JP4851700B2 - 真空成膜装置用部品及び真空成膜装置 - Google Patents
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Description
前記溶射被膜は、平均粒子サイズが5μm以上、150μm以下の扁平形状とは異なる形状の粒子が堆積した層構造を有し、下記(1)式で表される密度が75%以上、99%以下であり、
前記粒子は、扁平比率(Y/X)が0.25以上、1.5以下の範囲である(但し、Xは前記溶射被膜を膜厚方向に切断した断面における前記粒子の前記部品本体の前記表面と平行な最小又は最大長さ、YはXと直交する方向の長さである)ことを特徴とするものである。
密度(%)={(S 1 −S 2 )/S 1 }×100 (1)
但し、S 1 は、前記溶射被膜の膜厚方向に切断した断面組織を光学顕微鏡で倍率500倍で観察した際の縦210μm、横270μmの視野の面積(μm 2 )で、S 2 は前記視野内における空孔の合計面積(μm 2 )である。
前記真空容器内に配置される被成膜基板保持部と、
前記真空容器内に前記被成膜基板保持部と対向して配置される成膜源と、
前記真空容器内に配置され、前記成膜源を保持する成膜源保持部と、
前記真空容器内の前記被成膜基板保持部と前記成膜源保持部の間に配置された防着部品とを具備する真空成膜装置であって、
前記被成膜基板保持部、前記成膜源保持部及び前記防着部品から選択される少なくとも一種類の部材が、前記真空成膜装置用部品から形成されていることを特徴とするものである。
以下、本発明の実施例を詳細に説明する。
まず、前述した図21に示す構造を有するスパッタリング装置のアースシールド、上部防着板、下部防着板およびプラテンリングについて、プラズマ溶射法により、溶射粉末の平均粒径が25μmの場合に電流300A、電圧32V、Arガス流量/圧力を100/150に設定し、また溶射粉末の平均粒径が75μmおよび83μmの場合に電流450A、電圧38V、Arガス流量/圧力を100/150に設定し、膜厚250μm一定として、下記表1に示す平均粒径のCu−Al粉末材料あるいはAl−Si粉末材料により溶射被膜を施した後、アニールおよび脱ガス処理として3×10-2Pa以下の真空雰囲気中にて350℃で3時間の条件で熱処理を施し、試料No.1〜5,8〜14,17〜21の真空成膜装置用部品を得た。
実施例1で説明したのと同様なアースシールド、上部防着板、下部防着板およびプラテンリングについて、プラズマ溶射法により電流500〜600A、電圧65V、Arガス流量/圧力を75/80に設定し、膜厚250μm一定として、下記表1に示す平均粒径のCu−Al粉末材料あるいはAl−Si粉末材料により溶射被膜を施した後、アニールおよび脱ガス処理として3×10-2Pa以下の真空雰囲気中にて350℃で3時間の条件で熱処理を施し、試料No.6〜7,15〜16,22〜23の真空成膜装置用部品を得た。
溶射被膜の膜厚方向に切断した断面組織を光学顕微鏡で倍率500倍で観察し、縦210μm、横270μmの視野で空孔の面積を測定し、下記(1)式から密度(%)として換算し、視野10箇所の平均値を密度として下記表1に示す。
但し、S1は縦210μm、横270μmの視野面積(μm2)で、S2は縦210μm、横270μmの視野内における空孔の合計面積(μm2)である。
溶射被膜の膜厚方向に切断した断面組織を光学顕微鏡で倍率500倍で観察し、縦210μm、横270μmの視野内の粒子それぞれについて、前述した図20において説明した扁平比率(Y/X)を算出した。なお、一部のみが視野内に現れている粒子については測定対象から除外し、全体像が確認できる粒子のみを測定対象とした。このような測定を10視野について行なった。得られた測定結果から扁平比率(Y/X)が0.25以上の粒子を選択して平均値を算出し、その結果を下記表1に示す。
JIS B 0601−1994で規定する算術平均粗さを表面粗さRaとした。
実施例1で説明したのと同様なアースシールド、上部防着板、下部防着板およびプラテンリングについて、超高速フレーム溶射法により、燃焼ガスであるアセチレンの供給量を30L/minとし、酸素ガスの供給量を15L/minとし、膜厚250μm一定として、下記表2に示す平均粒径のTi粉末材料により溶射被膜を施した後、アニールおよび脱ガス処理として3×10-2Pa以下の真空雰囲気中にて350℃で3時間の条件で熱処理を施し、試料No.24〜27の真空成膜装置用部品を得た。
実施例1で説明したのと同様なアースシールド、上部防着板、下部防着板およびプラテンリングについて、超高速フレーム溶射法により、燃焼ガスであるアセチレンの供給量を20L/minとし、酸素ガスの供給量を50L/minとし、膜厚250μm一定として、下記表2に示す平均粒径のTi粉末材料により溶射被膜を施した後、アニールおよび脱ガス処理として3×10-2Pa以下の真空雰囲気中にて350℃で3時間の条件で熱処理を施し、試料No.28〜29の真空成膜装置用部品を得た。
Claims (5)
- 部品本体と、前記部品本体の表面に形成された溶射被膜とを具備する真空成膜装置用部品であって、
前記溶射被膜は、平均粒子サイズが5μm以上、150μm以下の扁平形状とは異なる形状の粒子が堆積した層構造を有し、下記(1)式で表される密度が75%以上、99%以下であり、
前記粒子は、扁平比率(Y/X)が0.25以上、1.5以下の範囲である(但し、Xは前記溶射被膜を膜厚方向に切断した断面における前記粒子の前記部品本体の前記表面と平行な最小又は最大長さ、YはXと直交する方向の長さである)ことを特徴とする真空成膜装置用部品。
密度(%)={(S 1 −S 2 )/S 1 }×100 (1)
但し、S 1 は、前記溶射被膜の膜厚方向に切断した断面組織を光学顕微鏡で倍率500倍で観察した際の縦210μm、横270μmの視野の面積(μm 2 )で、S 2 は前記視野内における空孔の合計面積(μm 2 )である。 - 前記粒子は、球状か、楕円状の断面を有することを特徴とする請求項1記載の真空成膜装置用部品。
- 前記溶射被膜の膜厚方向の断面0.0567mm2当りに前記粒子が2個以上存在していることを特徴とする請求項1または2記載の真空成膜装置用部品。
- 前記溶射被膜の表面粗さが平均粗さRaで5μm以上、32μm以下の範囲であることを特徴とする請求項1〜3いずれか1項記載の真空成膜装置用部品。
- 真空容器と、
前記真空容器内に配置される被成膜基板保持部と、
前記真空容器内に前記被成膜基板保持部と対向して配置される成膜源と、
前記真空容器内に配置され、前記成膜源を保持する成膜源保持部と、
前記真空容器内の前記被成膜基板保持部と前記成膜源保持部の間に配置された防着部品とを具備する真空成膜装置であって、
前記被成膜基板保持部、前記成膜源保持部及び前記防着部品から選択される少なくとも一種類が、請求項1〜4いずれか1項記載の真空成膜装置用部品から形成されていることを特徴とする真空成膜装置。
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