JP4852903B2 - シート状光学積層体の膜厚測定システム及び膜厚測定方法 - Google Patents

Description

本発明は、液晶ディスプレイ等で用いられるシート状光学積層体の膜厚測定システム及び膜厚測定方法、特に、確実にかつ精度良くシート状の光学積層体の膜厚を測定することができるシート状光学積層体の膜厚測定システム及び膜厚測定方法に関するものである。

液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）の表示性能を向上させる部材として、位相差フィルムが重要な役割を果たしている。位相差フィルムとしては、例えば、特許文献１のような光学積層体（積層構造体を延伸した位相差フィルム）が知られている。位相差フィルムは、ディスプレイの表示を均質にするために、その膜厚が均一であることが必要であるが、特許文献１のような光学積層体は、全体としての膜厚が均一であるだけでなく、各層全ての膜厚が均一であることが求められる。このため、特許文献１のような光学積層体の製造時には、各層の膜厚を精度良く調整するために、リアルタイムでの膜厚測定が必要とされている。

また、ＣＲＴ、ＰＤＰ、有機ＥＬディスプレイ、液晶画像表示装置等の画像表示装置の画面について、近年、その透過率やコントラストの向上、映り込み低減のために表面反射を減少させる反射防止技術が多数提案されるようになってきている。反射防止技術として、反射防止層（光学干渉層ともいう）として積層する層の屈折率と光学膜厚を適度な値にすることによって、積層体と空気界面における光の反射を減少させることが有効であるということが知られている（例えば、特許文献２参照）。

反射防止フィルムのように、低屈折率層、中屈折率層、高屈折率層等の屈折率の異なる層を２層以上形成する際、各層の膜厚が所望の値と異なると反射度合いが異なるばかりでなく、干渉により反射防止層の着色や色合いの変化が起こる。例えば、反射が大きくなるとテレビやパソコンのモニター、カーナビ等使用時、周囲の光源や明るい物が画面上に写り、表示内容が見にくくなる。着色したり、色合いが違ってくるとは、見にくくなるばかりでなく、黒表示部でそのような物が写り込んだ際、色が付いて視認されるため、テレビ画面では画像イメージを著しく落とすこととなる。

このような点から、特許文献２では、反射防止層に対する可視光波長領域内に設定した２波長以上の点で、反射率を反射率測定器によりリアルタイムで計測し、目標値の反射率と対比して演算し、その結果を膜厚制御系にフィードバックすることにより、各反射防止層の各薄膜形成条件を制御している。さらに、反射光を測定する際に、測定室内を光のない暗黒状態として測定したり、測定室内のプローブを、フィルムを回転保持するロール間隔が狭いところに設置して測定したりしている。

特開２００４−５８３６９号公報 特開２００４−１０７６９０号公報

しかしながら、干渉光測定装置を利用してフィルム状の光学積層体の膜厚を測定する場合、干渉光測定装置が反射率測定器より大きく、光学積層体を回転保持するロールに十分近づけないという問題点があった。

本発明は、上述した課題を解決するためになされたものであり、確実にかつ精度良く光学積層体の膜厚を測定することができるシート状光学積層体の膜厚測定システム及び膜厚測定方法を提供することを目的とする。

本発明者は、シート状の光学積層体に光を照射してその干渉光を干渉光測定装置で計測する際に、光学積層体の上面及び下面の少なくとも一部をカバープレートで覆うことにより、光学積層体の走行に伴う空気の乱流を抑制して光学積層体の振動を防止することができ、これにより、干渉光測定点のピントがずれることなく、確実にかつ精度良く光学積層体の膜厚を測定できることを見出し、本発明を完成するに至ったものである。

上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明の請求項１に記載のシート状光学積層体の膜厚測定システムにあっては、干渉光測定装置を使用して、走行しているシート状の光学積層体の膜厚を測定する膜厚測定システムであって、シート状の光学積層体がその上を走行するように前記光学積層体を回転自在に支持する一対の平行に配置された回転ロールと、前記回転ロール間で、前記光学積層体の走行方向に対して垂直な側部方向に走査しながら、前記光学積層体に光を照射してその干渉光を計測する干渉光測定装置と、前記回転ロールの一方の近傍から他方の回転ロール近傍に延びる前記光学積層体の上面及び下面の少なくとも一部を覆うと共に、前記干渉光測定装置の光照射及び干渉光計測を行う計測点近傍が開口されているカバープレートとを備えることを特徴とする。

また、本発明の請求項２に記載のシート状光学積層体の膜厚測定システムにあっては、前記回転ロールの一方の側部近傍から前記他方の回転ロールの一方の側部近傍に延びる側部カバープレートを、前記回転ロールの少なくとも一方の側部にさらに備えることを特徴とする。

また、本発明の請求項３に記載のシート状光学積層体の膜厚測定システムにあっては、前記光学積層体の入口側に配置される前記回転ロールの一方の近傍を覆いかつ前記光学積層体の上流方向に向かって延びる入口カバープレートと、前記光学積層体の出口側に配置される前記他方の回転ロール近傍を覆いかつ前記光学積層体の下流方向に向かって延びる出口カバープレートとの少なくとも一方をさらに備えることを特徴とする。

また、本発明の請求項４に記載のシート状光学積層体の膜厚測定システムにあっては、前記光学積層体の入口側に配置された前記回転ロールの一方の上流側に配置される第１駆動ロールと、前記光学積層体の出口側に配置された前記他方の回転ロールの下流側に配置される第２駆動ロールとの少なくとも一方をさらに備えることを特徴とする。

また、本発明の請求項５に記載のシート状光学積層体の膜厚測定方法にあっては、干渉光測定装置を使用して、走行しているシート状の光学積層体の膜厚を測定する膜厚測定方法であって、一対の平行に配置された回転ロール上でシート状の光学積層体を走行させ、前記回転ロール間で、前記光学積層体の走行方向に対して垂直な側部方向に走査しながら、前記光学積層体に光を照射してその干渉光を干渉光測定装置で計測する際に、前記回転ロールの一方の近傍から他方の回転ロール近傍に延びる前記光学積層体の上面及び下面の少なくとも一部を覆うと共に、前記干渉光測定装置の光照射及び干渉光計測を行う計測点近傍が開口されているカバープレートを使用し、前記干渉光測定装置の計測結果に基づいて、前記光学積層体の膜厚を求めることを特徴とする。

本発明によれば、走行しているシート状の光学積層体に光を照射してその干渉光を干渉光測定装置で計測する際に、光学積層体の上面及び下面の少なくとも一部をカバープレートで覆うので、光学積層体の走行に伴う空気の乱流を抑制して光学積層体の振動を防止し、確実にかつ精度良くシート状光学積層体の膜厚を測定することができるという効果を奏する。

以下に、本発明にかかるシート状光学積層体の膜厚測定システム及び膜厚測定方法の一実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。なお、この一実施の形態により本発明が限定されるものではない。

図１は、本発明の一実施の形態によるシート状光学積層体の膜厚測定システムを示す概略斜視図である。図１において、膜厚測定システム１では、シート状の光学積層体２が回転自在な第１回転ロール３及び第２回転ロール４に導かれて、図１の左側から右側に向かって走行している。なお、図１では、光学積層体２の側端部を概略的に太線で表している。また、第１回転ロール３の上流側には、第３回転ロール５と、この第３回転ロール５に組み合わされて第１駆動ロール６例えばニップロールが設置されている。第２回転ロール４の下流側には、上流側と同様に、第４回転ロール７と、この第４回転ロール７に組み合わされて第２駆動ロール８例えばニップロールが設置されている。

第１回転ロール３と第２回転ロール４との間には、光学積層体２の走行方向に対して垂直な側部方向に走査しながら、光学積層体２に光を照射してその干渉光を計測する干渉光測定装置１０が配置されている。第１回転ロール３と第２回転ロール４との間に延びる光学積層体２の上面及び下面には、カバープレート１１及び１２が設置されている。これらのカバープレート１１及び１２の中央部には、干渉光測定装置１０の計測の妨げとならないように、開口部１６が形成されている。

さらに、第１回転ロール３の側部近傍から第２回転ロール４の側部近傍には、側部カバープレート１３，１４が設置されている。なお、側部カバープレート１３，１４は、光学積層体２の進行方向右側のみに設置されているが、同左側にも側部カバープレートを設けても良い。また、第１回転ロール３の光学積層体２入口側には、外部からの空気の流入を防止する入口カバープレート１５が設置されている。なお、入口カバープレート１５は、第１回転ロール３の光学積層体２入口側に設置されているが、第２回転ロールの光学積層体２出口側に、同様な形状の出口カバープレート（図示しない）を設けても良い。

図２は、本発明の一実施の形態による光学積層体の膜厚測定システム及び膜厚測定方法を説明する模式図である。図２において、まず、光学積層体２を作製する原料を押出機２０に投入する。光学積層体２としては、特に限定することなく種々の光学積層体を使用することができるが、一例として、複屈折を補償できる光学積層体が好適に使用できる。

このような光学積層体としては、固有複屈折値が負である材料を主成分として含み、ビニル芳香族系重合体、アクリル系重合体、ポリオレフィン、ポリアミド、ポリエステル及びポリカーボネートなどの熱可塑性樹脂からなる層（Ａ層）、透明な樹脂を主成分として含み、ノルボルネンなどの脂環構造を有する重合体からなる層（Ｂ層）、接着剤層であり、エチレン、スチレン等を含む共重合体からなる層（Ｃ層）などが積層された構造体が使用できる。

Ａ層、Ｂ層、Ｃ層それぞれの原料は、それぞれ別個な押出機２０（図２では１台のみ図示）に投入された後、フィードブロック（図示しない）などにより各層の原料を積層させる。各層の積層は、例えば、Ａ層−Ｃ層−Ｂ層、Ａ層−Ｃ層−Ｂ層−Ｃ層−Ａ層、Ｂ層−Ｃ層−Ａ層−Ｃ層−Ｂ層など、積層する層の層数や組合せは、種々の選択が可能である。

次に、積層された原料は、金型（ダイス）２１に導入される。金型２１では、その下端に例えば１メートルの幅方向にスリット（図示しない）が形成されており、このスリットから原料が押し出されることにより、シート状の積層体が得られる。また、スリットには多数の押しボルト及び引きボルト（図示しない）が設けられており、手動又は自動でこれらのボルトを調整することにより、得られるシート状積層体の幅方向における厚みを調整することができる。

金型２１から引き出されたシート状の光学積層体２は、加熱されたキャストロール２２に巻き取られて巻回されている間に冷却される。冷却された光学積層体２は、蛇行を防止する回転ロール２３，２４を経て、膜厚測定システム１に導かれる。

膜厚測定システム１に導入された光学積層体２は、第１駆動ロール６及び第２駆動ロール８を調節することによって、走行する光学積層体２を弛ませることなく、かつ適度な張力で維持する。光学積層体２の膜厚を測定する干渉光測定装置１０としては、代表的にはマイケルソン干渉計などが使用できる。干渉光測定装置１０では、膜表面で反射した光と膜裏面で反射した光とが互いに干渉を起こして干渉光による干渉縞（干渉パターン）を生じることから、測定対象である光学積層体２が振動により測定点におけるピントがずれると、測定が不能となったり、不正確な測定値となる。従って、光学積層体２の振動を極力防止する必要がある。

ところが、第１回転ロール３や第２回転ロール４から離れた位置では、光学積層体２の走行に伴い、空気を巻き込んで乱流を生じる場合がある。この様子を図３に模式的に示す。図３に示すように、光学積層体２の上面及び下面に乱流を生じるが、カバープレート１１，１２を配置することによって、この乱流を小さな乱流２ａ，２ｂに抑制することができる。

光学積層体２とカバープレート１１，１２との距離は、乱流を防止する点から小さければ小さいほど良いが、距離が小さすぎると両者が接触して光学積層体２の表面に傷を付ける恐れもあるため望ましくない。従って、図４に示すように、光学積層体２とカバープレート１１，１２との距離Ｄとしては、５ｍｍ〜５０ｍｍの範囲が好ましい。さらに好ましくは、１０ｍｍ〜５０ｍｍの範囲、最も好ましくは１０ｍｍ〜２５ｍｍの範囲である。

また、第１回転ロール３の入口側から空気が流入するのを防止するために、カバープレート１１，１２の先端は第１回転ロール３を覆い、さらに光学積層体２の上流方向に延びていても良い（図３参照）。この時、カバープレート１１，１２とその先端部１１ａ，１１ｂとは、図３に示すように一体に成形されていても良く、或いは、図１に示したように別々の部材から構成されていても良い。例えば、図１では、カバープレート１１と入口カバープレート１４とで構成されている。また、第１回転ロール３の直径を考慮して、カバープレート１２と光学積層体２との距離を、上記の範囲内でカバープレート１１と光学積層体２との距離より大きくしても良い（図３参照）。

さらに、カバープレート１１，１２の中央部には、図１及び図５に示すように、干渉光測定装置１０が走査する光学積層体２の走行方向に対して垂直な側部方向に開口部１５が形成されている。この開口部１５の幅Ｗは、干渉光測定装置１０の大きさに依存するが、例えば１０ｍｍ程度である。

なお、図１及び図５では、カバープレート１１，１２の側端部まで開口している場合を示しているが、図６に示すように、カバープレート１１，１２の側端部まで延びていない開口部１７を形成しても良い。この場合、カバープレート１１，１２それぞれが１枚のプレートから構成されるので、カバープレート１１，１２の固定、取り外しなどの作業性が向上する。

さらに光学積層体２の振動を抑制するために、カバープレート１１，１２に空気を逃がすための穴を設けておいても良い。図７は、穴を多数形成した穴形成部を有するカバープレートを示す平面図である。図７において、カバープレート１１，１２は、５ｍｍ×５００ｍｍ程度の大きさの穴形成部１８ａ，１８ｂを有する。穴形成部１８ａは、膜厚測定システム１の入口側で開口部１７から１００〜２００ｍｍ程度手前に位置し、穴形成部１８ｂは、膜厚測定システム１の出口側から１００〜２００ｍｍ程度手前に位置する。穴形成部１８ａ，１８ｂの穴は、マス目状の穴や丸穴などの形状であっても良く、穴の大きさも種々の大きさが採用できる。このような穴は、穴形成部１８ａ，１８ｂの全体に形成しても良く、或いは、光学積層体２の振動等の測定結果から、テープや板などで穴形成部１８ａ，１８ｂを部分的に塞ぐことも可能である。

また、図８に示すように、カバープレート１１，１２の先端部１１ａ，１１ｂにそれぞれ穴形成部１８ｃ，１８ｄを有しても良い。例えば、穴形成部１８ｃ，１８ｄとしてφ１０ｍｍの穴を光学積層体２の幅方向に２０ｍｍ間隔で形成し、光学積層体２の振動を見ながら穴をテープで目張りし、穴を塞ぐ面積を調整することができる。なお、図７及び図８において、穴形成部１８ａ，１８ｂ及び穴形成部１８ｃ，１８ｄは、それぞれその一方だけを有しても良い。

さらに、図９に示すように、干渉光測定装置１０が光照射及び干渉光計測を行う計測点近傍のみに穴状の開口部１９を形成し、この開口部１９の位置と同期して計測を行っても良い。この場合、開口部１９の面積が少なくなるため、空気の乱流を防止する効果が増大する。

カバープレート１１，１２の設置は、光学積層体２を成膜中で、光学積層体２を膜厚測定システム１に導入し、光学積層体２の走行が安定してから行う。カバープレート１１，１２の設置は、ネジ止めや固定治具など、特に限定することなく種々の固定部材を使用することができる。

カバープレート１１，１２の材質としては、例えばアクリル樹脂が好ましい。アクリル樹脂は軽量であり、光学積層体２が走行中にカバープレート１１，１２を設置し易いためである。また、アクリル樹脂は透明であるため、ゴミ等を目視で発見することができ、この点からも好ましい。さらに、アクリル樹脂製のカバープレート１１，１２には、赤外線吸収剤を含んでいても良い。これにより、干渉光測定装置１０に赤外線が反射などで入り込むのを防止することができ、膜厚の測定精度を一層向上させることができる。

カバープレート１１，１２は、第１回転ロール３の近傍と、第２回転ロール４の近傍との間をなるべく広く覆うのが好ましい。しかしながら、必ずしも光学積層体２の全面を覆う場合に限られず、第１回転ロール３の近傍や、第２回転ロール４の近傍にカバープレート１１，１２を設けても良い。光学積層体２の走行時間で表すと、干渉光測定装置１０の前後それぞれ０．２秒程度以上の領域がカバープレート１１，１２で覆われているのが好ましい。これにより、光学積層体２の振動を有効に防止することができる。

第１回転ロール３の側部近傍から第２回転ロール４の側部近傍には、側部カバープレート１３，１４を設けても良い（図１参照）。側部カバープレート１３，１４を設けることによって、光学積層体２の側部方向からの空気の流入の影響を回避することができる。なお、図１では、光学積層体２の進行方向右側だけに側部カバープレート１３，１４を設けた場合を示しているが、左側に側部カバープレートを設けたり、両側に側部カバープレートを設けても良い。側部カバープレート１３，１４は、第１回転ロール３及び第２回転ロール４があるため、光学積層体２の側部にあまり近づけないが、光学積層体２の側部から例えば１５０ｍｍ程度離して設置することが好ましい。

干渉光測定装置１０で光学積層体２に対して光照射及び干渉光計測を行った後、計測結果は、図２に示すデータ解析部３０に送られる。データ解析部３０では、所定の解析処理例えばフーリエ解析を行い、干渉光測定装置１０における計測結果から光学積層体２を構成する各層の膜厚を求めることができる。次に、膜厚制御部３１において、光学積層体２の幅方向における膜厚の測定結果と、所定の設定値とが比較される。光学積層体２の膜厚を変更する場合には、膜厚制御部３１から制御信号を金型２１に送り、スリット幅（ダイスリップ開度）を変更する押しボルト及び引きボルトを調整することによって、得られるシート状光学積層体２の幅方向における厚みを調整することができる。

次いで、図２に示すように、膜厚が測定された光学積層体２は、巻き取られる際の接着防止等のために、保護フィルムを保護フィルムロール２５から貼り付ける。さらに、光学積層体２両側端の耳部分をカットするために、トリミング装置２６によりトリミングを行う。最後に、以上のような処理を行った光学積層体２は、巻き取りロール２７により巻き取られる。

以下、実施例及び比較例に基づいて、本発明による光学積層体の膜厚測定システム及び膜厚測定方法について、さらに具体的に説明する。

（実施例）
上述した脂環構造を有する重合体からなる層（Ｂ層）、熱可塑性樹脂からなる層（Ａ層）、接着剤層であり、エチレン、スチレン等を含む共重合体からなる層（Ｃ層）を用意し、Ｂ層−Ｃ層−Ａ層−Ｃ層−Ｂ層が順次積層された光学積層体を作製した。

Ａ層としては、スチレン−マレイン酸共重合体を使用した。Ｂ層としては、ノルボルネン重合体を使用した。Ｃ層としては、変性したエチレン−酢酸ビニル共重合体からなる接着剤層を使用した。以上のＡ層、Ｂ層、Ｃ層を使用して、Ｂ層（５０μｍ）−Ｃ層（１０μｍ）−Ａ層（２００μｍ）−Ｃ層（１０μｍ）−Ｂ層（５０μｍ）の未延伸光学積層体を共押出し成形により得た。なお、光学積層体の幅は、６００ｍｍとした。

干渉光測定装置としては、反射光の干渉を利用する、大塚電子（株）製の膜厚測定システムＭＣＰＤシリーズ（ＭＣＰＤ検出器と光ファイバーの組み合わせ）を使用した。また、カバープレートは、図６に示した形状のカバープレートを光学積層体の上面及び下面に設置した。光学積層体と上下カバープレート１１，１２との距離は２０ｍｍとし、開口部１７は全幅５ｍｍで、干渉光測定装置の測定部（開口部１７）における流れ方向の前後４００ｍｍを覆った。なお、入口カバープレート、出口カバープレート及び側部カバープレートは、使用しなかった。

上記のようにして作製した光学積層体を図１に示す膜厚測定システム１に導き、第１駆動ロール６及び第３回転ロール５、第１回転ロール３、第２回転ロール４及び第２駆動ロール８に向けて光学積層体を走行させた。光学積層体の走行が安定した状態で、カバープレート１１，１２を光学積層体の上面及び下面に固定し、干渉光測定装置により光学積層体の膜厚を測定した。

干渉光測定装置により得られた干渉波形を、図１０に示す。この干渉波形を図２に示すデータ解析部３０でフーリエ解析することにより、図１１に示す光学積層体の光学膜厚のピークＡ〜Ｆが得られた。なお、使用した光学積層体は、最も外側のＢ層同士の厚みが同一であり、Ｂ層及びＡ層間のＣ層同士も厚みが同一である。また、光学膜厚は、公路長（厚み）×屈折率により求められる。
図１１における各ピークに基づいて、各層の厚みは次のようにして求めることができる。

・Ｂ層（Ｂ１層）：（ピークＢ）から求める。
・Ｃ層（Ｃ１層）：（ピークＣ）−（ピークＢ）、又は（ピークＤ）−（ピークＢ）−（ピークＡ）から求める。
・Ａ層：（ピークＡ）、又は（ピークＤ）−（ピークＣ）から求める。
・Ｃ層（Ｃ２層）：（ピークＥ）−（ピークＣ）−（ピークＡ）から求める。
・Ｂ層（Ｂ２層）：（ピークＦ）−（ピークＥ）から求める。
・総膜厚：（ピークＦ）から求める。

なお、実施例ではＢ層及びＣ層が同じ厚みの光学積層体を使用したが、上記のようにして計算からＢ１層、Ｂ２層、Ｃ１層、Ｃ２層のように、別々の層として計算から求めることができる。また、Ｂ層及びＣ層の厚みがそれぞれ異なった場合には、ピークを分離するために各層毎に別々に検出することもできる。

さらに、干渉光測定装置を光学積層体の走行方向に対して垂直な方向（幅方向）に走査させ、光学積層体の幅方向の干渉波形を求め、上記と同様にフーリエ解析を行い、光学積層体の幅方向における各層の厚みを求めた。結果を図１２〜図１５に示す。図１２は光学積層体の総厚み、図１３はＡ層の厚み、図１４はＢ層の厚み、図１５はＣ層の厚みをそれぞれ示している。

図１２〜図１５から明らかなように、各層の厚みを光学積層体の幅方向に求めることができた。なお、図１４では、２層のＢ層（Ｂ１層及びＢ２層）それぞれについて、光学積層体の幅方向について膜厚を求めることができた。同様に、図１５では、２層のＣ層（Ｃ１層及びＣ２層）それぞれについて、光学積層体の幅方向について膜厚を求めることができた。

（比較例）
実施例と同一の原料を使用し、実施例と同一の条件により作製した光学積層体を使用した。カバープレートを使用しない点を除き、実施例と同一の膜厚測定システム１を使用して、膜厚の測定を行った。干渉光測定装置も実施例と同じ装置を使用し、光学積層体の膜厚を測定した。

干渉光測定装置により得られた干渉波形を、図１６に示す。この干渉波形を図２に示すデータ解析部３０でフーリエ解析することにより、図１７に示す線図が得られた。実施例の場合には、光学積層体の光学膜厚のピークが得られたが、この比較例では膜厚に対応するピークが得られなかった。

さらに、干渉光測定装置を光学積層体の走行方向に対して垂直な方向（幅方向）に走査させ、光学積層体の幅方向の干渉波形を求め、上記と同様にフーリエ解析を行い、光学積層体の幅方向における各層の厚みを求めた。結果を図１８〜図２１に示す。図１８は光学積層体の総厚み、図１９はＡ層の厚み、図２０はＢ層の厚み、図２１はＣ層の厚みをそれぞれ示している。

図１９では、図中、Ｋ，Ｌ，Ｍで示すノイズ状のピークが計測され、光学積層体の幅方向で膜厚の測定を行えない箇所が生じた。また、図２０及び図２１においても、Ｎ，Ｏ，Ｐ，Ｑ，Ｒ，Ｓ，Ｔ，Ｕで示すノイズ状のピークが計測され、光学積層体の幅方向で膜厚の測定を行えない箇所が生じた。

以上のように、本発明にかかるシート状光学積層体の膜厚測定システム及び膜厚測定方法は、走行しているシート状の光学積層体に光を照射してその干渉光を干渉光測定装置で計測する際に、光学積層体の上面及び下面の少なくとも一部をカバープレートで覆うことにより、光学積層体の走行に伴う空気の乱流を抑制して光学積層体の振動を防止し、確実にかつ精度良くシート状光学積層体の膜厚を測定することができるので、高精度にピントを合わせて行う光学的計測、例えば膜厚測定や欠陥検査機器等に有用であり、特に、干渉光測定装置を利用したシート状光学積層体の膜厚測定に適している。

本発明の一実施の形態によるシート状光学積層体の膜厚測定システムを示す概略斜視図である。 本発明の一実施の形態によるシート状光学積層体の膜厚測定システム及び膜厚測定方法を説明する模式図である。 第１回転ロール近傍にカバープレートが設置された状態を示す要部概略断面図である。 第１回転ロール近傍で光学積層体の上下面にカバープレートが設置された状態を示す要部概略断面図である。 カバープレートを示す平面図である。 カバープレートを示す平面図である。 穴形成部を有するカバープレートを示す平面図である。 第１回転ロール近傍に、穴形成部を有するカバープレートが設置された状態を示す要部概略断面図である。 カバープレートを示す平面図である。 実施例において干渉光測定装置により得られた干渉波形を示す線図である。 実施例において干渉波形をフーリエ解析して得られた線図である。 実施例において得られた、幅方向と光学積層体の総厚みとの関係を示す線図である。 実施例において得られた、幅方向とＡ層の厚みとの関係を示す線図である。 実施例において得られた、幅方向とＢ層の厚みとの関係を示す線図である。 実施例において得られた、幅方向とＣ層の厚みとの関係を示す線図である。 比較例において干渉光測定装置により得られた干渉波形を示す線図である。 比較例において干渉波形をフーリエ解析して得られた線図である。 比較例において得られた、幅方向と光学積層体の総厚みとの関係を示す線図である。 比較例において得られた、幅方向とＡ層の厚みとの関係を示す線図である。 比較例において得られた、幅方向とＢ層の厚みとの関係を示す線図である。 比較例において得られた、幅方向とＣ層の厚みとの関係を示す線図である。

符号の説明

１ 膜厚測定システム
２ 光学積層体
２ａ，２ｂ 乱流
３ 第１回転ロール
４ 第２回転ロール
５ 第３回転ロール
６ 第１駆動ロール
７ 第４回転ロール
８ 第２駆動ロール
１０ 干渉光測定装置
１１，１２ カバープレート
１３，１４ 側部カバープレート
１５ 入口カバープレート
１６，１７，１９ 開口部
１８ａ，１８ｂ、１８ｃ、１８ｄ 穴形成部
２０ 押出機
２１ 金型
２３，２４ 回転ロール
２５ 保護フィルムロール
２６ トリミング装置
２７ 巻き取りロール
３０ データ解析部
３１ 膜厚制御部

Claims (5)

1. 干渉光測定装置を使用して、走行しているシート状の光学積層体の膜厚を測定する膜厚測定システムであって、
   シート状の光学積層体がその上を走行するように前記光学積層体を回転自在に支持する一対の平行に配置された回転ロールと、
   前記回転ロール間で、前記光学積層体の走行方向に対して垂直な側部方向に走査しながら、前記光学積層体に光を照射してその干渉光を計測する干渉光測定装置と、
   前記回転ロールの一方の近傍から他方の回転ロール近傍に延びる前記光学積層体の上面及び下面の少なくとも一部を覆うと共に、前記干渉光測定装置の光照射及び干渉光計測を行う計測点近傍が開口されているカバープレートと
   を備えることを特徴とするシート状光学積層体の膜厚測定システム。
2. 前記回転ロールの一方の側部近傍から前記他方の回転ロールの一方の側部近傍に延びる側部カバープレートを、前記回転ロールの少なくとも一方の側部にさらに備えることを特徴とする請求項１に記載のシート状光学積層体の膜厚測定システム。
3. 前記光学積層体の入口側に配置される前記回転ロールの一方の近傍を覆いかつ前記光学積層体の上流方向に向かって延びる入口カバープレートと、前記光学積層体の出口側に配置される前記他方の回転ロール近傍を覆いかつ前記光学積層体の下流方向に向かって延びる出口カバープレートとの少なくとも一方をさらに備えることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載のシート状光学積層体の膜厚測定システム。
4. 前記光学積層体の入口側に配置された前記回転ロールの一方の上流側に配置される第１駆動ロールと、前記光学積層体の出口側に配置された前記他方の回転ロールの下流側に配置される第２駆動ロールとの少なくとも一方をさらに備えることを特徴とする請求項１から請求項３のうち、いずれか１項に記載のシート状光学積層体の膜厚測定システム。
5. 干渉光測定装置を使用して、走行しているシート状の光学積層体の膜厚を測定する膜厚測定方法であって、
   一対の平行に配置された回転ロール上でシート状の光学積層体を走行させ、
   前記回転ロール間で、前記光学積層体の走行方向に対して垂直な側部方向に走査しながら、前記光学積層体に光を照射してその干渉光を干渉光測定装置で計測する際に、前記回転ロールの一方の近傍から他方の回転ロール近傍に延びる前記光学積層体の上面及び下面の少なくとも一部を覆うと共に、前記干渉光測定装置の光照射及び干渉光計測を行う計測点近傍が開口されているカバープレートを使用し、
   前記干渉光測定装置の計測結果に基づいて、前記光学積層体の膜厚を求めることを特徴とするシート状光学積層体の膜厚測定方法。

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