JP4848666B2 - 酸化物半導体電極用転写材、色素増感型太陽電池用基材、色素増感型太陽電池、及びそれらの製造方法 - Google Patents
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Description
図1〜図4は、本発明の酸化物半導体電極用転写材の例を示す模式断面図である。本発明の酸化物半導体電極用転写材10A〜10Dは、耐熱基板1上に、大粒径の酸化物半導体粒子2aの焼結体又は大粒径の酸化物半導体粒子2aと小粒径の酸化物半導体粒子2bが混合した焼結体からなる介在層2と、小粒径の酸化物半導体粒子2bの焼結体からなる酸化物半導体層2Bとで構成される多孔質層2を少なくとも有している。なお、図1〜図4においては、便宜上、大粒径の酸化物半導体粒子2a及び小粒径の酸化物半導体粒子2bそれぞれへのハッチングの付与を省略している。さらに、便宜上、酸化物半導体粒子を整列させて記載しているが、必ずしも図示のようには整列していない。
耐熱基材1は、多孔質層2を形成する際の焼成条件下で変形や化学変化が生じないだけの耐熱性を有していることが好ましく、その材料としては、ガラス、セラミックス、金属等が挙げられる。耐熱基材1に求められる耐熱性は、多孔質層2の材料として用いる大粒径の酸化物半導体粒子2a及び小粒径の酸化物半導体粒子2bそれぞれの組成に応じて異なるので、耐熱基材1として何を用いるかは、多孔質層2の材料に応じて上記材料の中から適宜選択される。例えば、大粒径の酸化物半導体粒子2a及び小粒径の酸化物半導体粒子2bとして酸化チタン粒子を用いた場合、酸化チタン粒子の焼結は500℃前後で行われるので、こうした条件下で変形や化学変化が生じないものが耐熱基材1として用いられる。なお、耐熱基材1の厚さは特に限定されず、その形態としては、板状、シート状、フィルム状等、適宜選択可能である。
多孔質層2は、大粒径の酸化物半導体粒子2aの焼結体又は大粒径の酸化物半導体粒子2aと小粒径の酸化物半導体粒子2bが混合した焼結体からなる介在層2Aと、小粒径の酸化物半導体粒子2bの焼結体からなる酸化物半導体層2Bとを有するものである。介在層2Aと酸化物半導体層2Bとが焼結体である否かは、通常の方法に従うことができ、例えば、顕微鏡で粒子の粒界を観察すること等により判断することができる。
透明導電層3は、必要に応じて多孔質層2上に形成される。透明導電層3は、例えば、酸化スズ、酸化アンチモン、酸化インジウムスズ(ITO)、アンチモンドープ酸化スズ(ATO)等の無機透明導電性材料を、真空蒸着法、スパッタリング法及びイオンプレーティング法等の物理的気相蒸着法(PVD)、化学的気相蒸着法(CVD)、スプレー法等により形成される。透明導電層3の厚さは、通常、50〜1000nmの範囲内である。
導電性の接着層4は、(1)透明導電層3が酸化物半導体電極用転写材に形成されておらず、被転写材に形成されている場合や、(2)透明導電層3が酸化物半導体電極用転写材と被転写材の両方に形成されている場合のように、少なくとも被転写材に形成されている場合に、多孔質層2上又は被転写材の透明導電層上に形成される。
接着層5は、上記の導電性の接着層4とは異なり、導電性があってもなくてもよい透明な接着層である。したがって、この接着層5は、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、紫外線硬化樹脂等からなり、電解質に対する耐性を有するものであれば使用することができる。上記のような導電微粒子は、含有されていても含有されていなくてもよい。
次に、酸化物半導体電極用転写材の製造方法について説明する。本発明の酸化物半導体電極用転写材10の製造方法は、耐熱基板1上に大粒径の酸化物半導体粒子2a又は大粒径/小粒径混合の酸化物半導体粒子2a,2bとバインダー樹脂とを含有する介在層形成用塗工液を塗布し、乾燥させて、介在層形成用層を形成する工程と、介在層形成用層上に小粒径の酸化物半導体粒子2bとバインダー樹脂とを含有する酸化物半導体層形成用塗工液を塗布し、乾燥させて、酸化物半導体層形成用層を形成する工程と、介在層形成用層と酸化物半導体形成用層とを焼成して、介在層2Aと酸化物半導体層2Bとからなる多孔質層2を形成する工程と、を少なくとも有することを特徴とする。
次に、本発明の色素増感型太陽電池用基材について説明する。図5〜図8は、本発明の色素増感型太陽電池用基材の例を示す模式断面図である。本発明の色素増感型太陽電池用基材20A〜20Dは、図5〜図8に示すように、透明樹脂フィルム7と、透明導電層3と、酸化物半導体粒子2a,2bの焼結体からなる多孔質層2とがこの順で積層されている色素増感型太陽電池用基材である。そして、多孔質層2が、透明導電層3側から、小粒径の酸化物半導体粒子2bの焼結体からなる酸化物半導体層2Bと、大粒径の又は大粒径/小粒径混合の酸化物半導体粒子の焼結体からなる介在層2Aとを有している。なお、ここでいう色素増感型太陽電池用基材の技術的範囲は、多孔質層2を構成する酸化物半導体粒子2a,2bの表面に増感色素6が担持されている場合と担持されていない場合とを包含する。
透明樹脂フィルム7は、可撓性の高い色素増感型太陽電池用基材を得るために必要な基材であり、この透明樹脂フィルム7としては、耐熱性、耐光性、耐候性、ガスバリア性等に優れたものを用いることが好ましく、そうした特性を満たす二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム、エチレン・テトラフルオロエチレン共重合体フィルム、ポリエーテルサルフォンフィルム、ポリエーテルエーテルケトンフィルム、ポリエーテルイミドフィルム、ポリイミドフィルム、ポリエステルナフタレートフィルム、ポリカーボネート等、種々の透明樹脂フィルムを用いることができる。
増感色素6は、多孔質層2を構成する酸化物半導体粒子2a,2bの表面に担持されて光吸収能を向上させるものである。図5及び図6においては、便宜上、増感色素6を介在層2上に形成された1つの層のように描いているが、実際には、介在層2Aを構成する大粒径の酸化物半導体微粒子2a又は大粒径/小粒径混合の酸化物半導体微粒子2a,2bの表面、及び、酸化物半導体層2Bを構成する小粒径の酸化物半導体粒子2bの表面にそれぞれ担持されている。
図5〜図8に示す本発明の色素増感型太陽電池用基材の他の構成要素である、多孔質層2(介在層2、酸化物半導体層2B)、透明導電層3、導電性の接着層4、接着層5、耐熱基材1については、酸化物半導体電極用転写材の欄で説明した通りであるので、ここではその記載を省略する。
次に、本発明の色素増感型太陽電池用基材の製造方法について説明する。本発明の色素増感型太陽電池用基材の製造方法は、製造しようとする形態に応じて以下の4つの形態に大別できる。なお、以下で示す符号は、上記の酸化物半導体電極用転写材及び色素増感型太陽電池用基材で説明したものを使用している。
図9は、本発明の色素増感型太陽電池の一例を示す模式断面図である。本発明の色素増感型太陽電池30は、図5及び図6に記載の色素増感型太陽電池用基材(20A,20B)と、電極層33を有した色素増感型太陽電池用対向基材31とが、電解質層34を介して対向配置されてなるものである。なお、図9示す色素増感型太陽電池30は、図5に示す色素増感型太陽電池用基材20Aを用いた例であり、また、符号35は電解質層34を封止する封止材である。
<介在層形成用層の形成>
介在層形成用塗工液として、一次粒径200nmのTiO2微粒子(石原産業製ST41)5重量%、主成分がポリメチルメタクリレートであるアクリル樹脂(分子量25000、ガラス転移温度105℃)(三菱レーヨン社製BR87)9.1重量%となるように、先ず、ホモジナイザーを用いてメチルエチルケトン及びトルエンにアクリル樹脂を溶解させた後、その溶液にTiO2微粒子を分散させることにより介在層形成用塗工液を作製した。この塗工液を耐熱基板として用意した無アルカリガラス基板(厚さ0.7mm)上に、ワイヤーバーにて0.8μmの厚さになるように塗工し、乾燥させた。
酸化物半導体層形成用塗工液として、一次粒径20nmのTiO2微粒子(日本アエロジル社製P25)37.5重量%、アセチルアセトン1.25重量%、ポリエチレングリコール(平均分子量3000)1.88重量%となるように、ホモジナイザーを用いて水及びイソプロピルアルコールに溶解及び分散させてスラリーを作製した。上記介在層形成用層が形成された基板上に、ドクターブレードにて前記スラリーを塗布後、室温下にて20分放置し、さらのその後、100℃、30分間乾燥させた。その後、電気マッフル炉(デンケン社製P90)を用いて500℃、30分間、大気圧雰囲気下にて焼成した。これにより、多孔質層として形成された介在層及び酸化物半導体層を得た。このとき介在層と酸化物半導体層の総厚さは13μmであった。また、焼成により介在層中にアクリル樹脂が残存していないこと及び酸化物半導体層中にポリエチレングリコールが残存していないことを光電子分光法により確認できた。したがって、焼成を行うことによってアクリル樹脂及びポリエチレングリコールは熱分解され除去することができた。またこのときガラス基板上に介在層及び酸化物半導体層は剥離することなく良好に形成されていた。
基板上に介在層及び酸化物半導体層を形成した後、イオンプレーティング法により厚さ200nmとなるように透明導電層であるITO膜を形成した。このときのITO膜の表面抵抗は10Ω/□であった。以上のようにして、酸化物半導体電極用転写材を作製した。
被転写材としては、透明樹脂フィルムとして用意したポリエチレンテレフタレートフィルム(東洋紡社製、E5100、厚さ188μm)上にアイオノマー樹脂からなる熱融着性フィルムのサーリン(デュポン社製、厚さ50μm)を重ねたものを準備した。熱融着性フィルムを上にして、その上に、ITO膜側が対向するようにして上記酸化物半導体電極用転写材を載せた後、真空ラミネーターにより120℃、20分間圧着させて転写した。こうした転写工程により、ポリエチレンテレフタレートフィルム基材上に、ITO膜、酸化物半導体層及び介在層の順で積層されてなる色素増感型太陽電池用基材を作製した。その後、介在層及び酸化物半導体層を1cm×1cmのサイズにトリミングした。
増感色素であるルテニウム錯体(小島化学株式会社RuL2(NCS)2)を無水エタノール溶液に濃度3×10−4mol/lとなるように溶解させ、増感色素が溶解した増感色素溶液を得た。
得られた増感色素溶液中に色素増感型太陽電池用基材を浸漬し、攪拌下にて40℃、3時間の条件にて放置した。このようにして増感色素を吸着させた色素増感型太陽電池用基材を作製した。
電解質層を形成する電解質溶液として、メトキシアセトニトリルを溶媒とし、濃度0.1mol/lのヨウ化リチウム、濃度0.05mol/lのヨウ素、濃度0.3mol/lのジメチルプロピルイミダゾリウムアイオダイド、濃度0.5mol/lのターシャリーブチルピリジンを溶解させたものを調整した。
上記色素増感型太陽電池用基材と、予め準備した色素増感型太陽電池用対向基材とを厚さ20μmのサーリンをスペーサとして貼り合せ、その間に電解質溶液を含浸させたものを色素増感型太陽電池素子とした。色素増感型太陽電池用対向基材としては、表面抵抗7Ω/□である、ITOスパッタ層を有するフィルム基材上(トービ製、製品名OTEC−070)に厚さ50nmの白金膜をスパッタリングにて付与したものを用いた。
作製した色素増感型太陽電池素子の評価は、AM1.5、擬似太陽光(入射光強度100mW/cm2)を光源として、増感色素を吸着させた酸化物半導体層を有する色素増感型太陽電池用基材側から入射させ、ソースメジャーユニット(ケースレー2400型)にて電圧印加により電流電圧特性を測定した。その結果、短絡電流14.1mA/cm2、開放電圧0.68V、変換効率5.2%であった。
上記実施例1における透明導電層の形成において、次の手法により透明導電層を形成した以外は、実施例1と同様にして色素増感型太陽電池を作製した。この実施例2における透明導電層の形成方法としては、耐熱基材上に介在層及び酸化物半導体層を形成した後、塩化インジウムと塩化スズをスズ/インジウム=5/100のモル比になるようにエタノールに溶解させた溶液を用いて、先に介在層及び酸化物半導体層を形成した基材を350℃のホットプレートに設置したのち、30分間スプレーコーティングすることにより厚さ500nm、表面抵抗10Ω/□の透明導電層を形成した。それ以外は実施例1と同様に色素増感型太陽電池を作製したところ、短絡電流14.4mA/cm2、開放電圧0.68mV、変換効率5.4%であった。
上記実施例1における介在層形成用層の形成において、介在層の厚さを5μmとし、介在層及び酸化物半導体層の総厚を13μmになるようにした以外は、実施例1と同様に色素増感型太陽電池を作製した。ただし、このとき、転写工程後においては、耐熱基板であるガラス基材上に介在層が約1μm厚程度残存していた。以下、実施例1と同様に色素増感型太陽電池を作製したところ、短絡電流15.1mA/cm2、開放電圧0.66mV、変換効率5.7%であった。
実施例1で作製される酸化物半導体電極用転写材に介在層を設けない以外は、上記実施例1と同様にして色素増感型太陽電池を作製した。この場合、耐熱基板として用意した無アルカリガラス基板と酸化物半導体層とが強固に密着してしまい、熱融着性樹脂によって被転写材であるフィルム基材上へ転写させることはできなかった。
実施例1で作製される酸化物半導体電極用転写材において、介在層として樹脂を全く含まないものとした以外は、上記実施例1と同様にして色素増感型太陽電池を製造した。製造中、介在層形成用塗工液を塗布した際に膜にならず、耐熱基板として用意した無アルカリガラス基板との密着性がなく、電池の作製ができなかった。
実施例1で作製される酸化物半導体電極用転写材において、介在層としてTiO2を含まないものとし、さらに、BR87を9.1重量%とした介在層形成塗工液を用いて介在層形成用層を形成した以外は、上記実施例1と同様にして色素増感型太陽電池を作製した。この場合、焼成後の酸化物半導体層と耐熱基板として用意した無アルカリガラス基板との密着性がなく、次の工程に移行することができなかった。
上記実施例1における介在層形成用層の形成において、用いるTiO2微粒子をP25として含有量を5重量%、アクリル樹脂BR87の含有量を5重量%となるように塗工液を形成したこと以外は、実施例1と同様にして色素増感型太陽電池を作製した。その結果、短絡電流13.5mA/cm2、開放電圧670mV、変換効率5.2%であった。
2 多孔質層
2A 介在層
2B 酸化物半導体層
2a 大粒径の酸化物半導体粒子
2b 小粒径の酸化物半導体粒子
3 透明導電層
4 導電性の接着層
5 接着層
6 増感色素
7 透明樹脂フィルム
10A,10B,10C,10D 酸化物半導体電極用転写材
20A,20B,20C,20D 色素増感型太陽電池用基材
30 色素増感型太陽電池
31 色素増感型太陽電池用対向基材
32 基材
33 電極層
34 電解質層
35 封止材
36 リード線
37 負荷
Claims (15)
- 耐熱基板上に、酸化物半導体粒子の焼結体からなる多孔質層及び導電性の接着層がこの順で形成されている酸化物半導体電極用転写材であって、
前記多孔質層が、前記耐熱基板側から、大粒径の酸化物半導体粒子の焼結体又は大粒径の酸化物半導体粒子と小粒径の酸化物半導体粒子が混合した焼結体からなる介在層と、小粒径の酸化物半導体粒子の焼結体からなる酸化物半導体層とを有することを特徴とする酸化物半導体電極用転写材。 - 前記酸化物半導体電極用転写材を用いて色素増感型太陽電池を作製したとき、前記導電性の接着層が、該色素増感型太陽電池で用いられる電解質に対して耐食性を有することを特徴とする請求項1に記載の酸化物半導体電極用転写材。
- 前記多孔質層と前記導電性の接着層との間に、透明導電層が形成されていることを特徴とする請求項1に記載の酸化物半導体電極用転写材。
- 透明樹脂フィルムと、透明導電層と、透明樹脂中に導電性微粒子を分散させた導電性の接着層と、酸化物半導体粒子の焼結体からなる多孔質層とがこの順で積層されている色素増感型太陽電池用基材であって、
前記多孔質層が、前記透明導電層側から、小粒径の酸化物半導体粒子の焼結体からなる酸化物半導体層と、大粒径の酸化物半導体粒子の焼結体又は大粒径の酸化物半導体粒子と小粒径の酸化物半導体粒子が混合した焼結体からなる介在層とを有することを特徴とする色素増感型太陽電池用基材。 - 前記酸化物半導体粒子の表面に増感色素が担持されていることを特徴とする請求項4に記載の色素増感型太陽電池用基材。
- 透明樹脂フィルムと、透明導電層と、透明樹脂中に導電性微粒子を分散させた導電性の接着層と、酸化物半導体粒子の焼結体からなる多孔質層とがこの順で積層され、当該多孔質層上に耐熱基板が設けられている色素増感型太陽電池用基材であって、
前記多孔質層が、前記透明導電層側から、小粒径の酸化物半導体粒子の焼結体からなる酸化物半導体層と、大粒径の酸化物半導体粒子の焼結体又は大粒径の酸化物半導体粒子と小粒径の酸化物半導体粒子が混合した焼結体からなる介在層とを有することを特徴とする色素増感型太陽電池用基材。 - 前記透明樹脂フィルムと前記透明導電層との間に、接着層が設けられていることを特徴とする請求項4〜6のいずれか1項に記載の色素増感型太陽電池用基材。
- 前記色素増感型太陽電池用基材を用いて色素増感型太陽電池を作製したとき、前記透明樹脂中に導電性微粒子を分散させた導電性の接着層が、色素増感型太陽電池で用いられる電解質に対して耐食性を有することを特徴とする請求項4〜7のいずれか1項に記載の色素増感型太陽電池用基材。
- 前記多孔質層と前記透明樹脂中に導電性微粒子を分散させた導電性の接着層との間に、透明導電層が設けられていることを特徴とする請求項4〜6のいずれか1項に記載の色素増感型太陽電池用基材。
- 請求項4〜9に記載の色素増感型太陽電池用基材と電極層を有した色素増感型太陽電池用対向基材とが、電解質層を介して対向配置されていることを特徴とする色素増感型太陽電池。
- 耐熱基板上に大粒径の酸化物半導体粒子又は大粒径/小粒径が混合した酸化物半導体粒子とバインダー樹脂とを含有する介在層形成用塗工液を塗布し、乾燥させて、介在層形成用層を形成する工程と、
前記介在層形成用層上に小粒径の酸化物半導体粒子とバインダー樹脂とを含有する酸化物半導体層形成用塗工液を塗布し、乾燥させて、酸化物半導体層形成用層を形成する工程と、
前記介在層形成用層と前記酸化物半導体形成用層とを焼成して、介在層と酸化物半導体層とからなる多孔質層を形成する工程と、
前記多孔質層上に導電性の接着層を形成する工程と、を少なくとも有することを特徴とする酸化物半導体電極用転写材の製造方法。 - 前記多孔質層を形成する工程後であって、前記導電性の接着層を形成する工程前に、該多孔質層上に透明導電層を形成する工程を有することを特徴とする請求項11に記載の酸化物半導体電極用転写材の製造方法。
- 請求項1に記載の酸化物半導体電極用転写材を準備する転写材準備工程と、
透明樹脂フィルム上に透明導電層が設けられた被転写材を準備する被転写材準備工程と、
前記酸化物半導体電極用転写材が有する導電性の接着層と前記被転写材が有する透明導電層とを接合する接合工程と、を有することを特徴とする色素増感型太陽電池用基材の製造方法。 - 請求項3に記載の酸化物半導体電極用転写材を準備する転写材準備工程と、
透明樹脂フィルムを被転写材として準備する被転写材準備工程と、
前記酸化物半導体電極用転写材が有する導電性の接着層と前記被転写材とを接合する接合工程と、を有することを特徴とする色素増感型太陽電池用基材の製造方法。 - 前記接合工程後に、前記酸化物半導体電極用転写材が有する耐熱基板を剥離する剥離工程をさらに有することを特徴とする請求項13又は14に記載の色素増感型太陽電池用基材の製造方法。
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