JP4860192B2 - ウェハの製造方法 - Google Patents
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Description
まず,図1に基づいて,本実施形態にかかるウェハの製造方法について説明する。なお,図1は,本実施形態にかかるウェハの製造方法の各工程を示すフローチャートである。
(片面研磨)
定盤回転数:50rpm
研磨圧 :200g/cm2
研磨液流量:200ml/min
(両面研磨)
定盤回転数:25rpm
研磨圧 :200g/cm2
研磨液流量:3000ml/min
上記条件により実験を行った結果を図8に示す。なお,図8は,上記条件により実験を行った結果を示す写真図である。
14 研磨テーブル
16 固定砥粒研磨パッド
20 基板保持部
22 リング
25 研磨液
30 片面研削用の研削装置
32 チャックテーブル
33 スピンドル33
34 研削ヘッド
35 回転機構
36 移動機構
40 両面研磨用の研磨装置
41 上定盤
42 下定盤
43 太陽ギヤ
44 インターナルギヤ
45 キャリアプレート
W ウェハ
Claims (2)
- 単結晶インゴットをスライスして薄円板状のウェハを得るスライス工程と,
前記スライス工程によって得られたウェハを面取りする面取り工程と,
前記面取り工程において面取りされたウェハの表面と裏面を,ラッピング工程あるいは両頭研削工程を行うことなく,研削砥石によって各々順番に片面研削することにより,前記ウェハを所望の厚さまで薄くする研削工程と,
前記スライス工程により前記ウェハの表面及び裏面に生じたうねりに追従することなく,当該うねりを除去可能な弾性値を有する固定砥粒研磨パッドと,研磨材を含まない研磨液とによって,前記研削工程により研削されたウェハの両面を研磨することにより,前記ウェハの表面及び裏面の前記うねりを除去する研磨工程と,
を含み,
前記面取り工程と前記研削工程の間に,前ウェハの表面及び裏面に対する前記ラッピング工程あるいは前記両頭研削工程を含まず,
前記固定砥粒研磨パッドの弾性値は,測定雰囲気の温度が20〜80℃の温度範囲において,5×10 7 Pa以上である,ことを特徴とするウェハの製造方法。 - 前記研磨工程は,前記ウェハの表面と裏面を各々順番に片面研磨する工程,あるいは前記ウェハの表面と裏面とを同時に両面研磨する工程である,ことを特徴とする請求項1に記載のウェハの製造方法。
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