され、粒子の残部、例えば5〜40%が「多層吸蔵物」で構成される材料は耐衝撃性と光沢度とのバランスが良い。
【0004】
光沢のある耐衝撃性芳香族ビニルコポリマーまたはポリマーが望まれる場合は、カプセル形態のみを得ることができる製造条件が求められる。
従来法では、「サラミ」以外の形態すなわち「迷路」「オニオン」または「カプセル」の形態は一般的なポリジエンからは得ることはできず、スチレン/ブタジエンコポリマーの存在下で芳香族ビニルモノマーを重合することでしか得られない。特に、「カプセル」形態は従来法では少なくとも15%、好ましくは40%のスチレンを含むスチレン/ブタジエンコポリマーの存在下でスチレンを重合することでしか得られなかった。このことは特に下記の文献に記載されている:
エシュト(Echt)達、J.Sci.Ind.Res.40,659(1981年)
EP 48389号
エシュト(Echt)Rubber Toughened Plastics,編者C.Keith Riew(キース リュー)、米国化学協会,ワシントン、1989年)
【0005】
しかし、このコポリマーは高価で、しかも最終的に得られる耐衝撃性芳香族ビニル組成物中のポリジエン濃度を一般的なポリジエンよりも高い濃度で重合媒体中に導入しなければならない。この量を含むコポリマーは重合前にスチレンに長時間溶解する必要がある。この理由のために、重合媒体中に導入する量が少量で済む一般的で、安価なゴムを用いて「カプセル」「オニオン」または「迷路」の形態を製造する方法が望まれている。
所定の材料に関する望ましいカプセル/「多層吸蔵物」比は、例えばカプセルのみを含む耐衝撃性芳香族ビニルポリマーと、「多層吸蔵物」型の粒子のみを含む耐衝撃性芳香族ビニルポリマーとを所定の量で混合することで得ることができる。
欧州特許第EP 0726280号にはゴムおよび安定な遊離ラジカルの存在下でスチレンを重合して得られる耐衝撃性ポリスチレンの製造方法が開示されている。しかし、この特許の実施例は最終材料はカプセル粒子を全く含んでいないことを示している。この特許の実施例は重合中の安定な遊離ラジカルが存在すると最終材料中のゴム粒子の径が大きくなる危険があると教えている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、例えば耐衝撃性芳香族ビニルポリマーの光沢度を高める目的で、スチレン/ブタジエンコポリマーを用いずにブタジエンのホモポリマーを用いて、サラミ形態以外の形態を得る方法を提供する。なお、スチレン/ブタジエンコポリマーを使用する利点と、このコポリマーが安定な遊離ラジカルを発生する基を有することによる利点とを組み合わせるという要望がある場合には、このスチレン/ブタジエンコポリマーを用いることを除外するものではない。この組み合わせを用いることによって、コモノマーとしてのスチレン単位を含まないポリブタジエンから得られるゴムに比べて安定な遊離ラジカルを発生する基が少ないゴムを用いることができる。
「サラミ」形態以外の形態とは、少なくとも1つの「迷路」「オニオン」または「カプセル」の形態またはこれらの組み合わせ、場合によっては同一の材料でのこれらと「サラミ」型の粒子との組み合わせを意味する。本発明方法によって「カプセル」比率の高い組成物を得ることができる。
【0007】
【課題を解決するための手段】
本発明方法は、安定な遊離ラジカルを発生する基を有するゴム(以下、キャリアゴムという)の存在下で、少なくとも1種の芳香族ビニルモノマーを重合する段階を含む。
【0008】
【発明の実施の形態】
このキャリアゴムは芳香族ビニルモノマーを重合する前に製造する。
一般に、本発明方法で得られる最終材料は、安定な遊離ラジカルを発生する基を有していない一般的なゴムを使用する方法に比較して、同じ運転条件下で、ゴム粒子の平均径が小さい。
キャリアゴムは、例えば安定な遊離ラジカルと、エラストマーから1つのプロトンを抜き出すことができる遊離ラジカル開始剤と、溶媒との存在下且つ芳香族ビニルモノマーの非存在下で、耐衝撃性芳香族ビニルポリマーの製造に一般に用いるエラストマーを熱処理する段階を含む方法で得ることができる。遊離ラジカル開始剤は例えば本発明の重合で用いる下記の重合開始剤から選択することができ、下記の中から選択するのが好ましい:
tert-ブチルイソプロピルモノペルオキシカルボネート
tert-ブチル(2−エチルヘキシル)モノペルオキシカルボネート
ジクミルペルオキシド
ジ−tert-ブチルペルオキシド
1,1−ジ(tert-ブチルペルオキシ)シクロヘキサン
1,1−ジ(tert-ブチルペルオキシ)−3,3,5−トリメチル−シクロヘキサン
tert-ブチルペルオキシアセテート
クミル−tert-ブチルペルオキシド
tert-ブチルペルオキシベンゾエートおよび
tert-ブチルペルオキシ−2−エチルヘキサノエート
【0009】
熱処理条件すなわち使用成分の種類および量、温度および時間は、得られたゴムが1つのゴム鎖当たり平均0.1〜10の安定な遊離ラジカルを発生する基を有するようにするのが好ましい。
最終材料中にカプセルが存在することが望まれる場合には、ゴムは1つのゴム鎖当たり平均0.5〜2、好ましくは0.5〜0.9の安定な遊離ラジカルを発生する基を有するのが好ましい。この場合、1つのゴム鎖当たり平均0.5〜2さらには0.5〜0.9の安定な遊離ラジカルを発生する基を有するゴムが得られるようにエラストマーを熱処理する運転条件を求めることは当業者が容易になし得ることである。
使用した安定な遊離ラジカルが二官能性の場合、例えば〔化1〕で表されるように分子内の2つの異なる位置にラジカル状態を有する場合:
【0010】
【化1】
Figure 0004863536
【0011】
や、2つのエラストマー鎖に安定な遊離ラジカルの分子の各々が連結されているような熱処理が有効な場合には、2つのエラストマー鎖と安定な遊離ラジカルの二官能性分子とで形成される集成体が1つのゴム鎖当たり平均1の安定な遊離ラジカルを発生する基を有するゴムであると考えられる。
この考えは安定な遊離ラジカルの任意の官能価で一般化することができる。
熱処理は遊離ラジカル開始剤が最大効果を示すように、換言すれば遊離ラジカルがエラストマーから1つのプロトンを抜き出すことができるように行うのが好ましい。この条件は熱処理温度を(T1/2−50℃)〜(T1/2+50℃)にした場合にほぼ満たされる(ここで、T1/2は開始剤の半減期が1時間になる温度を表す)。架橋によってこのエラストマーが分解されないようにすために、熱処理は150℃以下で行うのが好ましい。熱処理は50℃以上で行うのが好ましい。
開始剤はその半減期が1時間になる温度が90〜150℃であるように選択するのが好ましい。
【0012】
一般に、熱処理に必要な各成分は下記の関係を満足するように導入する:
【0013】
【式3】
Figure 0004863536
【0014】
【式4】
Figure 0004863536
各記号は下記の意味を表す:
(SFR):安定な遊離ラジカルのモル数、
SFR :安定な遊離ラジカルの官能価すなわち同じ安定な遊離ラジカル分子上で安定な遊離ラジカルの状態を有する位置の数、
(INIT):遊離ラジカル開始剤のモル数、
INIT :遊離ラジカル開始剤の官能価、すなわち開始剤の各分子が発生可能な遊離ラジカルの数、
(ELAST):エラストマーのモル数
【0015】
溶媒は例えば芳香族溶媒、例えばトルエン、ベンゼンおよびエチルベンゼンまたは脂環式溶媒、例えばシクロヘキサンから選択することができる。溶媒の量は熱処理に必要な全成分を含む媒体が均質になるのに十分な量であるのが好ましい。例えば、溶媒は一般に25〜95重量%の比率で存在することができる。
製造されたゴムは一般的なゴムと同様に、例えばメタノールで析出させ、濾過し、乾燥して単離し、貯蔵することができる。乾燥は大気圧または減圧下で、例えば室温〜150℃、特に室温〜60℃で行うことができる。
しかし、ゴムを単離せずに、そのまま本発明方法の重合媒体中に導入して耐衝撃性芳香族ビニルポリマーを製造することもできる。
【0016】
キャリアゴムは本発明方法の重合段階で安定な遊離ラジカルを解放して、芳香族ビニルモノマー単位がゴム鎖と安定な遊離ラジカルとの間に入ることができるようになる。このキャリアゴムは重合段階で粒子の形態に影響を与えるのに十分な安定な遊離ラジカルを発生する基を有している。
1つのゴム鎖当たりの安定な遊離ラジカルを発生する基の平均比率を増加させると「迷路」または「オニオン」が形成される機会が増え、この比率をさらに増加させると「カプセル」が形成される機会が増える。
【0017】
キャリアゴムは1つのゴム鎖当たり平均0.1〜10の安定な遊離ラジカルを発生する基を有するのが好ましい。これは平均的な数字で、例えば、安定な遊離ラジカルを発生する基を一方のみが有する2種のポリブタジエンの存在下で芳香族ビニルモノマーを重合しても本発明の範囲から逸脱するものではない。最終材料中に「カプセル」が存在することが望まれる場合には、キャリアゴムは1つのゴム鎖当たり平均で0.5〜2、好ましくは0.5〜0.9の安定な遊離ラジカルを発生する基を有するのが好ましい。
【0018】
安定な遊離ラジカルと、寿命が瞬間的(数ミリ秒)な遊離ラジカル、例えばペルオキシド、ヒドロペルオキシドおよびアゾ型の開始剤のような通常の重合開始剤から生じる遊離ラジカルとを混同してはならない。重合を開始させるこれらの遊離ラジカルは重合を加速するのに対し、安定な遊離ラジカルは一般に重合を減速する。
一般に、安定な遊離ラジカルは室温でラジカル状態で単離できる。安定な遊離ラジカルは分光分析法によってその遊離ラジカル状態を特徴付けることができるだけの十分な安定性を有している。
【0019】
安定な遊離ラジカルとは、空気および大気中の湿度に対して十分に不変で且つ不活性であるラジカルを意味し、その純粋なラジカルは市販の大部分の化学製品以上の注意を必要とせずに室温で取扱および貯蔵可能なものであるということは当業者には理解できよう。(この点に関してはグリエ(D.Griller)およびアンゴルド(K.Ingold)の Accounts of Chemical Research、1976、9,p13-19またはフォレステル(A.Forrester)達の「安定な遊離ラジカルの有機化学」、Academic Press,1968を参照されたい)
【0020】
安定な遊離ラジカルには特にラジカル重合の抑止剤の役目をする化合物で安定なニトロキシド基すなわち=N−O基を有する基を有する化合物が含まれる。安定な遊離ラジカルとしては例えば〔化2〕で表されるニトロキシド基を用いることができる:
【0021】
【化2】
Figure 0004863536
【0022】
(ここで、R,R,R,R,R’およびR’は塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン原子、アルキル基またはフェニル基等の飽和または不飽和の直鎖、分岐鎖または環状を有する炭化水素基、エステル基−COOR、アルコキシ基−OR、ホスホネート基−PO(OR)またはポリマー鎖、例えばポリメチルメタクリレート、ポリブタジエン、ポリエチレンやポリプロピレン等のポリオレフィン、好ましくはポリスチレンを表し、互いに同一でも異なっていてもよく、
,R,R,R,RおよびR10は上記のR,R,R,R,R’およびR’と同じものから選択することができ、さらに、水素原子、ヒドロキシル基−OHや−COOH、−PO(OH)、−SOH等の酸基を表すこともでき、互いに同一でも異なっていてもよい)
【0023】
安定な遊離ラジカルとしては商品名:プロキシル(PROXYL)で市販の2,2,5,5−テトラメチル−1−ピロリジニルオキシまたは商品名(TEMPO)で市販の2,2,6,6−テトラメチル−ピペリジニルオキシを挙げることができる。
安定な遊離ラジカルは下記の中から選択することもできる:
N−tert-ブチル−1−フェニル−2−メチルプロピルニトロキシド
N−tert-ブチル−1−(2−ナフチル)−2−メチルプロピルニトロキシドN−tert-ブチル−1−ジエチルホスホノ−2,2−ジメチルプロピルニトロキシド
N−tert-ブチル−1−ジベンジルホスホノ−2,2−ジメチルプロピルニトロキシド
N−フェニル−1−ジエチルホスホノ−2,2−ジメチルプロピルニトロキシド
N−フェニル−1−ジエチルホスホノ−1−メチルエチルニトロキシド
N−(1−フェニル−2−メチルプロピル)−1−ジエチルホスホノ−1−メチルエチルニトロキシド
4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチル−1−ピペリジニルオキシ
4−オキソ−2,2,6,6−テトラメチル−1−ピペリジニルオキシ
2,4,6−トリ−tert-ブチルフェノキシ
【0024】
安定な遊離ラジカルの存在を除いて、使用する他の成分および合成条件は耐衝撃性芳香族ビニルポリマー組成物の製造に一般的に使用するものj同じである。本発明方法の重合段階で用いられる媒体の一例としては下記を挙げることができる(芳香族ビニルモノマー100重量部当たり):
1) 2〜35重量部のキャリアゴム
2) 0〜50重量部の溶媒。
【0025】
芳香族ビニルモノマーとはスチレン、ビニル基をアルキル基で置換したスチレン、例えばα−メチルスチレンまたはα−エチルスチレン、環をアルキル基で置換したスチレン、例えばオルト−ビニルトルエン、パラ−ビニルトルエン、オルト−エチルスチレン、2,4−ジメチルスチレン、環をハロゲンで置換したスチレン、例えば2,4−ジクロロスチレン、ビニル基と環の両者をハロゲンおよびアルキル基で置換したスチレン、例えば2−クロロ−4−メチルスチレンおよびビニルアントラセンを意味する。好ましい芳香族ビニルモノマーはスチレンである。
【0026】
キャリアゴムは安定な遊離ラジカルを発生する基をキャリアゴムに付与するように改質されたエラストマーから得られる。エラストマーとは、芳香族ビニルポリマーの耐衝撃性を向上させるために一般に使用されるエラストマーを意味し、一般には共役ポリジエン、例えばポリブタジエン(ホモポリブタジエンを含む)、ポリイソプレンおよびエラストマーであるスチレン/ブタジエンコポリマー(SBR(スチレン/ブタジエンゴム)ともよばれる)を意味する。このエラストマーは一般に数平均分子量が50,000〜350,000で、重量平均分子量が100,000〜500,000である。同じことがキャリアゴムについてもいえる。
【0027】
重合媒体は少なくとも1種の有機溶媒を含むこともできる。この有機溶媒は重合条件下で沸騰せず、しかも、芳香族ビニルモノマーおよびそれから得られる芳香族ビニルポリマーと混和するものが選択される。脂環式炭化水素、例えばシクロヘキサンまたは芳香族化合物、例えばトルエン、ベンゼン、エチルベンゼンまたはキシレンを用いることができ、後者が好ましい。
この重合媒体はさらに、芳香族ビニルモノマーと共重合可能な少なくとも1種のモノマー、例えば少なくとも1種のアクリルまたはメタクリルモノマーまたはアクリロニトリルを含むこともできる。
【0028】
また、この重合媒体にはこの種の製造に一般的な少なくとも1種の添加剤または重合開始剤を重合の前後に添加することもできる。この添加剤は可塑剤、例えば鉱油、ブチルステアレートまたはジオクチルフタレート、酸化防止剤としての安定化剤、例えばアルキル基で置換されたフェノール、例えばジ−tert-ブチル−パラ−クレゾールまたはホスフィット、例えばトリノニルフェニルホスフィットにすることができる。
可塑剤を導入する場合は、最終的に合成される組成物中に0〜6重量%の比率で存在するような量で導入することができる。
安定化剤を導入する場合は、重合媒体中に0〜3000ppmの比率で存在することができる。
【0029】
重合反応は重合開始剤も触媒も用いずに熱的に開始するか、重合開始剤を用いて開始することができる。重合を熱的に開始する場合は100〜200℃、好ましくは110〜160℃で行うことができる。
重合を重合開始剤を用いて開始する場合は、50〜200℃、好ましくは90〜160℃で行うことができる。重合開始剤は有機ペルオキシドおよびヒドロペルオキシド、例えばジベンゾイルペルオキシド、tert-ブチルペルオキシベンゾエート、1,1−ビス(tert-ブチルペルオキシ)シクロヘキサンまたはアゾ化合物、例えばアゾビスイソブチロニトリルから選択することができる。重合開始剤は下記の中から選択することができる:
tert-ブチルイソプロピルモノペルオキシカルボネート
tert-ブチル2−エチルヘキシルモノペルオキシカルボネート
ジクミルペルオキシド
ジ−tert-ブチルペルオキシド
1,1−ジ(tert-ブチルペルオキシ)シクロヘキサン
1,1−ジ(tert-ブチルペルオキシ)−3,3,5−トリメチル−シクロヘキサン
tert-ブチルペルオキシアセテート
クミル−tert-ブチルペルオキシド
tert-ブチルペルオキシベンゾエート
tert-ブチルペルオキシ−2−エチルヘキサノエート
【0030】
重合開始剤は導入した芳香族ビニルモノマーに対して50〜2000ppmの比率で存在することができる。
広く知られている相反転現象が重合中に起って芳香族ビニルポリマーのマトリクス中にゴム粒子(「節」ともよばれる)が分散する。の重合中はゴム粒子が均一に分散するように十分に攪拌しなければならない。
重合後、揮発成分、例えば未反応モノマーおよび有機溶媒(用いた場合)を除去する。この除去は一般的な方法、例えば高温、減圧下で機能する脱蔵剤を用いて行うことができる。
【0031】
本発明組成物中のゴムおよび芳香族ビニルコポリマーまたはポリマーの最終含有率は揮発成分を除去する前の重合度に依存する。すなわち、重合度が遅いと、揮発成分の除去で大量の芳香族ビニルモノマーが除去され、組成物の最終ゴム含有率が高くなる。
重合の進行度は重合中にサンプルを取出し、取出したサンプルの固体含有率を測定することでモニターできる。固体含有率とは取出したサンプルを25mmbarの減圧下、200℃で約20分間蒸発した後に得られる固体の重量%を意味する。例えば60〜80重量%の固体含有率が得られるまで重合を続けることができる。
導入する成分の量および製造条件は最終組成物が2〜25%のゴム、好ましくは4〜15%のゴムを含むように調節するのが好ましい。
【0032】
重合終了後に得られる組成物はゴム粒子を芳香族ビニルポリマーのマトリクスが取り囲み、安定な遊離ラジカルおよび/または安定な遊離ラジカルを発生する基がポリマー鎖の一部を形成する。すなわち、安定な遊離ラジカルは遊離状態および/または共有結合によってポリマー鎖に連結された状態にある。一般に、安定な遊離ラジカルを発生する基がその安定な遊離ラジカルを解放する傾向は温度とともに増大する。すなわち、最終組成物が安定な遊離ラジカルまたは安定な遊離ラジカルを発生する基をどれだけ含むかは、組成物に対して行われる揮発成分除去処理の強度と安定な遊離ラジカルまたは安定な遊離ラジカルを発生する基の種類に依存する。この揮発成分除去処理はその時間が長ければ長い程、および/またはその温度が高ければ高い程および/またはその真空度が高ければ高い程、強くなる。
【0033】
本発明で得られる組成物は少なくとも一部が「迷路」状であるゴム粒子を取り囲む芳香族ビニルポリマーのマトリクスを有し、遊離ラジカルおよび/または安定な遊離ラジカルを発生する基がポリマー鎖の一部を形成することができる。
本発明で得られる組成物は少なくとも一部が「オニオン」状であるゴム粒子を取り囲む芳香族ビニルポリマーのマトリクスを有し、遊離ラジカルおよび/または安定な遊離ラジカルを発生する基がポリマー鎖の一部を形成することができる。
本発明で得られる組成物は少なくとも一部が「カプセル」状であるゴム粒子を取り囲む芳香族ビニルポリマーのマトリクスを有し、遊離ラジカルおよび/または安定な遊離ラジカルを発生する基がポリマー鎖の一部を形成し、「カプセル」が少なくとも95%のゴム粒子の形態を構成することができる。
【実施例】
以下、本発明の実施例を説明する。
得られた組成物の構造および特性は下記の方法で測定した:
ゴム粒子の形態:無水オスミン酸で染色した薄片を透過電子顕微鏡で観察。
ゴムの粒径の中央値:マトリクスをメチルエチルケトンに溶解後、沈降による粒度測定(CAPA700)。
【0034】
実施例1(比較例)
攪拌器と温度調節器とを備えた2リットル容のガラス反応器に490gのスチレンと、168gのエチルベンゼンと、BAYER社から商品名BL 6533で市販の70gのスチレン/ブタジエンブロックコポリマー(スチレン単位は40重量%)とを室温で導入した。攪拌は150回転/分にした。
コポリマーを完全に溶解した後、常に攪拌しながら、温度を30分かけて120℃に上げ、次いでこの温度を60%の固体含有率が得られるまで維持した。次いで、反応器の内容物を大気圧下、大気中でオーブンに移し、最初に150℃で3時間、次いで180℃で2時間重合した。
得られた組成物の特性は〔表1〕に示してある。ゴム粒子の大部分すなわち95%以上は「カプセル」状をしている。
【0035】
実施例2(比較例)
実施例1と同じ反応器に490gのスチレンと、168gのエチルベンゼンと、BAYER社から商品名HX 527で市販の42gのポリブタジエンとを室温で導入した。このポリブタジエンの重量平均分子量は247,000、多分散度は2、100℃でのムーニー粘度ML(1+4)は46である。
攪拌は150回転/分にした。
ポリブタジエンを完全に溶解した後、0.1488g(すなわち9.5×10−4mol)の2,2,6,6−テトラメチル−1−ピペリジニルオキシ(一般にTEMPOとよばれる)と、LUPEROX社から商品名TBIC-M75で市販の0.1848g(すなわち7.9×10−4mol)のO−tert-ブチル−O−イソプロピルモノペルオキシカルボネートとを室温で導入した。次いで、常に攪拌しながら、混合物を30分かけて120℃に加熱し、60%の固体含有率が得られるまでこの温度で維持した。次いで、反応器の内容物を大気圧下、大気中でオーブンに移し、最初に150℃で3時間、次いで180℃で2時間、重合を続ける。得られた組成物の特性は〔表1〕に示してある。ゴム粒子の大部分すなわち80%以上は「サラミ」状をしている。
【0036】
実施例3
実施例1と同じ反応器に168gのエチルベンゼンと、42gのポリブタジエンHX 527とを室温で導入した。攪拌は150回転/分にした。ポリブタジエンを完全に溶解した後に9.5×10−4molのTEMPOと、7.9×10−4molのペルオキシドTBIC-M75とを室温で導入し、反応器を50回転/分で攪拌しながら120℃で2時間加熱した。
次いで、490gのスチレンを添加し、150回転/分で攪拌しながら、この温度を60%の固体含有率が得られるまで120℃に保持した。重合は上記実施例と同様にオーブン中で続けた。得られた組成物の特性は〔表1〕に示してある。ゴム粒子の大部分すなわち95%以上は「カプセル」状で生じる。
【0037】
【表1】
Figure 0004863536

Claims (6)

  1. 下記の(1)と(2)の段階を有する芳香族ビニルポリマーのマトリクスとその中に分散したゴム粒子とから成る組成物の製造方法:
    (1) 安定な遊離ラジカルと、エラストマーから1つのプロトンを抜き出すことができる遊離ラジカル開始剤と、溶媒との存在下且つ芳香族ビニルモノマーの非存在下で、安定な遊離ラジカルを発生する基を一つのゴム鎖当たり平均0.1〜10個有するような熱処理条件下でエラストマーを熱処理してキャリアゴムを作り、
    (2) 上記キャリアゴムの存在下で少なくとも1種の芳香族ビニルモノマーを重合する
  2. 上記の重合を重合開始剤も触媒も用いずに100〜200℃で熱的に開始する請求項1に記載の方法。
  3. 上記の重合を重合開始剤の存在下で90〜160℃で行う請求項1に記載の方法。
  4. 上記の少なくとも1種の芳香族ビニルモノマーがスチレンである請求項1〜3のいずれか一項に記載の方法。
  5. 上記のゴム粒子の少なくとも一部が迷路、オニオンまたはカプセルのいずれか一つの形態を有する請求項1〜4のいずれか一項に記載の方法。
  6. 上記ゴム粒子の少なくとも95%がカプセルの形態を有する請求項に記載の方法。
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