JP4857733B2 - 半導体発光素子およびその製造方法 - Google Patents
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図1は、本発明の実施の一形態に係る発光ダイオード11の構造を示す断面図である。この発光ダイオード11は、大略的に、サファイア(Al2O3)などの基板12上に、n型のバッファ層13、nGaN層14、発光層15、pGaN層16が順に形成され、発光層15で発生した光をサファイア基板12側から取出すフリップチップ(フェイスダウン)タイプの発光ダイオードである。前記nGaN層14上で、一部分の発光層15およびpGaN層16が除去されてn型電極17が形成され、前記pGaN層16上にp型電極18が形成される。
図5は、本発明の実施の他の形態に係る発光ダイオード41の構造を示す断面図である。この発光ダイオード41は、前述の発光ダイオード11に類似し、対応する部分には同一の参照符号を付して示し、その説明を省略する。注目すべきは、この発光ダイオード41では、前記溝19から電極17,18まで形成された後に、サファイアの基板12が除去されることである。
12 基板
13 バッファ層
14 nGaN層
15 発光層
16 pGaN層
17 n型電極
18 p型電極
19 溝
20 透明絶縁膜
30 型
31 レジスト
Claims (4)
- 少なくともn型窒化物半導体層、発光層およびp型窒化物半導体層を順次積層させて成り、前記p型窒化物半導体層側から前記n型窒化物半導体層側へ達する溝が刻設され、その溝の内面に反射鏡が形成されて成る半導体発光素子において、
前記n型窒化物半導体層内を面方向に電流が流れ、
前記溝は、閉ループを形成しないように、複数が前記面方向に相互に離散して、かつ前記n型窒化物半導体層を超えて刻設されることを特徴とする半導体発光素子。 - 前記溝は、テーパ面を有することを特徴とする請求項1記載の半導体発光素子。
- 基板上に、バッファ層、前記n型窒化物半導体層、発光層およびp型窒化物半導体層を成長させた後に、該基板を剥離した構造であり、前記溝は前記バッファ層に到達していることを特徴とする請求項1または2記載の半導体発光素子。
- 少なくともn型窒化物半導体層、発光層およびp型窒化物半導体層を順次積層させて成り、前記n型窒化物半導体層内を面方向に電流が流れる半導体発光素子の製造方法において、
前記p型窒化物半導体層側から、前記n型窒化物半導体層を超えて、閉ループを形成しないように、面方向に相互に離散して複数の溝を刻設する工程と、
前記溝の内面に反射鏡を形成する工程とを含むことを特徴とする半導体発光素子の製造方法。
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